Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Пристрій для формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні, що містить плазмотрон, порошкопровід, вісь якого розміщена радіально під кутом до осі дугового каналу плазмотрона, який відрізняється тим, що він додатково містить керуючу магнітну систему, що зафіксована відносно соплової системи плазмотрона.

Текст

Пристрій для формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні, що містить плазмотрон, порошкопровід, вісь якого розміщена радіально під кутом до осі дугового каналу плазмотрона, який відрізняється тим, що він додатково містить керуючу магнітну систему, що зафіксована відносно соплової системи плазмотрона. (19) (21) u200803468 (22) 18.03.2008 (24) 11.08.2008 (46) 11.08.2008, Бюл.№ 15, 2008 р. (72) ПАЩЕНКО ВАЛЕРІЙ МИКОЛАЙОВИЧ, U A, КУЗНЄЦОВ ВАЛЕРІЙ ДМИТРОВИЧ, U A, СОЛОДКИЙ СЕРГІЙ ПАВЛОВИЧ, UA, СВИСТУН СЕРГІЙ ВІКТОРОВИЧ, UA 3 34447 4 3 - порошкопровід; канал розміщений в межах вихідного електрода. 4 - газопорошковий потік. Дуга горить між термохімічним катодом і вихідним Пристрій складається із розпилювача 1 (Фіг.), електродом-анодом, стабілізується на осі каналу порошкопроводу 3 та керуючої магнітної системи вихровою подачею плазмоутворювального газу і 2. Керуюча магнітна система являє собою електобмежується за довжиною раптовим розширенням ромагніт у вигляді котушки, яка розміщена на федіаметра вихідного електрода. В якості плазмоутромагнітному осерді. Електромагніт нерухомо заворювального газу використане повітря, витрата фіксовано відносно соплової системи плазмотрона якого не перевищувала 5,5...6м 3/год. Загальна таким чином, щоб кінцева частина стовпа дуги і її потужність дослідженого розпилювача становила приелектродна ділянка розміщувались між полю25...30кВт; діапазон зміни струму дуги 100...200А. сами електромагніта. На зовнішній поверхні анодного вузла нерухомо Пристрій працює таким чином. Потік плазми, встановлений робочий орган керуючої магнітної який формується у плазмотроні 1, протікає дугосистеми - електромагніт, який має вигляд Пвим каналом у напрямку соплового отвору. Через подібного феромагнітного осердя із розподіленою порошкопровід радіально (під деяким кутом) до на ньому котушкою. Положення електромагніта напрямку течії високотемпературного газового попередньо узгоджується із напрямком введення струменя, в потік плазми подається порошок, подисперсного матеріалу із врахуванням розміщення передньо змішаний із транспортуючим газом. Кедуги в межах дугового каналу таким чином, щоб руюча магнітна система утворює зовнішнє поперенапрямок відхилення струменя лежав у площині, в чне магнітне поле, яке впливає на частину стовпа якій попередньо знаходяться газова та тверда дуги і її приелектродну ділянку, що потрапляють у складові газопорошкового потоку. Дисперсний мазону дії магнітного поля, змінює їх положення всетеріал (порошок марки ПГ-19М-01) під кутом 90° редині дугового каналу і, як наслідок, змінює темчерез порошкопровід подавався у плазмовий пературний профіль потоку високотемпературного струмінь поза межами дугового каналу на зрізі газу. Витікання газу в навколишнє середовище сопла розпилювача. Після запуску плазмового супроводжується його несиметричним розширенрозпилювача і виводу його на режим на котушку ням і формуванням струменя плазми, який відхиелектромагніта подавалася постійна напруга. Полений на певний кут від осі симетрії дугового калярність напруги вибиралась такою, щоб після налу. Зміною значення магнітної індукції і відхилення газового потоку непогодженість напрянапрямку стр уму у котушці електромагніта здійсмків розповсюдження твердої та газової фаз нівенюється керування кутом відхилення і просторолювалась. вою орієнтацією струменя низькотемпературної Для порівняння, аналогічні режимні параметри плазми. роботи були встановлені на розпилювачі без магДосліджувався пристрій для формування ганітного керування просторовим положенням плаззопорошкового потоку побудований за схемою, що мового струменя. пропонується, на базі дугового плазмотрона лінійРезультати дослідження наведені в табл. ної схеми. Прямолінійний циліндричний дуговий Таблиця Результати впливу просторового положення газового струменя на коефіцієнт використання матеріалу (КВМ) процесу плазмового напилення 1 2 Кут відхилення a , град 6 4 4 0 № Продуктивність кг/год. 2 2 2 2 Струм дуги, А 180 160 130 180 КВМ, % 89 83 77 73 Примітки з магнітним керуванням з магнітним керуванням з магнітним керуванням без магнітного керування 5 Комп’ютерна в ерстка В. Мацело 34447 6 Підписне Тираж 28 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method of formation of gas-powder flow at plasma spraying

Автори англійською

Paschenko Valerii Mykolaiovych, Kuznietsov Valerii Dmytrovych, Solodkyi Serhii Pavlovych, Svystun Serhii Viktorovych

Назва патенту російською

Устройство для формирования газопорошкового потока при плазменном напылении

Автори російською

Пащенко Валерий Николаевич, Кузнецов Валерий Дмитриевич, Солодкий Сергей Павлович, Свистун Сергей Викторович

МПК / Мітки

МПК: H05H 1/26, B05B 7/16

Мітки: потоку, газопорошкового, пристрій, напиленні, формування, плазмовому

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/3-34447-pristrijj-dlya-formuvannya-gazoporoshkovogo-potoku-pri-plazmovomu-napilenni.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні</a>

Подібні патенти