Пристрій для вибухової обробки пласта

Пристрій для вибухової обробки пласта, який містить циліндричний корпус, в якому розташована циліндрична герметична капсула, який відрізняється тим, що зовнішня бічна поверхня капсули покрита шаром вибухової речовини 5 = М/(2тггіг ср р, де М - необхідна маса вибухової речовини, h - висота циліндричної капсули, гс = (R + r)/2 'ер середній радіус циліндричного шару вибухової речовини, R і г - ЗОВНІШНІЙ і внутрішній радіуси шару вибухової речовини, р - густина вибухової речовини Здійснення винаходу досягається наступним чином В свердловину 1 на геофізичному кабелі 2 опускають в рідину 3 пристрій для вибухової обробки пласта 4 Після розміщення пристрою у рідині в свердловині в інтервалі оброблюваного пласта підривають заряд При цьому підривання шару вибухової речовини здійснюють із забезпеченням симетрії вибухових хвиль, що в подальшому процесі розповсюдження хвиль призводить до їх зіткнення на осі циліндричної капсули В результаті зіткнення амплітуда результуючих хвиль подвоюється і в подальшому такі хвилі розповсюджуються в напрямі від осі циліндричної капсули до пласта Досягнуте підвищення амплітуди забезпечує більш потужну вибухову дію на пласт, що супроводжується наведенням в породі пласта додаткової штучної тріщинуватості, що сприяє підвищенню продуктивності оброблюваних свердловин Досягнення технічного результату від застосування пристрою обумовлюється завдяки забезпеченню при підриванні шару вибухової речовини симетрії вибухових хвиль, що дозволяє здійснити більш потужний вибуховий вплив на продуктивний пласт з додатковим підвищенням проникності породи пласта в привибійній зоні 00 1 о (О 60718 На кресленні (фіг) приведена схема розташуСписок використної літератури вання пристрою для вибухової обробки пласта у 1 Патент 9701 А, Україна МКИ Е 21 В 43/25 Спосвердловині На кресленні позначено 1 сіб створення депресії на пласт і пристрій для його свердловина, 2 - геофізичний кабель, 3 - рідина, 4 здійснення /Лисюк М О , Білован А Ф , Маряк С І , - пласт, 5 - циліндрична герметична капсула, 6 Гушул В В Заявлено 0512 94, Опубліковано зовнішня бічна поверхня капсули, 7 - шар вибухо30 09 96 Бюл № 3 / вої речовини, 8 - циліндричний корпус 2 РЫБКИН С Г , РЫБКИН А 3 , Хренов Л С СправочЦя заявка на деклараційний патент України ник по математике М Высшая школа, 1964, с частково підготовлена в рамках проекту № 1747 165 Науково-технологічного центру в Україні (НТЦУ) Комп'ютерна верстка М Клюкш Підписне Тираж39 прим Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, Львівська площа, 8, м Київ, МСП, 04655, Україна ДП "Український інститут промислової власності", вул Сім'ї Хохлових, 15, м Київ, 04119