Спосіб формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні
Номер патенту: 34848
Опубліковано: 26.08.2008
Автори: Кузнєцов Валерій Дмитрович, Пащенко Валерій Миколайович, Солодкий Сергій Павлович, Свистун Сергій Вікторович
Формула / Реферат
Спосіб формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні, що включає радіальне введення дисперсного матеріалу у плазмовий струмінь розпилювача посередньої дії, який відрізняється тим, що початкове взаємне положення твердої та газової фаз встановлюють вибором режимних параметрів генерування потоку плазми і введенням дисперсного матеріалу, а остаточне взаємне положення коригують дією зовнішнього поперечного магнітного поля на плазмовий струмінь для суміщення осей каналів масоперенесення твердої та газової фаз двофазного потоку.
Текст
Спосіб формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні, що включає радіальне введення дисперсного матеріалу у плазмовий струмінь розпилювача посередньої дії, який відрізняється тим, що початкове взаємне положення твердої та газової фаз встановлюють вибором режимних параметрів генерування потоку плазми і введенням дисперсного матеріалу, а остаточне взаємне положення коригують дією зовнішнього поперечного магнітного поля на плазмовий струмінь для суміщення осей каналів масоперенесення твердої та газової фаз дво фазного потоку. (19) (21) u200803462 (22) 18.03.2008 (24) 26.08.2008 (46) 26.08.2008, Бюл.№ 16, 2008 р. (72) ПАЩЕНКО ВАЛЕРІЙ МИКОЛАЙОВИЧ, U A, КУЗНЄЦОВ ВАЛЕРІЙ ДМИТРОВИЧ, U A, СОЛОДКИЙ СЕРГІЙ ПАВЛОВИЧ, UA, СВИСТУН СЕРГІЙ ВІКТОРОВИЧ, UA (73) НАЦІОН АЛЬНИЙ ТЕХНІЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ УКРАЇНИ "КИЇВСЬКИЙ ПОЛІТЕХНІЧНИЙ ІНСТИТУТ", U A 3 34848 4 Плазмовий струмінь, який генерується плазсення газової та твердої фаз. Відхилення плазмомотроном витікає через сопловий отвір 3 дугового вого потоку узгоджується із напрямком подавання каналу l у навколишнє середовище. Через порошдисперсного матеріалу - воно повинно проходити копровід 5 під кутом до напрямку течії високотемв площині, в якій лежать осі симетрії двох потоків пературного газового потоку подається порошок, високотемпературного газового і потоку дисперспопередньо змішаний із транспортуючим газом. За ного матеріалу в суміші із транспортуючим газом. відсутністю зовнішніх впливів, при такому введенні Спосіб був реалізований на плазмотроні посеу потік високотемпературного газу дисперсного редньої дії із вихровою подачею плазмоутворюваматеріалу у суміші із холодним транспортуючим льного повітря і автогазодинамічною фіксацією газом, напрямки основного масоперенесення гадовжини дуги. Загальна потужність розпилювача зової та твердої фаз у сформованому в результаті становила 20...25кВт. Струм дуги не перевищував змішування газопорошковому потоці 4 зазвичай не 200Л. Напилювався порошок на основі міді марки співпадають. ПГ-19М-01. Продуктивність напилення становила Зовнішнє магнітне поле, створене за допомо2...4кг/год. Взаємна просторова орієнтація потоку гою електромагнітної системи є фактором зовнішдисперсного матеріалу і потоку високотемператунього впливу на параметри газового потоку та рного газу коригувалася застосовуванням зовнішумови змішування. Воно посередньо, через дію на нього поперечного магнітного поля постійного або електричну дугу плазмотрона 2, змінює напрямок знакозмінного напрямку. Результатом гармонізації витікання і, частково, структуру стр уменя високовзаємного положення складових газопорошкового температурного газу. Напрямок витікання потоку потоку стало суттєве прирощення площі плями високотемпературного газу відхиляється від понапилення (при напиленні на нерухому основу) здовжньої осі дугового каналу в сторону мінімізації вздовж обох осей симетрії (див. табл.). кута не співпадання між каналами масоперенеТаблиця Прирощення площі поперечного перерізу плями напилення при застосуванні поперечного магнітного поля (порошок ПГ-19М-01) Грануляція порошку, мкм 63...100 100... 160 Витрата по- Прирощення площі поперечного пе- Прирощення площі поперечного перошку, рерізу плями напилення вздовж осей рерізу плями напилення вздовж осей кг/год. x/z, %* x/z. %** 2 65/64 34/29 2,5 55/40 30/23 3,5 37/21 23/11 4 33/18 21/8 2 56/22 29/6 2,5 42/21 24/11 3,5 30/22 17/8 4 27/24 17/15 * - при застосуванні магнітного поля постійного напрямку; ** - при застосуванні знакозмінного магнітного поля Збільшення кількості матеріалу, який прийняв участь у формуванні покриття призводить до підвищення ефективності процесу нанесення покриття, комплексним показником якої є коефіцієнт використання матеріалу (КВМ). При достатньо високих вихідних значеннях КВМ (70...74%), застосування способу формування газопорошкового потоку із магнітним впливом на процес, дозволяє підвищити КВМ до 80...90 %. 5 Комп’ютерна в ерстка В. Мацело 34848 6 Підписне Тираж 28 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod of formation of gas-powder flow at plasma spraying
Автори англійськоюPaschenko Valerii Mykolaiovych, Kuznietsov Valerii Dmytrovych, Solodkyi Serhii Pavlovych, Svystun Serhii Viktorovych
Назва патенту російськоюСпособ формирования газопорошкового потока при плазменном напылении
Автори російськоюПащенко Валерий Николаевич, Кузнецов Валерий Дмитриевич, Солодкий Сергей Павлович, Свистун Сергей Викторович
МПК / Мітки
Мітки: формування, напиленні, плазмовому, газопорошкового, спосіб, потоку
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-34848-sposib-formuvannya-gazoporoshkovogo-potoku-pri-plazmovomu-napilenni.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб формування газопорошкового потоку при плазмовому напиленні</a>
Попередній патент: Плівковий теплообмінник
Наступний патент: Спосіб керування просторовим положенням плазмового потоку
Випадковий патент: Пристрій для діагностики гіпоглікемії