Пристрій для випару матеріалів
Номер патенту: 45045
Опубліковано: 26.10.2009
Автори: Осадчук Олександр Володимирович, Осадчук Володимир Степанович, Криночкін Роман Володимирович
Формула / Реферат
Пристрій для випару матеріалів, що складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель зі встановленим над ним колектором пари, розташованих ззовні послідовно функціонально з'єднаних нагрівника, мікропроцесорної системи керування нагрівником і системи контролю стану процесу, з ваговим тензометричним сенсором, розташованим над технологічною камерою в окремому корпусі, з зондом, розміщеним всередині технологічної камери, який відрізняється тим що в нього введений частотний генератор на від'ємному опорі, вхід якого з'єднаний з виходом вагового тензометричного сенсора, а вихід зі входом системи контролю стану процесу.
Текст
Пристрій для випару матеріалів, що складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель зі встановленим над ним колектором пари, 3 45045 В основу корисної моделі поставлено задачу створення пристрою для випару матеріалів, в якому за рахунок введення частотного генератора на від'ємному опорі (ЧГЧ) досягається підвищення точності і надійності системи контролю, що призводить до зростання надійності пристрою в цілому. Задача розв'язується тим, що в пристрій для випару матеріалів, що складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель з встановленим над ним колектором пари, розташованих ззовні послідовно функціонально з'єднаних нагрівника, мікропроцесорної системи керування нагрівником і системи контролю стану процесу, з ваговим тензометричним сенсором, розташованим над технологічною камерою в окремому корпусі, з зондом, розміщеним в середині технологічної камери, введений частотний генератор на від'ємному опорі (ЧГЧ), вхід якого з'єднаний з виходом вагового тензометричного сенсора, а вихід зі входом системи контролю стану процесу. На креслені представлена структурна схема пропонуємого пристрою, де позначено: 1 - нагрівник; 2 - тигель; 3 - мікропроцесорна система керування нагрівником 1; 4 - колектор пари; 5 - технологічна камера; 6 - система контролю стану процесу; 7 - ваговий тензометричний сенсор (ВТС); 8 - корпус; 9 - зонд; 10 - ЧГЧ. Комп’ютерна верстка М. Ломалова 4 При цьому тигель 2 і розміщені над ним колектор пари 4 та зонд 9 знаходяться в технологічній камері 5. А нагрівник 1, мікропроцесорна система керування нагрівником 3, функціонально зв'язана з нею система контролю стану процесу 6, ЧГЧ 10, корпус 8 і встановлений в ньому ВТС 7 розміщені зовні технологічної камери 5. При цьому вихід ВТС 7 зв'язаний зі входом ЧГЧ 10, вихід якого з'єднаний зі входом системи контролю стану процесу 6, а вихід мікропроцесорної системи керування нагрівником 3 зв'язаний зі входом керування нагрівника 1. Пристрій працює наступним чином. Під час проведення процесу пара матеріалу з тигля 2 осаджується на колекторі пари 4 і зонді 9. Технологічна камера 5 та корпус 8 є вакумованими об'ємами. ВТС 7, виробляє аналоговий сигнал корельований зі зміною ваги нанесеного на зонді 9 і відповідно на колекторі пари 4 покриття. ЧГЧ 10 проводить двох етапне перетворення сигналу спочатку у частотно-модульований, а потім у цифровий вигляд, на основі якого система контролю стану процесу 6 здійснює через мікропроцесорну систему керування нагрівником 3 відповідно до програми заданого технологічного процесу вплив на нагрівник 1, результатом якого є підтримка стану процесу в рамках заданих технологічних умов. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for vaporation of materials
Автори англійськоюOsadchuk Volodymyr Stepanovych, Osadchuk Oleksandr Volodymyrovych, Krynochkin Roman Volodymyrovych
Назва патенту російськоюУстройство для испарения материалов
Автори російськоюОсадчук Владимир Степанович, Осадчук Александр Владимирович, Криночкин Роман Владимирович
МПК / Мітки
МПК: C23C 14/00
Мітки: матеріалів, випару, пристрій
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-45045-pristrijj-dlya-viparu-materialiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для випару матеріалів</a>
Попередній патент: Масажне крісло
Наступний патент: Спосіб доочистки стічних вод від сполук фосфору
Випадковий патент: Спосіб термічної обробки двошарових виливків із високолегованого чавуну