Спосіб нанесення оптичного покриття різної форми

Корисна модель відноситься до галузі оптичного і напівпровідникового приладобудування, а саме до способів нанесення оптичного покриття різної форми для елементів інфрачервоної оптики та приладів напівпровідникової фотоніки (джерел інфрачервоного випромінювання, фотоприймачів, оптронів тощо), які працюють в ближній та середній ІЧ-області спектру. Необхідність використання оптичного покриття для елементів інфрачервоної оптики та приладів напівпровідникової фотоніки зумовлена тим, що необхідно одержати хімічно стійкі оптичні покриття прозорі в широкій ІЧ-області спектру із заданим показником заломлення та великим питомим опором. Крім того вони повинні забезпечувати хорошу адгезію до матеріалу напівпровідникового приладу та узгодження з коефіцієнтом термічного розширення, бути технологічними у виготовленні, а також одночасно забезпечувати захист напівпровідникового елемента від механічних пошкоджень, впливу оточуючого середовища та керування діаграмою направленості випромінювання. Розрахунки проведені авторами [1] показали, що здійснюючи герметизацію випромінюючого активного елемента оптично прозорим матеріалом відповідної форми (наприклад, у вигляді напівсфери, або сфери Вейерштраса) з показником заломлення, близьким до показника заломлення напівпровідника, можна теоретично підвищити коефіцієнт виводу випромінювання приблизно на порядок. Перевага такого способу підвищення ефективності випромінювання напівпровідникового елемента полягає в його простоті і технологічності, а також в можливості одночасного забезпечення захисту напівпровідникового елемента від механічних пошкоджень, впливу оточуючого середовища та керування діаграмою направленості випромінювання. Складні халькогенідні стекла (ХС) по своїм фізико-хімічним і оптичним властивостям відповідають вимогам, які необхідні для оптичного захисту приладів напівпровідникової фотоніки, які працюють в ближній та середній ІЧобласті спектру [2]. Відомі високотехнологічні способи нанесення оптичного покриття на основі епоксидних смол або компаундів для напівпровідникових елементів з використанням прес-форм. Однак, відомі епоксидні смоли та компаунди не мають задовільний коефіцієнт пропускання в середній інфрачервоній області спектра та не відповідають вимогам, що ставляться до матеріалів для оптичного захисту приладів напівпровідникової фотоніки, які працюють в середній ІЧ-області спектру. Оптичні покриття на основі ХС, нанесені з використанням прес-форм, задовільно відтворюють форму, але їхня поверхня є шорсткою, що суттєво зменшує зовнішній квантовий вихід випромінювання. Відомий спосіб нанесення оптичного покриття [3], в якому, враховуючи сили адгезійної взаємодії, нанесення оптичного покриття проводиться наперед виготовленими лінзами із ХС з високим значенням температури розм'якшення (Т>500К). Такі лінзи складуються із напівпровідниковим елементом через проміжковий шар ХС із низькою температурою розм'якшення (Т