Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

1. Установка для електролітно-плазмової обробки, що містить станину, механізм переміщення виробу, ванну з електролітом, джерело живлення, яка відрізняється тим, що установка забезпечена екрануючою рамкою, яка встановлена еквідистантно кромці оброблюваного виробу.

2. Установка по п. 1, яка відрізняється тим, що зазор між виробом і рамкою встановлюють в межах 2-5 мм.

Текст

1. Установка для електролітно-плазмової обробки, що містить станину, механізм переміщення виробу, ванну з електролітом, джерело живлення, яка відрізняється тим, що установка забезпечена екрануючою рамкою, яка встановлена еквідистантно кромці оброблюваного виробу. 2. Установка по п.1, яка відрізняється тим, що зазор між виробом і рамкою встановлюють в межах 2-5мм. (19) (21) u200909448 (22) 14.09.2009 (24) 10.03.2010 (46) 10.03.2010, Бюл.№ 5, 2010 р. (72) КОЦЮБА ВІКТОР ЮРІЙОВИЧ, ДОКУТОВИЧ АНАТОЛІЙ МИКОЛАЙОВИЧ, ПШЕНИЧНИЙ ВАДИМ МИКОЛАЙОВИЧ, СЕРГІЄНКО ВІКТОР МИКОЛАЙОВИЧ (73) ВІДКРИТЕ АКЦІОНЕРНЕ ТОВАРИСТВО "МОТОР СІЧ" 3 48203 5, на якому закріплені оброблюваний виріб 6 і рамка 7. При цьому спочатку занурюється в електроліт рамка 7, а потім виріб 6. При повному зануренні виробу 6 в електроліт 3, наявність рамки 7 дозволяє забезпечити рівномірну обробку по всій поверхні виробу 6. При цьому зазор t між рамкою 7 і виробом 6 встановлюють в межах 2-5мм. Комп’ютерна верстка Н. Лиcенко 4 Приклад виконання. Оброблялася пластина 60×50×0,3мм. З рамкою 63×53мм. Зазор між пластиною і рамкою складав 3,0мм. Час обробки 2 хвилини. Електроліт сірчанокислий амоній. Після обробки ґрат відсутній, виріб відповідає вимогам креслення. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Plant for electrolyte-plasma treatment

Автори англійською

Kotsiuba Viktor Yuriiovych, Dokutovych Anatolii Mykolaiovych, Pshenychnyi Vadym Mykolaiovych, Serhiienko Viktor Mykolaiovych

Назва патенту російською

Установка для электролитно-плазменной обработки

Автори російською

Коцюба Виктор Юрьевич, Докутович Анатолий Николаевич, Пшеничный Вадим Николаевич, Сергиенко Виктор Николаевич

МПК / Мітки

МПК: C25F 3/00

Мітки: установка, електролітно-плазмової, обробки

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-48203-ustanovka-dlya-elektrolitno-plazmovo-obrobki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Установка для електролітно-плазмової обробки</a>

Подібні патенти