Спосіб виготовлення інтегрального мікроелектронного твердотільного оптичного пристрою
Номер патенту: 41119
Опубліковано: 12.05.2009
Автори: Сушинський Орест Євгенович, Микитюк Зіновій Матвійович, Шимчишин Мар'ян Олегович, Фечан Андрій Васильович, Коцун Володимир Іванович, Готра Зенон Юрійович
Формула / Реферат
Спосіб виготовлення інтегрального мікроелектронного твердотільного оптичного пристрою, згідно з яким подають оптичне випромінювання в шар планарного світловода із забезпеченням розгалуження оптичного випромінювання, який відрізняється тим, що одну з пластин планарного світловода виготовляють з монокристала кремнію, на якій утворюють систему тонкоплівкових транзисторів з електродами розгалуженої форми, а на іншу пластину наносять провідний шар, і простір між пластинами, товщину якого задають спейсерами, заповнюють рідкокристалічною сумішшю і герметизують.
Текст
Спосіб виготовлення інтегрального мікроелектронного твердотільного оптичного пристрою, згід 3 41119 пластина монокристалу кремнію; 5-тонко плівкові транзистори з електродами. Спосіб виготовлення інтегрального мікроелектронного твердотільного оптичного пристрою полягає у тому, що одну з пластин планарного світловода виготовляють з монокристалу кремнію 4, на якій утворюють систему тонко плівкових транзисторів з електродами розгалуженої форми 5, а на іншу пластину 1 наносять провідний шар 2, і простір між пластинами, товщину якого задають спейсерами, заповнюють рідкокристалічною сумішшю 3 і герметизують. Комп’ютерна верстка Д. Шеверун 4 Керування оптичним випромінюванням в інтегральному мікроелектронному твердотільному оптичному пристрої здійснюється шляхом керуванням оптичними властивостями рідкокристалічної суміші, що приводить до зміни показника заломлення рідкокристалічної суміші і оптичне випромінювання буде розгалужуватись в напрямку прикладання електричного потенціалу до електроду тонко плівкового транзистора, який виготовляють за методами використанням мікроелектронних технологій, і електроду на протилежній підкладці. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for production of integral microelectronic solid state optical device
Автори англійськоюHotra Zenon Yuriiovych, Mykytiuk Zinovii Matviiovych, Fechan Andrii Vasyliovych, Sushynskyi Orest Yevhenovych, Shymchyshyn Marian Olehovych, Kotsun Volodymyr Ivanovych
Назва патенту російськоюСпособ изготовления интегрального микроэлектронного твердотельного оптического устройства
Автори російськоюГотра Зенон Юрьевич, Микитюк Зиновий Матвеевич, Фечан Андрей Васильевич, Сушинский Орест Евгеньевич, Шимчишин Марьян Олегович, Коцун Владимир Иванович
МПК / Мітки
МПК: G02F 1/13
Мітки: спосіб, оптичного, пристрою, мікроелектронного, інтегрального, виготовлення, твердотільного
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-41119-sposib-vigotovlennya-integralnogo-mikroelektronnogo-tverdotilnogo-optichnogo-pristroyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб виготовлення інтегрального мікроелектронного твердотільного оптичного пристрою</a>
Попередній патент: Штам вірусу кліщового енцефаліту flavivirus encephalitidem ixodicum № 2809 для виготовлення специфічних імунобіологічних препаратів
Наступний патент: Спосіб ідентифікації величини стискального зусилля інтелектуального робота
Випадковий патент: Спосіб профілактики синдрому хронічної втоми