Спосіб очищення газів від сірководню
Номер патенту: 77307
Опубліковано: 15.11.2006
Автори: Калимон Ярослав Андрійович, Яворський Віктор Теофілович, Слюзар Андрій Володимирович
Формула / Реферат
Спосіб очищення газів від сірководню абсорбцією поглинальним розчином, що містить кальциновану соду, натрію тіосульфат і хінгідронну смолу, який відрізняється тим, що використовують поглинальний розчин з концентрацією натрію тіосульфату 200-300 кг/м3 за температури процесу 303-318 К.
Текст
Спосіб очищення газів від сірководню абсорбцією поглинальним розчином, що містить кальциновану соду, натрію тіосульфат і хінгідронну смолу, який відрізняється тим, що використовують поглинальний розчин з концентрацією натрію тіосульфату 200-300 кг/м3 за температури процесу 303-318 К. (19) (21) 20041210494 (22) 20.12.2004 (24) 15.11.2006 (46) 15.11.2006, Бюл. № 11, 2006 р. (72) Яворський Віктор Теофілович, Калимон Ярослав Андрійович, Слюзар Андрій Володимирович (73) Національний університет "Львівська політехніка" (56) SU 574223, 30.09.1977 SU 1344395, 15.10.1987 3 77307 4 суміші від сірководню, парціальний тиск якого роблення до полімерної модифікації сірки. Напри1013Па, проводять поглинальним розчином в клад, вихід полімерної сірки при переробленні відскруберній камері з ковшоподібними диспергатопрацьованого поглинального розчину кислотним рами. Концентрації компонентів поглинального розкладом [патент України №43216А від розчину 10г/л Na2CO3, 200г/л Na2S2O3 і 5г/л хінгід15.11.2001. Бюл. №10] складає 70,2-70,7%. рону, температура 303К, коефіцієнт надлишку розПриклади 2-4. Очищення сірководеньповітрячину 2,0; швидкість газу в абсорбері 1,37·10-2м/с; ної суміші від сірководню, парціальний тиск якого інтенсивність розбризкування: Vлін=10м/с; 1013Па, проводять поглинальним розчином в S=3шт/м. При цьому ступінь очищення газу скласкруберній камері з ковшоподібними диспергатодає 96,1%, ступінь перетворення сірководню в рами за тих же умов. Змінними умовами є темпесірку - 87,4%, в натрію тіосульфат - 12,6%. ратура і концентрація натрію тіосульфату. РезульВідпрацьований розчин придатний для перетати представлені в таблиці. Таблиця Характеристики процесу очищення кисневмісного газу від сірководню Концентрація Температура, Густина розчину, Ступінь абсо- Ступінь перетворен- Ступінь перетворення Na2S2O3, кг/м3 К кг/м рбції, % ня H2S в S, % H2S в Na2S2O3, % 200 303 1150 96,1 87,4 12,6 250 303 1186 92,3 90,7 9,3 250 318 1181 96,2 75,1 24,9 300 318 1218 94,4 76,8 23,2 Підвищення температури понад 318К призводить до зменшення розчинності кисню і сірководню в поглинальному розчині. За рахунок зменшення розчинності кисню погіршується "хінонооборот", тобто процес переходу хінгідронної смоли з відновної форми в окисну, що спри Комп’ютерна верстка О. Гапоненко чиняє необхідність проведення регенерації поглинального розчину в іншому апараті. Збільшення концентрації натрію тіосульфату в поглинальному розчині вище 300г/л призводить до того, що зростає в'язкість, падає швидкість дифузії і ступінь абсорбції сірководню. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for the purification of gases of hydrogen sulfide
Автори англійськоюYavorskyi Viktor Teofilovych, Kalymon Yaroslav Andriiovych, Sliuzar Andrii Volodymyrovych
Назва патенту російськоюСпособ очистки газов от сероводорода
Автори російськоюЯворський Виктор Теофилович, Калимон Ярослав Андреевич, Слюзар Андрей Владимирович
МПК / Мітки
МПК: B01D 53/14, C01B 17/04
Мітки: очищення, сірководню, газів, спосіб
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-77307-sposib-ochishhennya-gaziv-vid-sirkovodnyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб очищення газів від сірководню</a>
Попередній патент: Застосування монокристала напівпровідникового твердого розчину селеніду галію-індію (ga0.3in0.7)2se3 як матеріалу для акустооптичного модулятора лазерного випромінювання
Наступний патент: Спосіб одержання кристалів каротиноїдів
Випадковий патент: Спосіб контролю забрудненості поверхні ізоляторів під робочою напругою та замикань фази на землю