Спосіб усунення щонайменше однієї пошкодженої ділянки при виготовленні виробів, які містять елементи з дерева

1. Спосіб усунення щонайменше однієї пошкодженої ділянки при виготовленні виробів, які містять елементи з дерева, який включає наступні стадії, на яких здійснюють: - заповнення принаймні однієї пошкодженої ділянки в деревному матеріалі, який переважно не містить покривний шар, за допомогою композиції, що твердне під дією випромінювання, - розміщення проникного для випромінювання шару принаймні над однією вказаною пошкодженою ділянкою, яка заповнена композицією, що твердне під дією випромінювання, - тверднення композиції, що твердне під дією випромінювання, на принаймні одній вказаній пошкодженій ділянці під дією випромінювання крізь проникний для випромінювання шар, і - видалення проникного для випромінювання шару. 2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що композицію, що твердне під дією випромінювання, C2 2 UA 1 3 виробництві виробів, які містять елементи з дерева, наприклад, з масиву дерева з покривним шаром, дерев'яних дошок з покривним шаром, паркетних дошок і облицьованих шпоном виробів. Пошкодження може існувати в деревині раніше, ніж деревина знайде застосування або буде піддана переробці, а іноді пошкодження виникає в процесі виробництва. Наприклад, сучки можуть випадати при розпилюванні або ж в процесі виготовлення шару шпона (Звичайно він являє собою шар деревини, який має товщину від 0,3 до 6мм). Інші пошкодження можуть бути у вигляді, наприклад, напливів на дереві, тріщин, задраних волокон, червоточин, розколів або у вигляді частин деревини, які відвалюються або випадають під час виробничого процесу внаслідок поганої якості деревини. Сучасна практика усунення пошкоджень в деревних матеріалах при виготовленні виробів, що містять елементи з дерева, полягає в ручному заповненні природних пошкоджень за допомогою композиції, що твердне. Композиція, що твердне, може, наприклад, являти собою шпаклівку на водній основі, композицію, що твердне при кімнатній температурі, яка включає з'єднання з епоксидною функціональною групою, лінолеумну шпаклівку, поліефірну шпаклівку або двокомпонентну шпаклівку з пероксидом як стверджувач. Потім композиції, що твердне, яка заповнює отвори, дають затвердіти або примушують її затвердіти. На більш пізній стадії зовнішню поверхню деревного матеріалу необов'язково зачищають шкуркою, а потім наносять на неї покриття. Верхнє покриття може бути, наприклад, одержане шляхом нанесення і твердіння покривної акрилатної композиції, що твердне під дією УФ випромінювання. Недолік вищеописаного способу усунення пошкодження полягає в тому, що його проводять вручну. Заповнення отворів вручну за допомогою пристрою для нанесення шпаклівки є трудомістким процесом, що дорого коштує і віднімає багато часу. Це означає, що вказаний спосіб не дуже придатний для здійснення безперервного процесу усунення пошкоджень, наприклад, в безперервному процесі виробництва. Загальний процес ручного усунення пошкоджень з використанням звичайної, композиції, що відносно повільно твердне, як правило, займає декілька годин, в той час як дошки з шириною від 1 до 20 можуть виробляться безперервно. Дошки, в яких необхідно усунути пошкодження, таким чином, вилучають на виробничій лінії з потоку продукції, ремонтують і знову повертають в потік продукції. У Патенті США 4894971 описаний спосіб усунення пошкоджень, в якому в деревному матеріалі роблять канал спеціальної форми в тому місці, де необхідно усунути пошкодження. Канал вирізають з поперечними розмірами, які збільшуються і зменшуються вздовж осі каналу таким чином, що шпаклівка для усунення пошкодження блокується всередині каналу. Це складний процес, що віднімає багато часу. Крім того, він не дуже підходить для використання в безперервному процесі усунення пошкоджень. 92457 4 Недоліком відомих в цей час процесів усунення пошкоджень є те, що тверднення композицій, які звичайно використовують для усунення пошкоджень, вимагає відносно багато часу і, як правило, займає від 5 хвилин до 24 годин. Це означає, що вказаний спосіб не дуже підходить для використання як безперервного процесу усунення пошкоджень, наприклад, в безперервному виробничому процесі. Звичайно дошки відкладають в сторону для усунення пошкоджень і на більш пізній стадії покривають всю поверхню. Наприклад, дошки з усуненими пошкодженнями, які описуються в експериментальному розділі патенту США 4308298, нагрівають до температури приблизно 170°С протягом декількох хвилин, а потім витримують протягом 10 годин при температурах вище 18°С, і лише тоді дошки з усуненими пошкодженнями можна шліфувати шкуркою. Таким чином, існує потреба в способі усунення пошкоджень, який позбавлений зазначених вище недоліків. Даний винахід відноситься до способу усунення одного або декількох пошкоджених ділянок в деревному матеріалі при виготовленні виробів, які містять елементи з дерева, при цьому спосіб усунення пошкоджень включає стадії, на яких здійснюють: - заповнення, принаймні, однієї пошкодженої ділянки в переважно деревному матеріалі, який не містить покривний шар, за допомогою композиції, що твердне під дією випромінювання, - розміщення проникного для випромінювання шару, принаймні, над однією пошкодженою ділянкою, заповненою композицією, що твердне під дією випромінювання, - затвердіння композиції, що твердне під дією випромінювання, на, принаймні, одній пошкодженій ділянці під дією випромінювання крізь проникний для випромінювання шар, - видалення проникного для випромінювання шару. Композиція, що твердне під дією випромінювання, переважно безпосередньо наноситься на необов'язково піддане зачищенню шкуркою або необов'язково піддане очищенню пошкоджене місце. Очищення можна, наприклад, провести за допомогою щіточки або тканини. Як альтернатива можна видалити частину матеріалу з пошкодженої ділянки перед нанесенням композиції, що твердне під дією випромінювання. Можливо також, але це потребує багато часу, видалити пошкоджену ділянку або частину поверхні трохи більшої площі, ніж пошкоджена ділянка таким чином, що виходить отвір більшого розміру. Пошкоджена ділянка може призвести до утворення крізного отвору в деревному матеріалі, наприклад, в тому випадку, коли випадає сучок, однак немає необхідності робити крізний канал в деревному матеріалі. Немає ніякої необхідності вирізати канал в деревному матеріалі з поперечними розмірами, які збільшуються і зменшуються вздовж осі каналу таким чином, щоб шпаклівка, що застосовується для усунення пошкодження, блокувалася б всередині каналу. Необов'язково виготовляти свердло спеціальної форми, оскільки пошкоджена ділянка заповнюється системою, що хімічно твердне: ком 5 позицією, що твердне під дією випромінювання. Подібна композиція дає незначну усадку в процесі тверднення, так що шпаклівці для усунення пошкодження не просто вивалитися назовні. Композиція, що твердне під дією випромінювання, може мати в'язкість, виміряну при кімнатній температурі, тобто приблизно 25°С, в інтервалі від 15 до 1000000мПа.с. Всі величини в'язкості, на які робляться посилання в даному описі, являють собою в'язкість за Брукфілдом. Композиції переважно мають в'язкість в інтервалі від 10000 до 1000000мПа.с, більш переважно, в інтервалі від 10000 до 500000мПа.с. Композицію, що твердне, можна наносити при кімнатній температурі. Як альтернатива композицію нагрівають перед нанесенням. Композицію, що твердне, яка має в'язкість при 25°С в інтервалі від 10000 до 1000000, перед нанесенням на пошкоджену ділянку можна, наприклад, нагріти до температури в інтервалі від 30 до 80°С. Субстрат, на якому є пошкоджена ділянка, нагрівати не потрібно. Композиція переважно є тиксотропною. Для тиксотропної композиції величини в'язкість можуть бути виміряні при великому зсувному зусиллі (в той момент, коли при вказаному зсувному зусиллі досягається кінцева величина в'язкості). Дуже підходящими композиціями є тиксотропні замазки. Перед нанесенням покривної композиції на пошкоджену ділянку в деяких випадках можна спочатку нанести адгезивну грунтовку. Адгезивна грунтовка може бути будь-якого звичайного типу. Вона може висушуватися на повітрі, наприклад, являти собою грунтовку, що висушується на повітрі на акриловій основі або ж бути такою, що твердне під дією УФ випромінювання. Однак застосування адгезивної грунтовки призводить до додаткових стадій процесу. Крім того, може виявитися важким наносити адгезивну грунтовку на пошкоджену ділянку, що має нерівну поверхню. На пошкоджену ділянку переважно наносять надмірну кількість композиції, що твердне. Потім під тиском, що чиниться на проникний для випромінювання шар, вказаний надлишок речовини, що твердне, розподіляється на невеликій площі навколо пошкодженої ділянки. Це дозволяє одержати плавний перехід між верхньою поверхнею деревного матеріалу і ділянкою з усуненим пошкодженням. Спосіб за даним винаходом має багато переваг. Він вимагає менше часу, оскільки композиція для усунення пошкоджень може тверднути протягом відносно короткого часу, тобто протягом декількох секунд в тому випадку, коли використовують звичайну УФ-лампу або пристрій з лампоюспалахом, і від півхвилини до декількох хвилин, коли використовують так звану лампу денного світла. Наприклад, якщо дошку витягують з потоку продукції на виробничій лінії для усунення пошкоджень поза виробничою лінією, то її можна повернути на виробничу лінію набагато швидше, ніж у випадку використання звичайних способів усунення пошкоджень. Інша перевага полягає в тому, що частина процесу або весь процес усунення пошкоджень може бути автоматизованим. Наприклад, при за 92457 6 стосуванні повністю автоматизованого процесу за даним винаходом весь процес усунення пошкоджень на дошці при безперервному виготовленні паркетних дошок з шириною від 1 до 6 може бути здійснений протягом декількох хвилин. Таким чином, один або декілька пошкоджених ділянок на дошці можуть бути усунені безпосередньо на виробничій лінії; і немає необхідності видаляти дошку з потоку продукції на виробничій лінії. Частково автоматизований або повністю автоматизований спосіб за даним винаходом може являти собою частину безперервного виробничого процесу виготовлення виробів, що містять деталі з дерева. Крім того, застосування способу усунення пошкоджень в деревному матеріалі, який містить одну або декілька пошкоджених ділянок, при виготовленні виробів, які містять деталі з дерева, при якому пошкоджена ділянка заповнюється композицією, що твердне, а потім її покривають проникним для випромінювання шаром і проводять тверднення, дає перевагу перед способами, в яких подібний проникний для випромінювання шар відсутній. Стає можливим досягти високої якості усунення пошкоджень при використанні композиції, що твердне під дією випромінювання, в способі усунення пошкоджень. Оскільки композицію, що твердне під дією випромінювання, покривають плівкою в процесі тверднення, то тверднення протікає в умовах зниженої кількості кисню. Інертна атмосфера під плівкою забезпечує більш легке тверднення покриття. Крім того, одержують більш довговічний матеріал, що твердне, з поліпшеними (механічними) властивостями, в порівнянні із звичайними шпаклівками, які тверднуть без нанесення на них плівки. Інша перевага способу за даним винаходом полягає в тому, що може бути забезпечене хороше згладжування поверхні. У тому випадку, коли деякий тиск прикладають до проникного для випромінювання шару над шаром, що заповнює уражену ділянку, то композиція, що твердне, згладжується на поверхні субстрату лише навколо ураженої ділянки. Це полегшує здійснення на відремонтованому субстраті таких подальших операцій, як зачистка шкуркою. Це також знижує ризик того, що покриття, яке використовується для усунення пошкоджень, буде випадково видалене з пошкодженої ділянки під час зачистки шкуркою. Інші переваги даного винаходу, які будуть детально розглянуті нижче, полягають в тому, що спосіб вимагає застосування порівняно невеликої кількості фотоініціаторів, і що в композиції, що твердне, може міститися відносно велика кількість пігментів. Спосіб за даним винаходом придатний для усунення пошкоджень в деревних матеріалах, зокрема, пошкоджених шарах деревини, ще більш конкретно, - в гладких шарах деревини. Спосіб за даним винаходом особливо придатний для усунення пошкоджень в деревних матеріалах, на які пізніше буде нанесене покриття. Субстрати, що піддаються ремонту, можуть бути покриті стандартним УФ герметиком і/або стандартним УФ шаром для формування верхнього покриття, 100%-ною твердою композицією, що твердне під дією УФ 7 випромінювання, поліефіром, поліуретаном, нітроцелюлозою, покривною композицією, що твердне під дією кислоти, одно- або двокомпонентною системою на водній основі, системою на водній основі, що твердне під дією УФ випромінювання, або будь-яким гібридом вказаних систем. Було виявлено, що пошкоджені ділянки, усунені за допомогою системи, що твердне під дією випромінювання, можуть бути значно легше покриті системою, що твердне під дією УФ випромінювання, ніж раніше пошкоджені ділянки, які усувають за допомогою шпаклівки, що містить льняне масло. Системи, що тверднуть під дією УФ випромінювання, краще прилипають до поверхонь, на яких пошкодження були усунені за допомогою композиції, що твердне під дією УФ випромінювання, ніж поверхні, на яких пошкодження були усунені за допомогою шпаклівки, що містить льняне масло. Інша перевага застосування композиції, що твердне під дією випромінювання для усунення пошкоджень, а також композиції, що твердне під дією УФ випромінювання, для нанесення верхнього шару, полягає в тому, що тверднення як при усуненні пошкоджень, так при нанесенні верхнього шару, може бути здійснене з великою швидкістю. Після усунення пошкодження деревні матеріали, що необов'язково містять покривний шар, можуть використовуватися при виготовленні виробів, які містять елементи з дерева, таких як паркетні дошки, дерев'яний настил підлоги (що має покриття), настил підлоги з масиву дерева, меблі, меблі з масиву дерева, віконні рами і вироби, покриті шаром шпона (який має покриття), наприклад, такі меблі, як офісні меблі, кухонні шафи, кухонні столи тощо. Наприклад, в процесі виробництва може потребуватися усунути пошкодження в деревному шарі паркетної дошки. Паркетні дошки мають структуру сендвіча. Загальна товщина дошки може становити, наприклад, 8-30мм. Нижній шар одного або декількох шарів забезпечує паркетній дошці міцність і товщину. Вказані шари можуть бути виготовлені з таких матеріалів, як папір, деревноволокниста плита середньої щільності (MDF), деревно-волокниста плита великої щільності (HDF), вафельна плита, деревно-стружкова плита із стружок, деревно-стружкова плита з тріски, деревно-стружкова плита з тирси, клеєна фанера або листова соснова фанера. Верхня частина сендвіч-структури звичайно являє собою шар дерева, який покритий одним або декількома шарами. Шар дерева звичайно дуже тонкий, наприклад, становить 0,3-6мм, і в процесі виробництва можуть випадати сучки і виникати інші пошкодження. Стадією, на якій усувають пошкодження, таке як отвори від сучків, звичайно є формування деревного шару на верхній частині шару, що лежить нижче, або поверх пакету з одного або декількох шарів, що лежать нижче. На більш пізній стадії всю поверхню дошки можна піддати зачистці шкуркою, на поверхню шару дерева може бути нанесений герметик, вся поверхня дошки може бути знову піддана зачистці шкуркою, а потім на всю поверхню наносять покриття, як 92457 8 правило, з використанням декількох шарів покривного матеріалу. У способі за даним винаходом композиція, що твердне, яку наносять на пошкодження, може бути звичайною композицією, що твердне під дією УФ випромінювання, наприклад, композицією, що твердне під дією УФ випромінювання, яка має низький вміст летких органічних сполук (VOC), зокрема, містить менше 450 грамів розчинника на літр або, переважно, менше, ніж 420 грамів розчинника на літр композиції. Композиція, що наноситься в отвір, необов'язково повинна мати дуже хороші адгезивні властивості. Вона необов'язково повинна мати дуже хороший зовнішній вигляд, оскільки інше покриття буде нанесене поверх шару, що використовується для усунення пошкоджень, тоді, коли на всю дошку наносять покривний шар/фінішний шар. Переважно, композиції, що тверднуть, включають менше 40% мас. летких органічних речовин, більш переважно, менше 30% мас. Найбільш переважними є композиції, що тверднуть, які включають менше 5% мас. летких органічних речовин. Композиції можуть також містити аж до 60% мас. води в перерахунку на всю масу композиції, що твердне. Найбільш переважними є композиції, які містять менше 5% мас. води. Якщо композиція, що твердне, містить летку органічну сполуку і/або воду, то їх потрібно видалити після нанесення композиції на пошкоджену ділянку, але до того, як плівку розміщують поверх композиції, що не затверділа. Кількість леткої органічної сполуки і/або води не повинна бути такою, щоб внаслідок випаровування поверхня композиції, що не затверділа, осідала настільки сильно, що вона залишається помітною після зачистки поверхні шкуркою і після нанесення фінішного покриття на поверхню деревного матеріалу на більш пізній стадії. Замість (або частково замість) води і/або яких-небудь летких органічних сполук можуть використовуватися реактивні розріджувачі, наприклад, для регулювання в'язкості композиції, що твердне. Реактивний розріджувач звичайно являє собою мономер або суміш мономерів, яка реагує з одним або декількома компонентами композиції. Добре відомими розріджувачами є акрилові розріджувачі, зокрема, діакрилат триполіпропіленгліколю (TPGDA), діакрилат гександіолу (HDDA), акрилозаміщений етоксилат пентаеритриту (РРТТА) та гідроксіетилметакрилат (НЕМА). Застосування реактивних розріджувачів знижує або усуває виділення VOC, оскільки вони включаються до складу кінцевої плівки. Однак відомо, що реактивні розріджувачі спричиняють роздратування шкіри і мають сенсибілізуючі властивості. Крім того, вказані компоненти часто мають сильний або неприємний запах і можливо мають токсичні властивості. Ще однією проблемою при нанесенні покриттів на пористі субстрати, наприклад, дерево, яка пов'язана з композиціями, що містять реактивні розріджувачі, є проникнення реактивних мономерів в пори субстрату. Це є недоліком, особливо в тому випадку, коли покриття твердне від випромінювання. Оскільки випромінювання не досягає вказаних ділянок, то, в 9 результаті, в порах субстрату залишається покривна речовина, що не затверділа. Це може спричиняти проблеми для здоров'я, безпеки та навколишнього середовища, зокрема, в тому випадку, коли субстрат розрізають або зачищають шкуркою. Відомо, що вивільнення вільних мономерів з панелей, що містять пори, відбувається навіть протягом декількох років після нанесення лака. Якщо композиція, що твердне, включає реактивний розріджувач, то він переважно міститься в невеликій кількості. Найбільш переважними є так звані 100% тверді композиції, що тверднуть під дією УФ випромінювання, тобто композиції, що містять менше, ніж 3% мас. летких органічних сполук і менше, ніж 2% мас. води. Системи з великим вмістом твердих речовин і так звані 100% тверді системи звичайно включають реактивний розріджувач. Подібний розріджувач вступає у взаємодію при твердненні і важко випаровується. Переважно, композиція, що твердне, містить менше, ніж 20% мас, більш переважно, менше, ніж 15% мас. мономерів. Найбільш переважними є композиції, що містять менше, ніж 10% мас. або навіть менше, ніж 5% мас. мономерів. Дуже підходящими в способі за даним винаходом є композиції термоклею. Композиція термоклею переважно має низький вміст летких органічних сполук, тобто менше, ніж 450 грам на літр або, переважно, менше ніж 420 грамів на літр. Найбільш переважно композиція термоклею являє собою так звану 100% тверду композицію, тобто композицію, яка включає менше, ніж 3% мас. летких органічних сполук і менше ніж 2% мас. води. Композиція термоклею переважно містить менше, ніж 20% мас, більш переважно, менше, ніж 15% мас. мономерів. Дуже переважними є композиції термоклею, що включають менше, ніж 10% мас. або навіть менше, ніж 5% мас. мономерів. Композиція термоклею переважно має в'язкість, виміряну при кімнатній температурі, тобто приблизно при 25°С, в інтервалі від 10000 до 1000000мПа.с, більш переважно, в інтервалі від 10000 до 500000мПа.с. Перед нанесенням на пошкоджену ділянку в способі за даним винаходом композицію термоклею переважно нагрівають до температури в інтервалі від 30 до 100°С, більш переважно, в інтервалі від 40 до 90°С і, найбільш переважно, в інтервалі від 40 до 80°С. У способі за даним винаходом переважно застосовують двокомпонентну систему, що твердне. Вона може являти собою подвійну систему тверднення, в якій можливе протікання більш повільного вторинного механізму тверднення, що дозволяє досягти хорошого крізного тверднення, і це особливо важливе в тому випадку, коли усувають відносно глибоке пошкодження. Наприклад, в композицію, що твердне під дією УФ випромінювання, може додаватися ізоціанатна композиція; ізоціанатна композиція переважно є дуже в'язкою. У цьому випадку може протікати додаткове тверднення ізоціанатних груп. Прикладами відповідних ізоціанатів є Desmodur L 75, Desmodur L 67%, Desmodur Z 4470 BA, Desmodur N 3390, Desmodur N-75, Desmodur N-100%, Desmodur HL 60% I BUA, 92457 10 Desmodur E 21, Desmodur VL, Desmodur Z 4370, Desmodur L 67 BuAc, Desmodur N 3600, Desmodur HL 60% BuAc (всі виробляються компанією Bayer) і Tolonate 75 MX (виробляється компанією Rhodia). Ізоціанатна композиція, що додається до композиції, що твердне під дією УФ випромінювання, може включати один або декілька ізоціанатів. Як альтернатива в композицію, що твердне під дією УФ випромінювання, може додаватися один або декілька типів вторинних амінів. Після опромінення аміни можуть вступати у взаємодію з можливо існуючими подвійними зв'язками, що не затверділи. Прикладами відповідних амінозаміщених сполук є аміноетилетаноламін, аміноетилпіперазин, , -диамінопропіленгліколь (Jeffamine D400), діетилентріамін, дипропілентріамін, триметилгексан(1,6)діамін (суміш 2,2,4- та 2.4,4-ізомерів) та 3амінопропілтриетоксисілан (Dynasil AMEO-T, виробляється компанією Hüls). Крім того, в композицію, що твердне під дією УФ випромінювання, може додаватися одна або декілька перокси-систем. У цьому випадку УФтверднення акрилатів може стати вторинним механізмом тверднення. Прикладами відповідних пероксидів є Cyclonox LR, Cyclonox 11, Cyclonox LE-50 (всі виробляються компанією Akzo Nobel). Перокси-системи, які додають в композицію, що твердне під дією УФ випромінювання, можуть включати один або декілька пероксидів. Як альтернатива в композицію, що твердне під дією УФ випромінювання, можуть додаватися силани, зокрема, силани, що тверднуть під дією вологи, або тіозаміщені агенти, що тверднуть. Ще більш переважно застосовують трьохкомпонентну систему, що твердне. Вона може являти собою потрійну систему тверднення, в якій можливе протікання більш повільного вторинного механізму і більш повільного третинного механізму тверднення, що дозволяє досягти хорошого крізного тверднення, і це особливо важливе в тому випадку, коли усувають відносно глибоке пошкодження або коли УФ випромінювання не досягає частини системи, що твердне, (в зоні тіні). Особливо придатна композиція, що твердне під дією УФ випромінювання, в яку додані один або декілька пероксидів і одна або декілька сполук, що містять вторинні аміногрупи. Особливо придатна також композиція, що твердне під дією УФ випромінювання, в яку додані один або декілька пероксидів і один або декілька ізоціанатів. Пероксиди, вторинні аміни та ізоціанати, які наведені вище як придатні для двокомпонентної системи, придатні також і для трьохкомпонентної системи. Після закриття заповненої шпаклівкою пошкодженої ділянки за допомогою проникного для випромінювання шару і (часткового) тверднення композиції під дією випромінювання крізь вказаний шар відносно повільне вторинне тверднення може продовжуватися і в процесі подальшої обробки деревного матеріалу. Досягнення хорошого крізного тверднення за допомогою подвійної системи тверднення являє собою велику перевагу внаслідок ризиків, пов'язаних з будь-яким з мономерів, тобто не прореагувавшим реактивним розріджувачем, який може залишитися на пошкодженій діля 11 нці після опромінення композиції, що твердне. Коли мономери (які не прореагували у час первинного тверднення) беруть участь у вторинній реакції, то присутність вільних мономерів на ділянках кінцевого продукту, де були усунені пошкодження, знижується або ж вони повністю зникають. Композиція, що твердне, може включати олігомери або смоли із середньою або дуже великою молекулярною масою, наприклад, олігомери або смоли, що тверднуть під дією випромінювання, які мають в'язкість в інтервалі від 15 до 1000000мПа.с при кімнатній температурі, тобто в інтервалі від 5 до 40°С. Композиція, що твердне, переважно містить приблизно від 50 і до 100% мас, більш переважно, містить від 85 до 100% мас, і ще більш переважно, від 90 до 100% мас. олігомерів або смол, які мають в'язкість при кімнатній температурі в інтервалі від 10000 до 1000000мПа.с, переважно, від 10000 до 500000мПа.с. Прозорі композиції переважно містять від 80 до 99, більш переважно містять від 90 до 95% мас. олігомерів або смол. Композиції з низьким вмістом пігментів, які мають, наприклад, жовтувате, червонувате або коричнювате забарвлення, включають від 80 до 99, більш переважно, від 90 до 95% мас. олігомерів або смол. Композиції з великим вмістом пігментів, що включають, наприклад, аж до 40% мас. пігментів, переважно містять більше 40, більш переважно, більше 60% мас. олігомерів або смол. Композиція, що твердне, яка застосовується в способі за даним винаходом, твердне під дією випромінювання. У рамках даного винаходу композиція, що твердне під дією випромінювання, являє собою композицію, яку змушують тверднути під дією електромагнітного випромінювання з довжиною хвилі 500нм або під дією пучка електронів. Прикладом електромагнітного випромінювання з довжиною хвилі 500нм є УФ випромінювання. Джерелами радіації, які можуть бути використані в способі за даним винаходом, є звичайні джерела електронних пучків або УФ випромінювання. Наприклад, можуть застосовуватися такі джерела УФ випромінювання, як ртутні лампи високого, середнього і низького тиску. Крім того, можуть застосовуватися галієві лампи і лампи з іншими легуючими домішками, особливо для композицій, які містять пігменти. Можна також примушувати композиції тверднути за допомогою коротких імпульсів світла або використати тверднення денним світлом. У порівнянні із способами, в яких відсутній проникний для випромінювання шар. виявилося, що для забезпечення прийнятного тверднення можна використовувати випромінювання, що має більш низьку енергію, ніж та, яку випускають звичайні джерела УФ випромінювання. Цей ефект може бути викликаний тим, що проникний для випромінювання шар розташовується поверх композиції і запобігає захопленню ініційованих радикалів киснем повітря. Таким чином, в одному з варіантів здійснення даного винаходу, зокрема, при твердненні прозорих покриттів, композицію примушують тверднути з використанням УФ випромінювання низької енергії, тобто застосовують так зване тверднення під дією денного світла. Інтенсивність 92457 12 вказаних ламп менше, ніж вищезгаданих джерел УФ випромінювання. Джерело УФ випромінювання низької енергії практично не випромінюють УФ С; вони переважно випромінюють УФ А, а також випускають світло з довжиною хвилі на межі між УФ В та УФ А. Переважно, композицію примушують тверднути під дією випромінювання з довжиною хвилі 200нм 500нм, більш переважно, 200нм 450нм. Для деяких композицій переважними є джерела УФ випромінювання низької енергії, які випромінюють в інтервалі довжин хвиль 370нм 450нм. Однією з переваг використання джерел, що випускають випромінювання з довжиною хвилі 200нм 500нм є те, що вони безпечніші, ніж звичайні джерела УФ випромінювання, які випромінюють відносно велику кількість УФ С і/або УФ В. Іншою перевагою є те, що лампи денного світла, що використовуються для тверднення, менш дорогі, ніж звичайні УФ лампи. Комерційно доступними лампами денного світла, що використовуються для тверднення, є, наприклад, лампи, що застосовуються в соляріях і спеціальні флуоресцентні лампи, такі як лампи TL03, TL05 або TL09 (виробляються компанією Philips) і лампи BLB UV (виробляються компанією CLE Design). Як приклад комерційно доступної лампи денного світла, що використовується для тверднення, яка випромінює світло у вигляді коротких імпульсів, можна назвати лампи-спалахи UV/VIS, які не містять ртуть, компанії Xenon. Найбільш звичайні лампи мають потужність в інтервалі від 80 до 120 або аж до 240Вт/см. Інший тип лампи, яка дуже придатна для використання в способі за даним винаходом, являє собою лампу з потужністю в інтервалі від 20 до 240Вт/см. У випадку лампи з великим діапазоном потужності потужність, а отже, і кількість енергії, що використовується, можна відрегулювати відповідно до швидкості вироблення. Переважною є лампа з потужністю в інтервалі 20-120Вт/см. Зокрема, коли в способі за даним винаходом застосовують забарвлені системи, тверднення можна проводити з використанням як ртутної лампи, так і галієвої лампи. Було показано, що використання випромінювання галієвої лампи призводить до глибокого тверднення і хорошого крізного тверднення систем. Композицію, що твердне, розташовану у вигляді сендвіча між субстратом і проникним для випромінювання шаром, примушують тверднути крізь вказаний шар. Якщо композицію примушують тверднути за допомогою пучків електронів, то матеріал проникного для випромінювання шару не є критичним, оскільки проникності електронів можна досягти шляхом вибору досить високої напруги. Таким чином, у випадку тверднення під дією пучків електронів вказаний шар може включати, зокрема, алюмінієву фольгу або покритий алюмінієм шар, наприклад, покриту алюмінієм плівку поліефіру, пластика або паперу. Якщо композицію, що твердне, передбачають примусити тверднути за допомогою УФ випромінювання, то проникний для випромінювання шар повинен бути достатньо прозорий для УФ випро 13 мінювання. У випадку тверднення з використанням УФ випромінювання (низької енергії) проникний для випромінювання шар може являти собою кварцове скло або скляну пластинку, або полімерний матеріал, наприклад, полікарбонат, модифікований полікарбонат (зокрема, плексиглас), полівінілхлорид, ацетат, поліетилен, поліефір, акриловий полімер, поліетилен нафталат, поліетилен терефталат або полікарбонат, або їх співполімери. Проникний для випромінювання шар може бути жорстким або гнучким і може мати будь-яку необхідну товщину, за умови, що він здатний пропускати достатню кількість випромінювання для забезпечення ефективного тверднення композиції, що використовується. У тому випадку, коли на ділянку деревного матеріалу з усуненим пошкодженням наносять покриття на більш пізній стадії при виготовленні виробів, які містять деталі з дерева, проникний для випромінювання шар не повинен мати дуже гладку поверхню з тієї сторони, яка контактує з композицією, що твердне, нанесеною на пошкоджену ділянку. В ідеалі вибирають композицію, яка після свого тверднення легко відділяється від проникного для випромінювання шару. Якщо розділення проходить легко, то проникний для випромінювання шар може бути відділений від деревного матеріалу з усуненим пошкодженням таким чином, що композиція, яка використовується для усунення пошкодження, залишається на пошкодженій(их) ділянці(ках). Композиції, що тверднуть, які застосовують в способі за даним винаходом, підходять для спільного використання з найрізноманітнішими типами проникних для випромінювання шарів, включаючи проникні для випромінювання шари, що не зазнавали обробки. Для надання проникному для випромінювання шару здатності легко відділятися можна провести обробку проникного для випромінювання шару. Вид обробки повинен бути спеціально підібраний для даного типу проникного для випромінювання шару і типу композиції, що твердне, яку використовують для усунення пошкоджень відповідно до даного винаходу. На проникний для випромінювання шар можна, наприклад, нанести покриття, що полегшує розділення. Подібне полегшуюче розділення покриття може містити кремнійорганічний або фторвмісний полімер, такий як політетрафторетилен, як полегшуючий розділення агент. У Патенті США №5037668 описується, наприклад, фторвмісний полімер, що не є кремнійорганічним, який являє собою полегшуюче розділення покриття акрилатного типу. Було виявлено, що олігомери і смоли поліефіракрилатів дуже підходять для використання в композиції, що твердне, якою заповнюють пошкоджену ділянку в способі за даним винаходом. Прикладами відповідних комерційно доступних поліефіракрилатних смол є: Craynor® UVP-215, Craynor® UVP-220 (обидві виробляються компанією Gray Valley), Genomer® 3302, Genomer® 3316 (обидві виробляються компанією Rahn), Laromer® PE 44F, Laromer PE 56F, Laromer 8992, Laromer 8800 (виробляються компанією BASF), Ebecryl® 800, Ebecryl® 810, Viaktin® 5979, Viaktin® VTE 92457 14 5969 та Viaktin® 6164 (100%) (всі виробляються компанією UCB). Було також виявлено, що епоксіакрилатні олігомери і смоли також дуже придатні в композиції, що твердне, в способі за даним винаходом. Прикладами комерційно доступних епоксіакрилатних смол є: Craynor® UVE (100%). Craynor® UVE-130. Craynor® UVE-151, CN® 104 (всі виробляються компанією Gray Valley). Actilan 300, Actilan 320. Actilan 330, Actilan 360 (всі виробляються компанією Akzo Nobel), Pholocryl® 201 (виробляються компанією PC resins), Genomer® 2254, Genomer® 2258, Genomer® 2260, Genomer® 2263 (всі виробляються компанією Rahn), UVP® 6000 (виробляються компанією Polymer technologies) та Ebecryl® 3500 (виробляються компанією UCB). У композиції, що твердне, в способі за даним винаходом можуть також застосовуватися поліефірні акрилатні смоли. Прикладами комерційно доступних поліефірних акрилатних смол є: Genomer® 3456 (виробляється компанією Rahn), Laromer® PO33F (виробляється компанією BASF), Viaktin® 5968, Viaktin® 5978 та Viaktin® VTE 6154 (всі виробляються компанією Vianova). У композиції, що твердне, в способі за даним винаходом можуть також застосовуватися уретанові акрилатні олігомери та смоли. Прикладами комерційно доступних уретанових акрилатних смол є: CN® 934, CN® 936, CN® 976, CN® 981 (всі виробляються компанією Gray Valley), Ebecryl® 210, Ebecryl® 230, Ebecryl® 270, Ebecryl® 2000, Ebecryl® 8800 (всі виробляються компанією UCB), UA VPLS® 2308, UA VPLS® 2989 (всі виробляються компанією Bayer), Genomer® 4258, Genomer® 4652 та Genomer® 4675 (всі виробляються компанією Rahn). Іншими прикладами олігомерів і смол, що тверднуть під дією випромінювання, які можуть застосовуватися в композиції, що твердне, за допомогою якої заповнюють пошкоджену ділянку в способі за даним винаходом, є катіоногенні смоли, що тверднуть під дією УФ випромінювання, наприклад, циклоаліфатичні епоксидні смоли, такі як Uvacure® 1500, Uvacure® 1501, Uvacure® 1502, Uvacure® 1530, Uvacure® 1531, Uvacure® 1532, Uvacure® 1533 та Uvacure® 1534 (всі виробляються компанією UCB Chemicals), Cyracure®UVR6100, Cyracure® UVR-6105, Cyracure® UVR-6110 та Cyracure® UVR-6128 (всі виробляються компанією Union Carbide) або SarCat® K126 (виробляється компанією Sartomer), модифіковані акрилатом циклоаліфатичні епоксиди, смоли на основі капролактона, такі як SR® 495 (= акрилат капролактона, виробляється компанією Sartomer), Tone® 0201, Tone® 0301, Tone® 0305, Tone® 0310 (всі вони являють собою триоли капролактона, виробляються компанією Union Carbide), аліфатичний уретановий вініловий ефір, олігомер ароматичного вінілового ефіру, біс-малеїміди, дигліциділовий ефір бісфенолу А або інші гліколі, гідроксизаміщений акриловий мономер, гідроксизаміщена епоксидна смола, епоксидоване льняне масло, епоксидований полібутадієн, гліцидиловий ефір частково акрилзаміщеної бісфенольної А епоксид 15 ної смоли або оксетан триметилпропану (UVR® 6000, виробляється компанією Union Carbide). Іншими сполуками, що тверднуть під дією випромінювання, які підходять для застосування в композиції, що твердне, в способі за даним винаходом, є, зокрема, сполуки, які містять вініловий ефір, ненасичені поліефірні смоли, акрилвмісні сполуки поліефірполіолів, (мет)акрилзаміщені епоксидовані масла, (мет)акрилзаміщені надрозгалужені поліефіри, кремнійорганічні акрилати, сполуки з малеїмідними групами, ненасичені імідні смоли, сполуки, придатні для застосування в способі фотоіндукованого катіонного тверднення, або їх суміші. У композиції, що твердне під дією випромінювання, може застосовуватися суміш, що твердне під дією випромінювання, (а) смол(и), здатних(ої) тверднути по фотоіндукованому радикальному механізму, і (b) смол(и), здатних(ої) тверднути по фотоіндукованому катіонному механізму. Подібні системи іноді називають гібридними системами, і вони можуть включати, наприклад, акрилові олігомери як смоли, що тверднуть по фотоіндукованому радикальному механізму, вінілові ефіри як смоли, що тверднуть по фотоіндукованому катіонному механізму, і радикальні і катіонні фотоініціатори. У принципі, в подібних гібридних системах можуть застосовуватися всі можливі комбінації смол, що тверднуть по фотоіндукованому радикальному механізму, і смол, що тверднуть по фотоіндукованому катіонному механізму. У композицію, що твердне, можуть включатися полімери, що полімеризуються не під дією випромінювання. Вказані полімери можуть використовуватися для модифікування в'язкості, клейкості, адгезії або гелетвірних властивостей складу, що твердне, і/або для модифікування загальних фізичних властивостей речовини, що твердне, таких як стійкість до забруднення, гнучкість або адгезія. Прикладами є ацетат бутират целюлози (різних сортів, які виробляються компанією Eastman), сполуки групи Laporal (виробляються компанією BASF), сполуки групи Paraloid (виробляються компанією Romh and Haas), Degalan LP 65/12 (виробляється компанією Degussa) і сполуки групи Ucar (виробляються компанією Union Carbide). У загальному випадку, композиція, що твердне, придатна до застосування в способі за даним винаходом, містить від 0 до 20% мас. полімерів, що полімеризуються не під дією випромінювання. Крім того, композиція може включати фотоініціатор або суміш фотоініціаторів. Прикладами відповідних фотоініціаторів, які можуть застосовуватися в композиції, що твердне під дією випромінювання, відповідно до даного винаходу, є бензоїн, прості ефіри бензоїну, бензокеталі, , діалкоксіацетофенони, -гідроксіалкілфенони, аміноалкілфенони, ацилфосфіноксиди, бензофенон, тіоксантони, 1,2-дикетони та їх суміші. Можна застосовувати також бімолекулярні фотоініціатори, що співполімеризуються, і сполуки, які містять малеїмідні функціональні групи. У композиції, що твердне під дією випромінювання, можуть бути присутніми також співініціатори на основі амінів. Прикладами відповідних комерційно доступних 92457 16 фотоініціаторів є: Esacure® КІР 100F та Esacure® KIP 150 (обидва виробляються компанією Lamberti), Genocure® BDK, Genocure® CQ, Genocure® CQ CE, Genocure® EHA, Velsicure® BTF, Quantacure® BMS, Quantacure® EPD (всі виробляються компанією Rahn), Speedcure® EDB, Speedcure® ITX, Speedcure® BKL, Speedcure® BMDS, Speedcure® PBZ, Speedcure® BEDB, Speedcure® DETX (всі виробляються компанією Lambson), Cyracure® UVI-6990, Cyracure® UVI6974, Cyracure® UVI-6976, Cyracure® UVI-6992 (всі виробляються компанією Union Carbide), CGI-901. Irgacure® 184, Irgacure® 369, Irgacure® 500, Irgacure® 754, Irgacure® 819, Darocur® 1000, Darocur® 1173 (всі виробляються компанією Ciba Chemicals) та Lucirin® TPO (виробляється компанією BASF). Проте, наявність фотоініціатора не є обов'язковою. У загальному випадку, коли для тверднення композиції застосовують пучок електронів, додавати фотоініціатор необов'язково. Якщо застосовують УФ випромінювання, то фотоініціатор звичайно додають, але УФ тверднення можна здійснити також і без фотоініціатора. Якщо він присутній, загальна кількість фотоініціатора в композиції не є критичною; він повинен бути присутнім в достатній кількості, щоб забезпечити прийнятне тверднення композиції при її опроміненні. Однак ця кількість не повинна бути настільки великою, щоб вона впливала негативним чином на властивості композиції, що твердне. У загальному випадку композиція повинна містити в діапазоні від 0 до 10% мас. фотоініціатора в перерахунку на загальну масу композиції. Як правило, в порівнянні з кількістю, необхідною в тому випадку, коли композицію наносять на субстрат, а потім примушують тверднути, в способі за даним винаходом для забезпечення прийнятного тверднення можна використати меншу кількість фотоініціатора. Цей ефект може бути пояснений присутністю проникного для випромінювання шару, розташованого поверх композиції, що твердне, оскільки проникний для випромінювання шар може знижувати кількість ініційованих радикалів, які захоплюються киснем повітря. Більшість фотоініціаторів має неприємний або сильний запах. Таким чином, одна з переваг, в тому випадку, якщо використовувати лише невелику кількість фотоініціатора або зовсім не використовувати фотоініціатор, полягає в тому, що композиція має більш приємний запах. Композиція може також містити один або декілька наповнювачів або домішок. Наповнювачі можуть бути будь-якими наповнювачами, відомими фахівцям з галузі техніки, зокрема, наповнювачем може бути сульфат барію, сульфат кальцію, карбонат кальцію, кремнезем або силікати (такі як тальк, польовий шпат та каолін). Можуть також вводитися такі домішки, як оксид алюмінію, карбід кремнію, наприклад, карборунд, частинки кераміки, частинки скла, стабілізатори, антиоксиданти, засоби для згладжування поверхні, засоби проти розшарування композиції, антистатичні агенти, матуючі засоби, модифікатори реологічних властивостей, поверхнево-активні речовини, амінні 17 синергісти, віск або агенти, що посилюють адгезію. Можуть також додаватися сушильники фарби, такі як карбоксилат кобальту, зокрема, Cobalt Siccatol (виробляється компанією Akcros Chemicals). Було встановлено, що дуже придатними є двокомпонентні системи, що тверднуть, і трьохкомпонентні системи, що тверднуть, в які доданий карбоксилат кобальту. У загальному випадку композиція, що твердне, яку застосовують в способі за даним винаходом, містить від 0 до 60% мас. наповнювачів або домішок в перерахунку на загальну масу композиції, що твердне. Композиція, що твердне, яку застосовують в способі за даним винаходом, може також містити один або декілька пігментів. У принципі, можуть використовуватися всі пігменти, відомі фахівцям з галузі техніки. Однак необхідно стежити за тим, щоб пігмент не поглинав дуже сильно випромінювання, яке використовують для тверднення композиції. У загальному випадку композиція, що твердне, містить від 0 до 50% мас. пігменту, переважно, 1-40% мас. пігменту в перерахунку на загальну масу композиції, що твердне. Завдяки присутності проникного для випромінювання шару, розташованого поверх композиції, який знижує кількість ініційованих радикалів, що захоплюються киснем повітря, прийнятного тверднення композиції, що містить пігмент, можна досягти навіть в тому випадку, коли композиція включає відносно велику кількість пігментів. Виявлення пошкодження в деревному матеріалі, яке необхідно усунути, може бути автоматизоване, наприклад, шляхом використання фотокамери і комп'ютеризованої програми детектування. Наприклад, може застосовуватися програма Woodeye® (продукт компанії Vision AB). Для нанесення композиції, що твердне, на пошкоджену ділянку може застосовуватися обладнання, відоме фахівцям з даної галузі техніки, наприклад, шприц, струминна повітряна сушарка з нагрівом або без нагріву, правило або струмінь. В альтернативному варіанті здійснення даного винаходу композицію, що твердне, наносять за допомогою валкової установки. Цей спосіб особливо підходить для субстратів, що мають значну кількість невеликих пошкоджених ділянок. У цьому випадку частина субстрату, що має значну кількість невеликих пошкоджених ділянок, або навіть вся поверхня подібного субстрату, може бути покрита за допомогою валкової установки для нанесення покриттів. Потім наносять плівку і прикладають до плівки деякий тиск. Це призводить до того, що невеликі пошкоджені ділянки заповнюються, а поверхня з покриттям одночасно вирівнюється. У тому випадку, коли субстрат містить одну або декілька відносно великих пошкоджених ділянок, а також ряд відносно невеликих пошкоджених ділянок, великі пошкоджені ділянки можуть ремонтуватися окремо, зокрема, шляхом заповнення їх за допомогою шприца, струминної повітряної сушарки з нагрівом або без нагріву, правила або струмені з подальшим нанесенням плівки і твердненням за допомогою радіації крізь плівку, в той 92457 18 час як невеликі пошкоджені ділянки можуть бути усунені за допомогою валкової установки для нанесення покриттів, плівки та випромінювання. Велика(і) пошкоджена(і) ділянка(ки) може(можуть) усуватися раніше, одночасно або після усунення невеликих пошкоджених ділянок. Нанесення композиції, що твердне, на пошкоджену ділянку можна здійснити вручну або автоматично. Наприклад, для нанесення композиції, що твердне, можна використати робот з повітряною сушаркою із соплами, що не нагріваються або нагріваються, який з'єднаний з телекамерою. Після нанесення проникного для випромінювання шару можна застосувати відоме фахівцям обладнання для згладжування шару, що твердне, розташованого під проникним для випромінювання шаром, зокрема, правило або валкову установку. Проникний для випромінювання шар, який застосовують в даному способі, може бути відносно жорстким і переважно може використовуватися повторно. У процесі усунення пошкоджень в деревному матеріалі при виготовленні виробу, який містить деталі з дерева, який має декілька пошкоджених ділянок, можна використовувати один або декілька шматочків проникного для випромінювання шару, кожний з яких покриває одну або декілька пошкоджених ділянок. Проникний для випромінювання шар може навіть покривати всю поверхню деревного матеріалу, що містить пошкоджені ділянки. Відносно жорсткий проникний для випромінювання шар, який може використовуватися повторно, придатний для безперервного процесу, особливо процесу, в якому усуваються пошкодження в плоских шарах дерева. Приклад наведений на Фіг.1. Що стосується Фіг.1, то на ній показане джерело УФ випромінювання 1, яке розміщене над шаром плексигласу 2 та субстратом 3. Як альтернатива проникний для випромінювання шар може бути гнучким. Він може являти собою невеликий шматочок плівки або великий шматок плівки, який покриває декілька пошкоджених ділянок або навіть всю поверхню шару дерева, що містить пошкодження. Гнучка плівка може являти собою рулон плівки, яка може використовуватися повторно. Подібний рулон плівки може бути придатний для застосування в безперервному процесі, особливо в процесі, в якому усуваються пошкодження в плоских шарах дерева. Подібний рулон може мати один або декілька витків. Приклади подібних рулонів наведені на Фіг.2 та 3. На Фіг.2 наведений розріз субстрату, вміщеного на стрічку конвеєра. Плівку подають з рулону і намотують на інший рулон. УФ лампа розміщена над шматком плівки, яка паралельна субстрату. Композиція, що твердне, на пошкодженій(их) ділянці(ках) твердне під дією випромінювання УФ лампи, в той час як плівка все ще знаходиться в контакті з композицією. На Фіг.3 наведений розріз субстрату, вміщеного на стрічку конвеєра, рулон нескінченної плівки та УФ лампа. УФ лампа розміщена всередині рулону над субстратом. У переважному безперервному способі усунення пошкоджень за даним винаходом пошкоджені ділянки, які виявляють за допомогою автоматичної системи, заповнюються за допомогою 19 92457 автоматичної системи, потім композицію, що твердне, необов'язково висушують і далі покривають проникним для випромінювання шаром, який переважно має розмір, достатній для закриття декількох пошкоджених ділянок, композицію, що твердне, в отворах примушують тверднути крізь проникний для випромінювання шар, а потім проникний для випромінювання шар видаляють. Далі даний винахід роз'яснюється з посиланням на наступні приклади. Вони наведені лише як ілюстрація даного винаходу, і їх не треба розглядати як такі, що будь-яким чином обмежують його обсяг. Всі наведені в прикладах величини в'язкості являють собою в'язкість за Брукфілдом. Для тиксотропних композицій величини в'язкість вимірюють при великому зсувному зусиллі (коли при вказаній величині зсувного зусилля досягається кінцеве значення в'язкості). Вимірювання в'язкості проводять на приладі Brookfield RV при швидкості 1 і з використанням шпинделя 2. Приклади Відповідно до наступних складів готують декілька композицій для застосування в способі за даним винаходом. Склад 1 (система, що твердне під дією УФ випромінювання) Компонент Поліефіракрилат Ароматичний уретановий акрилат Комбінація фотоініціаторів Кількість в % мас. 86 10 4 Композиції, що тверднуть під дією УФ випромінювання, приготовані відповідно до складу 1, мають в'язкість приблизно 20000мПа.с при кімнатній температурі. Композиції складу 1 перед нанесенням нагрівають до 40°С. Склад 2 (система, що твердне під дією УФ випромінювання) Компонент Аліфатичний уретановий акрилат Комбінація фотоініціаторів Кількість в % мас. 96 4 Композиції, що тверднуть під дією УФ випромінювання, приготовані відповідно до складу 2, мають в'язкість приблизно 150000Па.с при кімнатній температурі. Композиції складу 2 перед нанесенням нагрівають до 60°С. Склад 3 (ледве забарвлена система, що твердне під дією УФ випромінювання) Компонент Поліефіракрилат Ароматичний уретановий акрилат Кількість в % мас. 86 10 20 Комбінація фотоініціаторів Пігмент 4 0,025 Ледве забарвлені композиції, що тверднуть під дією УФ випромінювання, приготовані відповідно до складу 3, мають в'язкість приблизно 20000мПа.с при кімнатній температурі. Композиції складу 3 перед нанесенням нагрівають до 40°С. Склад 4 (сильно забарвлена система, що твердне під дією УФ випромінювання) Компонент Паста пігменту білого кольору Наповнювач Ароматичний епоксіакрилат Комбінація фотоініціаторів Етоксилат акрилзаміщеного пентаеритриту Домішка (піногасники, змочувачі тощо) Кількість в % мас. 35 20 20 3,5 20 1,5 Сильно забарвлені композиції, що тверднуть під дією УФ випромінювання приготовані, відповідно до складу 4, мають в'язкість 3000мПа.с при кімнатній температурі. Композиції складу 4 перед нанесенням нагрівають до 25°С. Склад 5 (подвійна система, що твердне) Компонент Ароматичний епоксіакрилат Ароматичний уретановий акрилат Комбінація фотоініціаторів Акрилзаміщений амін Кількість в % мас. 72 10 3 15 Подвійні композиції, що тверднуть, приготовані відповідно до складу 5, мають в'язкість приблизно 370000мПа.с при кімнатній температурі. Композиції складу 5 перед нанесенням нагрівають до 80°С. Композиції, приготовані відповідно до складу 5, частково тверднуть під дією УФ випромінювання, в той час як, як більш повільний вторинний механізм тверднення, є аміногрупи, які взаємодіють з подвійними зв'язками, зокрема, подвійними зв'язками, що не вступили в реакцію після тверднення під дією УФ випромінювання. Склад 6 (подвійна система, що твердне) Компонент Епоксіакрилат Епоксіакрилат Метакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Домішка Акрилзаміщений амін Кількість в % мас. 20 44 3 7 4 2 20 21 92457 Склад 7 (подвійна система, що твердне, яка містить кобальтовий пігмент) Компонент Поліефіракрилат Поліефіртриакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Кобальт Пігмент Акрілзаміщений амін Кількість в % мас. 44 32 1 3 0,03 0,02 20 Амінозаміщений агент, що твердне, додають в склади як вторинний агент, що твердне, для забезпечення хорошого крізного тверднення і в зоні тіні, куди не проникає УФ світло. Композиції, приготовані відповідно до складу 6 та 7, мають в'язкість приблизно 13000мПа.с при кімнатній температурі. Склад 8 (подвійна система, що твердне) Компонент Епоксіакрилат Епоксіакрилат Метакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Домішка Ізоціанат Кількість в % мас. 22 50 3 9 5 2 9 Ізоціанат додають в склади як вторинний агент, що твердне, для забезпечення хорошого крізного тверднення і в зоні тіні, куди не проникає УФ світло. Склад 9 (подвійна система, що твердне, яка містить кобальтовий пігмент) Компонент Поліефіракрилат Поліефіртриакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Кобальт Пігмент Ізоціанат Кількість в % мас. 49 36 1 4 0,035 0,025 10 Склад 10 (подвійна система, що твердне, яка містить кобальт) Компонент Епоксіакрилат Епоксіакрилат Метакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Кількість в % мас. 24 53 3 9 5 22 Домішка (включаючи кобальт) Пероксидна система 2 4 Пероксид додають в склади як вторинний агент, що твердне, для забезпечення хорошого крізного тверднення і в зоні тіні, куди не проникає УФ світло. Композиції, приготовані відповідно до складу 10, мають в'язкість приблизно 13000мПа.с при кімнатній температурі. Склад 11 (подвійна система, що твердне, яка містить кобальтовий пігмент) Компонент Поліефіракрилат Поліефіртриакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Кобальт Пігмент Пероксидна система Кількість в % мас. 52 39 1 4 0,035 0,025 14 Композиції, приготовані відповідно до складу 11, мають в'язкість приблизно 13000мПа.с при кімнатній температурі. Склад 12 (потрійна система, що твердне, яка містить кобальт) Компонент Епоксіакрилат Епоксіакрилат Метакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Домішки (включаючи кобальт) Пероксидна система Ізоціанат Кількість в % мас. 21 48 3 8 5 2 4 9 Ізоціанат додають разом з пероксидом в систему, що твердне під дією УФ випромінювання, для забезпечення хорошого крізного тверднення і в зоні тіні, куди не проникає УФ світло. Склад 13 (потрійна система, що твердне, яка містить кобальтовий пігмент) Компонент Поліефіракрилат Поліефіртриакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Кобальт Пігмент Ізоціанат Пероксидна система Кількість в % мас. 48 35 1 4 0,035 0,025 8 4 Композиції, приготовані відповідно до складу 13, мають в'язкість приблизно 13000мПа.с при кімнатній температурі. 23 92457 Склад 14 (потрійна система, що твердне, яка містить кобальт) Компонент Епоксіакрилат Епоксіакрилат Метакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Домішки (включаючи Co) Пероксидна система Акрілзаміщений амін Кількість в % мас. 18 42 3 7 4 2 4 20 Аміновмісний агент додають разом з пероксидом в систему, що твердне під дією УФ випромінювання, для забезпечення хорошого крізного тверднення і в зоні тіні, куди не проникає УФ світло. Склад 15 (потрійна система, що твердне, яка містить кобальтовий пігмент) Компонент Поліефіракрилат Поліефіртриакрилат Комбінація фотоініціаторів Модифікатор реологічних властивостей Кобальт Пігмент Пероксидна система Акрілзаміщений амін Кількість в % мас. 42 31 1 3 0,03 0,02 4 19 Композиції, приготовані відповідно до складу 14 та 15, мають в'язкість приблизно 13000мПа.с при кімнатній температурі. Композиції, приготовані відповідно до складів з 8 по 13, мають велику в'язкість; вони нагадують замазки. Вказані композиції показують тиксотропну поведінку. Виявилося неможливо одержати стійкі величини вимірювань для композицій, приготованих відповідно до складів з 8 по 13. Композиції, приготовані відповідно до складів з 6 по 15, не нагрівають; їх наносять при кімнатній температурі. 24 Всі композиції, приготовані відповідно до складів з 1 по 15, наносять (у випадку необхідності нагріває до потрібної температури) вручну, за допомогою струминної повітряної сушарки з обігрівом або без обігріву, або валкової установки для нанесення покриттів. Композиції наносять на одну або декілька пошкоджених ділянок в шарі дерева при виготовленні паркету, меблів з масиву дерева, меблів, облицьованої шаром шпону і/або дошок з масиву дерева. Після нанесення композиції, що твердне, на пошкоджені ділянки на заповнену(і) пошкоджену(і) ділянку(ки) наносять проникну для випромінювання плівку або плексиглас. Потім композиції примушують тверднути крізь плівку за допомогою УФ випромінювання або ламп-спалахів денного світла. У деяких експериментах застосовують систему, зображену на Фіг.2, або систему, зображену на Фіг.3. Композиції, що тверднуть, приготовані відповідно до складів з 1 по 4, забезпечують хороше глибоке тверднення. Композиції, що тверднуть, приготовані відповідно до складів з 5 по 15, забезпечують дуже хороше глибоке тверднення і дуже придатні для усунення відносно глибоких пошкоджень. Було встановлено, що всі субстрати з усуненими пошкодженнями легко зачищаються за допомогою шкурки. Композиції, що тверднуть, на пошкоджених ділянках і на субстраті у випадку застосування для нанесення валкової установки після нанесення герметика, що твердне під дією УФ випромінювання, і стандартного покривного шару мають хороший зовнішній вигляд. Одержані субстрати з усуненими пошкодженнями придатні також для нанесення на них будь-якого покриття, що застосовується в промисловості, зокрема, поліефірної, поліуретанової, нітроцелюлозної покривної композиції і покривної композиції, що твердне під дією кислоти, одно- або двокомпонентної системи на водній основі, системи на водній основі, що твердне під дією УФ випромінювання, або гібрида вказаних систем. Особливо природно виглядають отвори від сучків, усунені за допомогою композицій, що містять пігмент. 25 Комп’ютерна верстка М. Ломалова 92457 Підписне 26 Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601