Калібратор

Пристрій відноситься до галузі пристосувань для поділу сипучих часток різноманітної форми на фракції по величині часток. Може застосовуватися на підприємствах сільського господарства, підприємствах переробної і харчової промисловості. Відомий калібратор, що містить коливне сито, отвір подачі сипучих часток [див. патент України №20833А, МПК В07В1/46. Опубл. 27. 02. 98. Бюл. №1]. Недоліком відомого пристрою є складність дозування необхідної кількості сипучих часток з бункера на сито. Для дозування сипучих часток використовується додатковий дозуючий механізм, що ускладнює конструкцію калібратора. Метою удосконалення є спрощення конструкції калібратора і забезпечення автоматичної подачі (дозування) необхідної кількості сипучих часток на коливні сита і забезпечення автоматичного припинення подачі сипучих часток на сита при припиненні коливання сит. В основу удосконалення поставлена задача, калібратор, що містить коливне сито, отвір подачі сипучих часток, який відрізняється тим, що містить із зазором під отвором подачі сипучих часток коливний піддон, який кінематично з'єднаний із ситом і має можливість разом з ситом коливатися щодо отвору подачі сипучих часток. Технічний результат: спрощена конструкція калібратора, забезпечене автоматичне дозування сипучих часток на коливні сита з автоматичним припиненням подачі сипучих часток на сита при припиненні коливання сит. Пристрій дозволяє забезпечувати синхронну подачу сипучих часток ззовні, наприклад, з бункера або рукава на коливні сита й автоматично припиняти подачу сипучих часток на сита при зупинці сит. Витрата сипучих часток з отвору подачі сипучих часток регулюється величиною зазору між отвором подачі сипучих часток і поверхнею рухливого (коливного) піддона. Зі збільшенням зазору витрата сипучих часток збільшується і навпаки, але існує мінімальна величина зазору, регламентована габаритами сипучих часток. Мінімальна величина щілини зазору для проходу сипучих часток убік сита повинна бути не менш найбільшої довжини сипучої частки. Величина зазору підбирається експериментально конкретно під визначений вид сипучих часток. При зупинці сит при правильному підборі величини зазору відбувається самозапирання руху сипучих часток на рухливому піддоні і припинення руху сипучих часток з отвору подачі сипучих часток на сито. Отвори сита підібрані конкретно під визначений вид сипучих часток. Ефект дозованої подачі часток виникає завдяки самозапиранню руху часток у перетині отвору подачі сипучих часток при русі рухливого піддона. Дозатор у калібраторі виконаний у вигляді взаємного розташування відносно один одного - отвору подачі сипучих часток і рухливої щодо отвор у подачі сипучих часток верхньої поверхні піддона. Пристрій не вимагає для автоматичної роботи ніяких додаткових пристосувань, крім заявлених. Фіг.1. Калібратор. Схема з піддоном. Перелік позначень на кресленнях. 1 - коливне сито; 2 - сипучі частки; 3 - бункер; 4 - отвір подачі сипучих часток на сито; 5 - зазор; 6 - заслінка; 7 - коливний піддон; 8 - отвори в ситі; Пристрій містить, щонайменше, одне коливне сито 1 для калібрування сипучих часток 2 (Фіг.1). Над ситом 1 установлений бункер 3 для сипучих часток 2, що постачений дозатором подачі сипучих часток 2 з бункера 3 на сито 1. Знизу бункер 3 має, щонайменше, один вихідний отвір 4, що відкритий убік сита 1. Між вихідним отвором 4 і ситом 1 виконаний зазор 5. Величина зазору 5 між ситом 1 і низом частини крайок отвору 4 подачі з боку сита 1 може бути більше, ніж із протилежної частини крайок отвору 4 подачі. Величину більшого зазору можливо регулювати заслінкою 6, встановленою у вигляді рухли вої додаткової частини стінки бункера 3. Величина зазору 5 з боку виходу сипучи х часток 2 на сито 1 підбирається за допомогою заслонки 6 експериментально конкретно під визначений вид сипучих часток 2. Величина меншого зазору вибирається з розумінь ковзання коливного піддону 7 бункера 3 об крайки його частини стінок або при установці отвору подачі сипучих часток 2 над ситом 1 величина меншого зазору 2 вибирається з розумінь ковзання по шарі сипучих часток 2 на ситі 1, тобто з урахуванням товщини залишкового шару сипучих часток 2 на ситі 1, що необхідно для запобігання обрушення і руйнування частини насінь або сипучих часток 2. Сито 1 має отвори 8 для проходу сипучих часток 2. Піддоном 7 може бути металевий або пластиковий лист. Сита 1 у калібраторі встановлені з можливістю робити зворотно-поступальні коливання щодо нерухомого отвору 4 подачі сипучи х часток 2 з бункера 3 або рукава роздачі сипучих часток. Сита 1 можуть бути встановлені з ухилом убік ходу р уху сипучи х часток 2 по ситу 1 або горизонтально. Дозатор сипучих часток у калібраторі виконаний неявно у вигляді зазору 5, що утворюється від взаємного розташування відносно один одного - отвору 4 подачі сипучих часток 2 і зверненої до отвору 4 подачі сипучих часток 2 поверхні рухливого щодо отвор у 4 подачі сипучих часток 2 піддону 7 бункера 3. Піддон 7 бункера 3 кінематично з'єднаний із ситом 1 і виконаний з можливістю робити під нижнім нерухомим отвором 4 подачі сипучих часток зворотно-поступальні коливання разом із ситом 1. Піддон 7 установлений зі збільшеним зазором щодо нижньої крайки однієї зі стінок бункера 3, орієнтованим убік сита, і кінематично з'єднаний, щонайменше, з першим по ходу р уху сипучих часток 2 ситом 1. Пристрій працює в такий спосіб, Перед калібруванням конкретного виду сипучих часток 2, наприклад, насінь соняшника, виставляють необхідну величину робочого зазору 5 з боку руху сипучи х часток 2 по ситу 1 за отвором 4 подачі сипучих часток з бункера 3. Наприклад, для соняшника, величина зазору 5 повинна бути більшою, ніж довжина самих великих насінь. Засипають насіння в бункер 3. Приводять у коливальний рух сито 1, що у свою чергу коливається під отвором 4 подачі сипучих часток (насінь) на сито 1, де частина насінь провалюється крізь отвори 8 сита 1 безпосередньо під отвором 4 подачі сипучих часток 2 (насінь). При розташуванні рухливого коливного піддона 7 під отвором 4 сипучі частки безупинно зсковзують з верхньої поверхні піддона 7 на сито 1, де і калібруються отворами 8 сита 1. Ефект дозованої подачі сипучих часток 2 виникає завдяки самозапиранню руху сипучи х часток 2 у перетині отвору 4 подачі сипучих часток 2 при зворотно-поступальному русі (коливанні) сита 1 або рухливого коливного піддона 7 бункера 3 в одну зі сторін. Витрата сипучих часток 2 з отвору 4 подачі сипучих часток 2 регулюється величиною зазору 5 між ним і поверхнею сита 1. Зі збільшенням зазору 5 витрата сипучи х часток 2 збільшується і навпаки, але існує мінімальна величина зазору 5, що регламентована габаритами сипучих часток 2. Мінімальна величина зазору 5 для проходу сипучих часток 2 убік сита 1 повинне бути не менш найбільшої довжини сипучої частки 2. Удосконалення дозволяє забезпечувати синхронну подачу сипучих часток 2 з бункера на коливні сита 1 і автоматично припиняти подачу сипучи х часток 2 з бункера 3 на сита 1 при їхній зупинці. При зупинці сита 1, при правильному підборі величин зазорів 5, відбувається самозапирання руху сипучих часток 2 на ситі 1 із припиненням руху сипучи х часток 2 з отвору 4 подачі сипучих часток 2 на сито 1. Отвори 8 у ситі 1 для калібрування сипучих часток 2 через сито 1 підібрані конкретно під визначений вид сипучих часток 2 таким чином, щоб при припиненні коливання сита 1 відбувалося самозапирання руху сипучи х часток 2 через отвори сита 1. Самозапирання руху сипучих часток 2 відбувається в результаті перекриття отворів сита 1 сипучими частками 2 більшого розміру, чим ті які вже пройшли при калібруванні через сито 1. Пристрій не вимагає для автоматичної роботи ніяких додаткових дозовочних пристосувань, крім заявлених.