Є ще 12 сторінок.

Дивитися все сторінки або завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

1. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми, що містить принаймні один генератор плазми, і включає:

катод, що витрачається, з торцевою робочою поверхнею, яка емітує потік плазми катодного матеріалу при запалюванні вакуумної дуги;

співвісний із згаданим катодом трубчастий анод;

фокусуючі плазму катодну і анодну магнітні котушки, що охоплюють згаданий катод, що витрачається, і згаданий анод, відповідно;

згаданий катод, що витрачається, трубчастий анод і магнітні котушки, що складають перший плазменний генератор;

приєднаний до торця анода першого плазменного генератора плазменний фільтр, що містить в собі вхідний і вихідний прямолінійні плазмоводи з охоплюючими їх магнітними котушками;

згадані плазмоводи і анод згаданого плазменного генератора, які створюють плазмоведучий канал, що має принаймні один вихідний отвір і має конфігурацію, що виключає пряму видимість між катодом згаданого плазменного генератора і згаданим вихідним отвором;

а також джерела живлення для згаданої вакуумної дуги і згаданих магнітних котушок,

яке відрізняється тим, що

згаданий вхідний і вихідний прямолінійні плазмоводи з'єднані під прямим кутом через отвір в стінці вхідного плазмоводу, що служить для проходження плазми між згаданими вхідними і вихідним прямолінійними плазмоводами;

згадані магнітні котушки постійного струму, навколишні, вхідний і вихідний прямолінійні плазмоводи доповнені першою і другою коректуючими магнітними котушками для корекції магнітних силових ліній, що розташовані навколо згаданих вхідного і вихідного прямолінійних плазмоводів в згаданому прямокутному переході і забезпечені джерелами живлення;

згадані джерела живлення для згаданих магнітних котушок постійного струму, що охоплюють згадані вхідний і вихідний прямолінійні плазмоводи, і для згаданих котушок коректування магнітних силових ліній включають магнітні засоби коректування ліній магнітного поля всередині згаданого плазмоведучого каналу.

2. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що згаданий засіб коректування магнітного поля в згаданому фільтрі виконаний у вигляді першої і другої коректуючих котушок, що охоплюють вхідний плазмовід по периметру з боку першої вхідної котушки і другої вхідної котушки, відповідно, причому згадані котушки розміщені переважно впритул одна до одної, а їх сегменти зі сторони вихідного плазмоводу відігнуті в протилежні сторони і охоплюють згаданий вихідний плазмовід по його периметру.

3. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що містить додаткову магнітну котушку, розміщену коаксіально з вихідним плазмоводом навпроти його входу у бокову поверхню згаданого вхідного плазмоводу, причому струми в обмотках згаданої додаткової котушки і згаданої котушки вихідного плазмоводу створюють магнітні поля протилежних напрямків.

4. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 3, яке відрізняється тим, що внутрішній діаметр згаданої додаткової магнітної котушки має величину, проміжну між зовнішнім діаметром згаданого вхідного плазмоводу і довжиною згаданого вхідного плазмоводу.

5. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що згадані магнітні котушки постійного струму, охоплюючі згаданий прямолінійний вхідний плазмовід, складаються з першої магнітної котушки вхідного плазмоводу, розміщеної на частині згаданого прямолінійного вхідного плазмоводу з відкритим вхідним торцем, і другої магнітної котушки вхідного плазмоводу, розміщеної у віддаленому закритому торці другої частини вхідного прямолінійного плазмоводу.

6. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової по п. 1, яке відрізняється тим, що струм, що створює магнітне поле однієї полярності, тече в згаданій першій коректуючій магнітній котушці і в згаданій першій магнітній котушці вхідного плазмоводу, а струм, що створює магнітне поле протилежної полярності, тече в обмотках згаданої другої магнітної коректуючої котушки і згаданої другої магнітної котушки вхідного плазмоводу.

7. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що згаданий прямолінійний вхідний плазмовід містить електрично ізольований електрод, розміщений у дальньому по відношенню до згаданого трубчастого анода закритому торці згаданої другої частини вхідного плазмоводу.

8. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що містить другий генератор плазми, приєднаний до торця згаданого вхідного плазмоводу з боку, віддаленого від згаданого першого генератора плазми.

9. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що в стінці згаданого вхідного плазмоводу навпроти згаданого отвору є щілина по периметру цього плазмоводу, закрита зовні електрично ізольованим екраном, причому місцерозташування згаданих щілини і екрана співпадає з місцеположенням магнітної щілини в щілинний області магнітного поля, що створюється магнітними котушками в згаданих вхідному і вихідному плазмоводах.

10. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що струм, що створює магнітне поле однієї полярності, тече в згаданій першій коректуючій магнітній котушці і в згаданій першій магнітній котушці вхідного плазмоводу, а також струм, що створює магнітне поле тієї ж полярності, тече в обмотках згаданої додаткової магнітної котушки і в згаданій магнітній котушці вихідного прямолінійного плазмоводу.

11. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що плазмоводи містять розміщені на їх стінках пластинчасті ребра для уловлювання макрочастинок з плазми.

12. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми, що містить:

вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток;

магнітний пристрій для розділення часток, розміщений коаксіально із згаданим вакуумно-дуговим пристроєм для генерування часток, і що включає частину, зігнену під прямим кутом, що з'єднує вхідну і вихідну частини каналу для проходження частинок;

згаданий магнітний пристрій для розділення часток, що містить сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля, розташованих на деякому віддаленні від зігненої під прямим кутом частини каналу для проходження часток; а також другу сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля, розміщених вздовж каналу для проходження часток впритул до згаданого вигину каналу для проходження часток,

яке відрізняється тим, що

згадана друга сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля включає також магнітну котушку, розміщену поблизу вхідної частини каналу для проходження часток у його вигнуту під прямим кутом і коаксіально з вихідною частиною згаданого каналу для проходження частинок, і

згадана друга сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля включає також пару сідлоподібних магнітних котушок, що охоплюють згадану вхідну частину з примиканням до згаданої вихідної частини згаданого каналу для проходження часток безпосередньо перед і за згаданим вигином під прямим кутом.

13. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 12, яке відрізняється тим, що згаданий вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток містить перший і другий генератори плазми, що з'єднані із згаданим магнітним пристроєм для розділення часток.

14. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 13, яке відрізняється тим, що згаданий вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток включає третій і четвертий вакуумно-дугові генератори плазми, що з'єднані з відповідними частинами згаданого магнітного пристрою для розділення часток.

15. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 14, яке відрізняється тим, що згаданий вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток включає катоди з різних матеріалів.

16. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 12, яке відрізняється тим, що включає сукупність вихідних частин згаданого пристрою для розділення частинок, розміщених послідовно і перпендикулярно до вхідної частини згаданого пристрою для розділення частинок.

17. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 12, яке відрізняється тим, що включає додаткову подовжуючу секцію, забезпечену магнітною котушкою і зістикувану з вихідною частиною згаданого магнітного пристрою для розділення часток з боку вихідного отвору.

18. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 16, яке відрізняється тим, що проходження електронів і іонів забезпечується умовою ρе<< а < ρі,

де ρе і ρі - ларморовські радіуси електронів і іонів, відповідно,

а - радіус каналу проходження часток в згаданому пристрої для розділення часток.

19. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 18, яке відрізняється тим, що згадана перша сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля в згаданому магнітному пристрої для розділення частинок забезпечує створення магнітного поля, в якому ларморовські радіуси електронів і іонів відповідають умові ρе<< а < ρі.

20. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми, що містить:

вакуумно-дугове джерело електронів, іонів і інших додаткових часток, що генеруються вакуумною дугою;

вхідний елемент трубопроводу, розміщений коаксіально із згаданим вакуумно-дуговим джерелом електронів, іонів і інших додаткових часток, що генеруються вакуумною дугою;

першу електромагнітну котушку вхідного трубопровода, що охоплює згаданий вхідний елемент трубопроводу і що живиться від джерела електроживлення заданої потужності;

вихідний елемент трубопроводу, розміщений ортогонально і послідовно із згаданим вхідним елементом трубопроводу, у якому електрони і іони перебувають під впливом згаданої першої електромагнітної котушки вхідного трубопроводу;

вихідну електромагнітну котушку, що охоплює згаданий вихідний елемент трубопроводу;

другу електромагнітну котушку вхідного трубопроводу, що охоплює згаданий вхідний елемент трубопроводу з боку його послідовного з'єднання із згаданим вихідним елементом трубопроводу і що живиться від джерела електроживлення заданої потужності,

яке відрізняється тим, що містить

першу сідлоподібну магнітну котушку для корекції проходження іонів, що охоплює згаданий вхідний елемент трубопроводу і розміщена безпосередньо перед згаданим вихідним елементом трубопроводу, і частково охоплює згаданий вихідний елемент трубопроводу поруч із згаданим вхідним елементом трубопроводу, і що живиться від джерела електроживлення заданої потужності;

другу сідлоподібну магнітну котушку для корекції проходження іонів, що охоплює згаданий вхідний елемент трубопроводу і розміщена безпосередньо за згаданим вихідним елементом трубопроводу, і частково охоплює згаданий вихідний елемент трубопроводу поруч із згаданим вхідним елементом трубопроводу, і що живиться від джерела електроживлення заданої потужності.

21. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 20, яке відрізняється тим, що включає додаткову магнітну котушку, розміщену коаксіально із згаданим вихідним елементом трубопроводу на протилежній стороні згаданого вхідного елемента трубопроводу по відношенню до згаданого вихідного елемента трубопроводу і що живиться від джерела електроживлення заданої потужності.

22. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 20, яке відрізняється тим, що включає електрод, розміщений у вхідному трубопроводі за згаданим вихідним елементом трубопроводу і згаданими коректуючими магнітними котушками в безпосередній близькості до згаданої другої електромагнітноїкотушки вхідного трубопроводу.

23. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 20, яке відрізняється тим, що містить вихідний отвір на кінці згаданого вихідного елемента трубопроводу, віддаленому по відношенню до згаданого вхідного елемента трубопроводу, і в якому, по суті, ортогональне з'єднання вхідного і вихідного елементів трубопроводу утворюють вигин проходу, що виключає пряму видимість між катодом згаданого вакуумно-дугового джерела і згаданим вихідним отвором вихідного трубопроводу.

24. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 23, яке відрізняється тим, що містить подовжуючу частину вихідного трубопроводу, забезпечену котушкою і розміщену між згаданим вихідним елементом трубопроводу і згаданим вихідним отвором.

25. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 20, яке відрізняється тим, що містить закриту екраном щілину в згаданому вхідному елементі трубопроводу навпроти вхідного отвору в згаданий вихідний елемент трубопроводу, і в якому згадана щілина суміщена з областю щілини в розподілі магнітного поля всередині вхідного і вихідного елементів трубопроводу.

26. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 20, яке відрізняється тим, що згадані джерела електроживлення заданої потужності є джерелами електроживлення постійного струму.

27. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 20, яке відрізняється тим, що згадане вакуумно-дугове джерело електронів, іонів і інших часток живиться або від джерела живлення постійного струму, або від імпульсного джерела живлення.

Текст

1. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми, що містить принаймні один генератор плазми, і включає: катод, що витрачається, з торцевою робочою поверхнею, яка емітує потік плазми катодного матеріалу при запалюванні вакуумної дуги; співвісний із згаданим катодом трубчастий анод; фокусуючі плазму катодну і анодну магнітні котушки, що охоплюють згаданий катод, що витрачається, і згаданий анод, відповідно; згаданий катод, що витрачається, трубчастий анод і магнітні котушки, що складають перший плазменний генератор; приєднаний до торця анода першого плазменного генератора плазменний фільтр, що містить в собі вхідний і вихідний прямолінійні плазмоводи з охоплюючими їх магнітними котушками; згадані плазмоводи і анод згаданого плазменного генератора, які створюють плазмоведучий канал, що має принаймні один вихідний отвір і має конфігурацію, що виключає пряму видимість між катодом згаданого плазменного генератора і згаданим вихідним отвором; а також джерела живлення для згаданої вакуумної дуги і згаданих магнітних котушок, яке відрізняє ться тим, що згаданий вхідний і вихідний прямолінійні плазмоводи з'єднані під прямим кутом через отвір в стінці вхідного плазмоводу, що служить для проходжен 2 (19) 1 3 84675 першої магнітної котушки вхідного плазмоводу, розміщеної на частині згаданого прямолінійного вхідного плазмоводу з відкритим вхідним торцем, і другої магнітної котушки вхідного плазмоводу, розміщеної у віддаленому закритому торці другої частини вхідного прямолінійного плазмоводу. 6. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової по п. 1, яке відрізняється тим, що стр ум, що створює магнітне поле однієї полярності, тече в згаданій першій коректуючій магнітній котушці і в згаданій першій магнітній котушці вхідного плазмоводу, а струм, що створює магнітне поле протилежної полярності, тече в обмотках згаданої другої магнітної коректуючої котушки і згаданої другої магнітної котушки вхідного плазмоводу. 7. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що згаданий прямолінійний вхідний плазмовід містить електрично ізольований електрод, розміщений у дальньому по відношенню до згаданого трубчастого анода закритому торці згаданої другої частини вхідного плазмоводу. 8. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що містить другий генератор плазми, приєднаний до торця згаданого вхідного плазмоводу з боку, віддаленого від згаданого першого генератора плазми. 9. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що в стінці згаданого вхідного плазмоводу навпроти згаданого отвору є щілина по периметру цього плазмоводу, закрита зовні електрично ізольованим екраном, причому місцерозташування згаданих щілини і екрана співпадає з місцеположенням магнітної щілини в щілинний області магнітного поля, що створюється магнітними котушками в згаданих вхідному і ви хідному плазмоводах. 10. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що стр ум, що створює магнітне поле однієї полярності, тече в згаданій першій коректуючій магнітній котушці і в згаданій першій магнітній котушці вхідного плазмоводу, а також струм, що створює магнітне поле тієї ж полярності, тече в обмотках згаданої додаткової магнітної котушки і в згаданій магнітній котушці ви хідного прямолінійного плазмоводу. 11. Джерело фільтрованої вакуумно-дугової плазми за п. 1, яке відрізняється тим, що плазмоводи містять розміщені на їх стінках пластинчасті ребра для уловлювання макрочастинок з плазми. 12. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми, що містить: вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток; магнітний пристрій для розділення часток, розміщений коаксіально із згаданим вакуумно-дуговим пристроєм для генерування часток, і що включає частину, зігнену під прямим кутом, що з'єднує вхідну і вихідну частини каналу для проходження частинок; згаданий магнітний пристрій для розділення часток, що містить сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля, розташованих на деякому віддаленні від зігненої під прямим кутом частини каналу для проходження 4 часток; а також другу сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля, розміщених вздовж каналу для проходження часток впритул до згаданого вигину каналу для проходження часток, яке відрізняє ться тим, що згадана друга сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля включає також магнітну котушку, розміщену поблизу вхідної частини каналу для проходження часток у його вигнуту під прямим кутом і коаксіально з вихідною частиною згаданого каналу для проходження частинок, і згадана друга сукупність електромагнітних елементів для генерування магнітного поля включає також пару сідлоподібних магнітних котушок, що охоплюють згадану вхідну частин у з примиканням до згаданої вихідної частини згаданого каналу для проходження часток безпосередньо перед і за згаданим вигином під прямим кутом. 13. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 12, яке відрізняється тим, що згаданий вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток містить перший і другий генератори плазми, що з'єднані із згаданим магнітним пристроєм для розділення часток. 14. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 13, яке відрізняється тим, що згаданий вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток включає третій і четвертий вакуумно-дугові генератори плазми, що з'єднані з відповідними частинами згаданого магнітного пристрою для розділення часток. 15. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 14, яке відрізняється тим, що згаданий вакуумно-дуговий пристрій для генерування часток включає катоди з різних матеріалів. 16. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 12, яке відрізняється тим, що включає сукупність вихідних частин згаданого пристрою для розділення частинок, розміщених послідовно і перпендикулярно до вхідної частини згаданого пристрою для розділення частинок. 17. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 12, яке відрізняється тим, що включає додаткову подовжуючу секцію, забезпечену магнітною котушкою і зістикувану з вихідною частиною згаданого магнітного пристрою для розділення часток з боку вихідного отвор у. 18. Джерело очищеної вакуумно-дугової плазми за п. 16, яке відрізняється тим, що проходження електронів і іонів забезпечується умовою ρе

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Source of filtered plasma of cathodic arc (embodiments)

Автори англійською

Aksionov Ivan Ivanovych, Strelnytskyi Volodymyr Yevheniiovych, Vasyliev Volodymyr Vasyliovych, Voievodin, Andriy A., Jones, John G., Zabinski, Jeffrey S.

Назва патенту російською

Источник фильтрованной плазмы катодной дуги (варианты)

Автори російською

Аксенов Иван Иванович, Стрельницкий Владимир Евгеньевич, Васильев Владимир Васильевич, Воеводин Андрей А., Джоунс Джон Г., Забински Джеффри С.

МПК / Мітки

МПК: H05H 15/00, B23K 10/00, H05H 1/00

Мітки: дуги, джерело, плазми, фільтрованої, варіанти, катодної

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/20-84675-dzherelo-filtrovano-plazmi-katodno-dugi-varianti.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Джерело фільтрованої плазми катодної дуги (варіанти)</a>

Подібні патенти