Відбитковий силіконовий матеріал сіеласт к база
Номер патенту: 57188
Опубліковано: 10.02.2011
Автори: Голік Віктор Павлович, Черняєв Святослав Володимирович, Янішен Ігор Володимирович, Перешивайлова Ірина Олександрівна, Томілін В'ячеслав Геннадійович, Довгопол Юрій Іванович
Формула / Реферат
Відбитковий силіконовий матеріал Сіеласт, що включає силіконовий каучук та мікросфери скляні, який відрізняється тим, що в рецептуру Сіеласт К база додатково вводять діоксид кремнію, олію вазелінову, олію м'яти перцевої та відправну суміш пігменту жовтого в наступному співвідношенні, мас. %:
каучук синтетичний низькомолекулярний СКТН"Г"
19,16
каучук силіконовий СКТ "група 1"
18,15
діоксид кремнію
30,93
мікросфери скляні
10,76
олія вазелінова
4,0
олія м'яти перцевої
0,17
відправна суміш пігменту жовтого
16,83.
Текст
Відбитковий силіконовий матеріал Сіеласт, що включає силіконовий каучук та мікросфери скляні, 3 57188 Сіеласт-05 включає, в мас.%: силіконовий каучук СКТ-М - 23,25, силіконовий каучук СКТ - 18,4, окис алюмінію - 6,4, окис цинку - 2,8, склонаповнювач - 38,6, продукт АГМ-9 - 0,1, продукт АДЕ-3 0,05 [Н.Г. Аболмасов, Н.Н. Аболмасов, В.А. Бычков, А. Аль-Хаким. Ортопедическая стоматология. - Москва, 2002; А.В. Цимбалистов, С.И. Козицына, Е.Д. Жидких, И.В. Войтецкая. Оттискные материалы и технология их применения. - СанктПетербург, 2001]. Даний відбитковий силіконовий матеріал (Сіеласт-05) є найбільш близьким до того, що заявляється, за складом та властивостями. В основу корисної моделі покладено задачу розширення арсеналу високов'язких відбиткових силіконових матеріалів за рахунок створення Сіеласт К база. Задачу, яку покладено в основу корисної моделі, вирішують тим, що у відомий відбитковий силіконовий матеріал Сіеласт, який включає силіконовий каучук та мікросфери скляні, згідно з ко 4 рисною моделлю, до рецептури Сіеласт К база додатково вводять діоксид кремнію, олію вазелінову, олію м'яти перцевої та відправну суміш пігменту жовтого в наступних мас.%: каучук синтетичний низькомолекулярний СКТН"Г" 19,16 каучук силіконовий СКТ "група 1" 18,15 діоксид кремнію 30,93 мікросфери скляні 10,76 олія вазелінова 4,0 олія м'яти перцевої 0,17 відправна суміш пігменту жовтого 16,83. Технічний ефект корисної моделі обумовлений якісними та кількісними складовими рецептури. В залежності від потенціального ризику використання матеріали Сіеласт К база відносяться до класу ІДСТУ 4388. Матеріали Сіеласт К база відповідають вимогам міжнародного стандарту ІСО 4823 і мають наступні властивості (табл.1) Таблиця 1 № з/п Назва показника 1 Зовнішній вигляд 2 3 4 5 6 7 8 9 10 Од. виміру Консистенція Час змішування Загальний робочий час, не менше Час твердіння, не більше Деформація при стисканні Відновлення після деформації, не менше Зміна розмірів через 24 год., не більше Точність відтворення, ширина лінії Сумісність з гіпсом, ширина лінії мм с хв. хв. % % % мм мм Норма Однорідна маса жовтих відтінків без сторонніх включень не більше 32 30±1 1 6 0,8-20 96,5 1,5 0,050±0,008 0,050±0,008 Примітка - колір матеріалів еталоном не регламентується Матеріал Сіеласт К база виготовляють наступним чином: У змішувач з гвинтовою передачею завантажують розраховану кількість каучуку синтетичного низькомолекулярного СКТН"Г", каучуку силіконового СКТ "група 1", олії вазелінової. Перемішують. Затим добавляють порціями діоксид кремнію, мікросфери скляні, перемішують до гомогенного стану пастоподібної маси, в яку добавляють розраховану кількість олії м'яти перцевої та відправної суміші пігменту жовтого. Одержану пасту вивантажують в ємність і передають на розфасовку в банки. Матеріал Сіеласт К база використовують наступним чином: Віддозовують за допомогою мірника пасту Сіеласт К база. Добавляють гель каталізатор із розрахунку на 1 мірник одну довжину діаметру мірника (3,8 см). Перемішують пасту з гелем каталізатором в руках до однорідності кольору (30 Комп’ютерна верстка А. Рябко сек). Перемішану масу поміщають на ложку і вводять в порожнину рота не пізніше ніж через 1 хв. після початку змішування. Через 3-4 хв. маса набуває пружності і втрачає пластичність, що є ознакою її готовності. Переконавшись в остаточному твердінні маси, відбиток виводять із порожнини рота. Сіеласт К база, високов'язкий, тип 1 використовують для виготовлення первинного відбитку за методом двоетапного виготовлення відбитків. В комбінації з Сіеластом К коректор матеріал використовують при виготовленні незнімних та бюгельних протезів. Сіеласт К база може мати й самостійне використання. Сіеласт К база являє собою наповнену силіконову композицію холодного твердіння конденсаційного типу. При змішуванні пасти Сіеласт К і гелю каталізатора утворюється еластичний вулканізат. Матеріал легко змішується, дуже легко формується, дає точні відбитки. Підписне Тираж 23 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюImpression silicone material sielast k base
Автори англійськоюHolik Viktor Pavlovych, Yanishen Ihor Volodymyrovych, Tomilin Viacheslav Hennadiiovych, Dovhopol Yurii Ivanovych, Cherniaev Sviatoslav Volodymyrovych, Pereshyvailova Iryna Oleksandrivna
Назва патенту російськоюОттискной силиконовый материал сиэласт k база
Автори російськоюГолик Виктор Павлович, Янишен Игорь Владимирович, Томилин Вячеслав Геннадиевич, Довгопол Юрий Иванович, Черняев Святослав Владимирович, Перешивайлова Ирина Александровна
МПК / Мітки
МПК: C08L 83/04
Мітки: відбитковий, база, силіконовий, сіеласт, матеріал
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-57188-vidbitkovijj-silikonovijj-material-sielast-k-baza.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Відбитковий силіконовий матеріал сіеласт к база</a>
Попередній патент: Силіконовий відбитковий матеріал сіеласт к
Наступний патент: Спосіб моделювання пародонтита
Випадковий патент: Спосіб одержання фільтруючого матеріалу з розплаву полімеру