Пристрій для лиття під низьким тиском

Изобретение относится к области литейного производства и может быть использовано при получении отливок с рассредоточенной литниково-питающей системой. Известна установка литья под низким давлением, в которой форма монтируется на низкой ветви Uобразного металлопровода, Высокая ветвь металлопровода сообщается с атмосферой и содержит боковой сливной клапан, расположенный ниже литникового канала в форме (Австрал. пат. № 502023, кл. В 22 D 17/00, 17/30, опубл. 1979 г. РЖ ТОЛП, 1980). Недостатком этой установки является необходимость слива значительного количества расплава из высокой ветви металлопровода и нарушение контакта расплава с нижней частью формы в каждом цикле литья, что приводит к ухудшению качества расплава, его излишним потерям и образованию окисных плен, часть которых может попасть в отливку. Известна машина литья под низким давлением, содержащая U-образную камеру с расплавом, на нижней ветви которой установлена форма с металлопроводом, а высокая ветвь сообщается с атмосферой и снабжена массивным поршнем для регулирования уровня расплава (Японская заявка № 58-67652, кл. В 22 D 18/08, опубл. 1984 г. РЖ ТОЛП, 1985,10Г288П). Эта машина имеет ряд недостатков. Во-первых, требуется решить вопрос подогрева поршня до требуемой температуры, чтобы не охладить расплав в заливочном устройстве. Во-вторых, если поршень изготовлен из теплоизоляционных материалов, существует вероятность его разрушения. В-третьих, и это главное, в процессе циклических подъемов и опусканий уровня расплава в заливочной горловине на ее стенках и на поверхности поршня наслаиваются окисные плены, которые изменяют "живое" сечение расплава между этими элементами, в результате чего необходимо постоянно корректировать высоту подъема поршня, чтобы во время раскрытия формы и удаления отливки поддерживать контакт расплава с нижней частью формы. Наиболее близким техническим .решением к изобретению является установка для литья под низким давлением, содержащая U-образную камеру с расплавом, на одной ветви которой установлена форма, а вторая ветвь заканчивается сверху сильфоном и снабжена боковым литниковым ходом, сообщающимся с атмосферой (Заявка Японии № 59-215260, кл. В 22 D 18/04, опубл. 1984 г. РЖ ТОЛП, 1986). Недостатком этой установки является сложность поддержания постоянного контакта расплава с нижней частью формы, особенно при заливке расплава через литниковый ход. В основу предполагаемого изобретения поставлена задача выполнения в устройстве для заливки с рассредоточенной литниково-питающей системой под низким давлением специального литникового хода, что приведет к упрощению данного метода литья. Поставленная задача решается тем, что в устройстве для литья под низким давлением, содержащем двухступенчатую герметизированную камеру с литниково-питающими каналами в крышке низкой ступени и с боковым литниковым ходом в высокой ступени, установленную на низкую ступень камеры форму и выполненный в крышке верхней ступени канал, сообщающий камеру с атмосферой и вакуумной системой, согласно изобретению боковой литниковый ход выполнен таким образом, что верхняя точка его соединения с камерой находится на уровне между входами и выходами литниково-питающих каналов. Конструкция устройства поясняется чертежами, где на фиг.1 изображена схема устройства с формой, заполненной расплавом: на фиг.2 - устройство в момент раскрытия формы. Устройство для литья под низким давлением состоит из низкой 1 и высокой 2 ступеней герметизированной камеры с расплавом. В крышке (верхней стенке) низкой ступени, являющейся одновременно нижней частью формы, выполнены литниковопитающие каналы 3, сообщающие камеру с полостью формы 4. Высокая ступень камеры 2 сверху закрыта крышкой 5, в которой выполнен канал 6, сообщающий камеру с атмосферой и вакуумной системой. Литниковый ход 7 выполнен таким образом, что верхняя точка А его соединения с высокой ступенью камеры расположена на уровне в диапазоне высоты литниково-питающих каналов 3. Работает устройство следующим образом. Предварительно обе ступени камеры вместе с литниковым ходом подогреваются до рабочей температуры. На нижнюю ступень камеры 1 устанавливается форма 4. Через литниковый ход 7 заливается расплав до уровня выше рабочей полости формы, как показано на фиг.1. При этом канал 6 сообщает камеру с атмосферой. Одновременно с подъемом расплава в высокой ступени камеры 2 через каналы 3 происходит заливка формы 4. После окончательного заполнения формы делается выдержка на кристаллизацию отливки. После затвердевания отливки канал 6 сообщают с вакуумной системой, обеспечивающей заданную скорость откачки воздуха. По мере понижения давления над зеркалом расплава в высокой ступени камеры 2 в нее всасывается расплав из литникового хода 7. Когда уровень расплава в литниковом ходе опустится ниже точки А, в расплав высокой ступени камеры начнет барботировать воздух или специально подаваемый инертный газ (фиг.2). С этого момента величина вакуума над зеркалом расплава автоматически стабилизируется и равна величине металлостатического напора расплава, расположенного выше точки А. После этого форму 4 раскрывают и удаляют отливку. В это время литниково-питающие каналы 3 частично заполнены жидким металлом, уровень которого совпадает с уровнем точки А. Таким образом, указанное расположение литникового хода, при котором верхняя точка его соединения с камерой расположена между входами и выходами литниково-питающих каналов, обеспечивает с помощью вакуума автоматическое уравновешивание металлостатического напора расплава, находящегося выше уровня литниково-питающих каналов, благодаря чему упрощается задача обеспечения постоянного контакта расплава с нижней частью формы, исключается образование и попадание в отливку окисных плен, а прогрев литниково-питающих каналов до температуры, близкой к температуре расплава, позволяет существенно повысить выход годного.