Пристрій для очищення рідини

1. Пристрій для очищення рідини, який містить вертикальний корпус з патрубками для введення і виведення рідини, що очищується, і встановлені в корпусі одна над одною фільтрувальні секції з сорбентом, який відрізняється тим, що кожна фільтрувальна секція виконана у вигляді мембрани з вуглецевих волокнистих сорбентів, яка прикріплена по периметру до стінок корпусу, патрубок для введення рідини, що очищується, розташований вище рівня кріплення верхньої мембрани. 2. Пристрій за п.1, який відрізняється тим, що корпус виконаний у формі переверненої зрізаної піраміди, на верхньому торці корпусу встановлена 3 13078 4 секція виконана у вигляді мембрани з вуглецевих нена між двома проникними для рідини пластинаволокнистих сорбентів, яка прикріплена по перими, кожна з яких виконана у вигляді рами 5 з решіметру до стінок корпусу, патрубок для введення ткою 6. Рами 5 скріплені між собою і з розташоварідини, що очищується, розташований вище рівня ною між ними мембраною 4 нарізним з'єднанням, кріплення верхньої мембрани. наприклад, болтами 7, і прикріплені по периметру Рекомендується, щоб корпус був виконаний у до стінок корпусу 1, а саме, до виконаних на внутформі переверненої зрізаної піраміди, на верхрішній поверхні стінок корпусу 1 виступів 8 з гумоньому торці корпусу була встановлена кришка, а вими ущільнювачами 9. Корпус 1 виконаний у фопатрубок для виведення очищеної рідини був вирмі переверненої зрізаної піраміди. На його конаний в дні корпусу. верхньому торці встановлена кришка 10, яка може Найкраще, щоб мембрана мала три шари вугбути прикріплена за допомогою, наприклад, замлецевих волокнистих сорбентів, наприклад, верхкових пристроїв 11. В дні корпусу,! установлений ній шар мембрани виконаний з бусофіту, середній патрубок 3 для виведення очищеної рідини і патшар - з віскуму і нижній шар - з карбопону. рубок 12 для виведення осаду та забруднень. У Кожна мембрана може бути затиснена між кращому прикладі здійснення корисної моделі двома проникними для рідини пластинами, скріпмембрани 4 виконані з трьох шарів вуглецевих леними між собою і прикріпленими до стінок корволокнистих сорбентів, а саме, верхній шар 13 пусу. виконаний з бусофіту (ТУ РБ 00204056 - 108-95), Кожна пластина може бути виконана у вигляді середній шар 14 - з віскуму (ТУ СТБ 995-2001) і рами з решіткою, при цьому рами можуть бути нижній шар 15 - з карбопону (ТУ РБ 400031289. скріплені між собою і з розташованою між ними 104-2000). Кількість мембран 4 і відстань між ними мембраною нарізним з'єднанням. залежать від складу і концентрації забруднень Внутрішня поверхня стінок корпусу може бути рідини, що очищується, а також від конкретних облаштована виступами з гумовими ущільнюваумов експлуатації пристрою. чами для кріплення мембран. Збирання пристрою для очищення рідини поСукупність суттєвих ознак технічного рішення, чинається зі збирання фільтрувальних секцій. На яке заявляється, дозволяє підвищити якість очинижню проникну для рідини пластину, виконану у щення рідини без збільшення габаритів пристрою вигляді рами 5 з решіткою 6, вкладаються посліза рахунок виконання фільтрувальних секцій у довно нижній шар 15 мембрани 4 з карбопону, вигляді мембран з міцних, еластичних вуглецевих потім середній шар 14 з віскуму і верхній шар 13 з волокнистих сорбентів, які на різних рівнях перебусофіту, які притискаються верхньою проникною тинають порожнину корпусу під патрубком введля рідини пластиною. Рами 5 верхньої і нижньої дення рідини поперек її потоку, що забезпечує проникних для рідини пластин разом з розташовапослідовне рівномірне розподілення рідини по ною між ними мембраною 4 з'єднуються між соповерхням фільтрувальних секцій і дозволяє обибою, наприклад, за допомогою болтів 7. Готові рати їх кількість в залежності від виду і ступеня фільтрувальні секції встановлюються у корпус 1 забруднення рідини. Використання багатошарових послідовно, починаючи з нижньої, а саме, рами 5 фільтрувальних матеріалів з високоактивних вугпригвинчуються через гумові ущільнювачі 9 до лецевих волокнистих сорбентів з високорозвиневиступів 8 на стінках корпусу 1. Корпус 1 накриваною пористою структурою забезпечує очищення як ється кришкою 10, яка закріплюється замками 11. механічних, так і хімічних і біологічних забруднень. Пристрій через патрубки 2 і 3 приєднується до Технічний результат підсилюється виконанням магістралі з рідиною. корпусу зі звуженням до низу, що не дає рідині Пристрій для очищення рідини працює настузастоюватись між фільтрувальними секціями, пним чином. оскільки створює прискорення потоку, яке компенЧерез патрубок 2 забруднена рідина подаєтьсує його гальмування після проходження чергової ся в порожнину корпусу 1 між кришкою 10 і верхфільтрувальної секції. ньою фільтрувальною секцією, паралельно поверНа Фіг.1 зображено пристрій для очищення ріхні мембрани 4, рівномірно розподіляється по дини, який заявляється, аксонометрія, частковий останній і просякає послідовно з верхніх на нижні переріз; мембрани 4. Виконаний з бусофіту верхній шар 13 на Фіг.2 - фільтрувальна секція пристрою на мембрани 4 служить для видалення з рідини шкідФіг.1, деталювання. ливих органічних домішок і мікрочастинок, середПристрій для очищення рідини містить вертиній шар 14 з віскуму очищує від маслянистих докальний корпус 1 з патрубками 2 і 3 для введення і мішок і мікроорганізмів, нижній шар 15 з карбопону виведення рідини, що очищується. В корпусі 1 одвидаляє нітрати, неорганічні домішки. Очищена на над одною встановлені фільтрувальні секції, рідина виводиться із пристрою через розміщений у кожна з яких виконана у вигляді мембрани 4 з вугдні корпусу 1 патрубок 3. По мірі забруднення лецевих волокнистих сорбентів, прикріпленої по мембран 4 проводиться промивка пристрою і чепериметру до стінок корпусу 1. Патрубок 2 для рез патрубок 12 виводиться осад та забруднення. введення рідини, що очищується, розташований При закінченні робочого ресурсу фільтрувальних вище рівня кріплення верхньої мембрани 4, наприматеріалів того чи іншого шару вони замінюються. клад, у стінці корпусу 1. Кожна мембрана 4 затис 5 Комп’ютерна верстка Н. Лисенко 13078 6 Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601