Установка опромінювання рідин лпл

1. Установка опромінювання рідин, яка містить встановлені в корпусі: піддон, віддільник, систему нагріву, яка відрізняється тим, що віддільник виконаний з окремих модулів, в зборі у вигляді сопла Лаваля (із збільшенням розміру модуля з урахуванням кута a нахилу твірної відносно горизонта 3 39285 неможливо витримати потрібну товщину плівки і забезпечити погрібну якість обробки сировини. Найбільш близьким по технічній суті заявленого рішення є установка [автор, свідоцтво №1143387 від 07.03.85. бюл.9, кл. А23N17/00; А23J1/04]. Рідкий матеріал вертикальними стрічковими конвеєрами вибирається із піддону і тонкою плівкою рухається в зону дії джерел опромінювання, де піддається інтенсивній терморадіаційній обробці Опромінений і знезаражений рідкий матеріал знімається з робочої поверхні конвеєра чистиками і поступає на подальшу переробку. Недоліками є: тривалість процесу, значні енергозатрати на процес, недостатні санітарногігієнічні умови праці обслуговуючого персоналу, значні капіталовкладення в порівнянні з відомими пристроями. Мета корисної моделі - підвищення коефіцієнта використання енергії джерел опромінювання, спрощення умов експлуатації, підвищення ефективності санітарної обробки рідин, зниження капітальних вкладень, за рахунок спрощення конструкції. Поставлена мета досягається тим, що установка опромінювання рідин ЛПЛ (Л-лампа, Ппромінь, Л-віддільник з окремими модулями у вигляді сопла Лаваля) містить віддільник, систему нагріву, а віддільник виконано з окремих модулів, в зборі у вигляді сопла Лаваля (із збільшенням розміру модуля з ура хуванням кута a нахилу твірної відносно горизонтальної площини, зі зміною якого відбувається підбір розмірів модулів) або має каскадну конусоподібну форму, нижня частина якого встановлена в піддоні і забезпечена рухомими чистиками у вигляді мобільного органу з скребками, контактуючими з внутрішньою поверхнею контуру, система нагрів) виконана у вигляді регульованих джерел опромінення на вертикалі і горизонталі переміщення до 500мм і кутом нахилу від 0 до 60 (виключаючи 45°), збирач продукту в вигляді похилого жолобу з регульованого подачею по вертикалі і горизонталі до 500мм і кутом нахилу від 0 до 60° (виключаючи 45°), встановленого над піддоном і сітчастою решіткою, закріпленого над його дном. Рідина переміщається в установці опромінювання по поверхні покритій тефлоном, по якій створені гнізда для забезпечення турбулентного потоку тонкого шару рідини. Виходячи із інформації, що по умовам дії і використання ультрафіолетові промені поділяють на три області. Випромінювання області А (380...315нм) використовуються для люмінесцентного аналізу різних продуктів з метою використання їх якості (1нм нанометр - дорівнює 10-9м). Біологічна активність цих випромінювань відповідно не велика. Випромінювання в області В (315..280нм) володіють найбільшим біологічним ефектом. Ці промені в межах допустимих доз сприятливо діють на живі організми, сприяють перетворенню в організмі провітаміну Д в активно діючий вітамін Д. Випромінювання області С (280...10нм) володіють сильною бактерицидною дією, викликають біохімічні зміни всередині живих клітинок і діють на 4 них згубно. Їх використовують для стерилізації повітря в приміщеннях, води, посуду, харчів. Джерелом ультрафіолетових променів є ртутнокварцеві, еритемні, люміносценті бактерицидні лампи. Сутність корисної моделі пояснюється кресленнями. На Фіг.1 представлений загальний вигляд установки опромінювання рідини ЛПЛ (варіант 1). На Фіг.2 представлений загальний вигляд установки опромінювання рідини ЛПЛ (варіант 2). Установка складається із корпуса 1 з піддоном 2 для прийняття рідини (суспензії), що обробляється, віддільника 3 виконано з окремих модулів, в зборі у вигляді сопла Лаваля (із збільшенням розміру модуля з урахуванням кута a нахилу твірної відносно горизонтальної площини, зі зміною якого відбувається підбір розмірів модулів) або має каскадну конусоподібну форму, насосу 4 для подачі рідини в систему регулюючи х кранів 5, розподільчої системи 6, вентиляційного пристрою 7, який забезпечує примусове відсмоктування газів із зони опромінювання, фільтру 8 для очи щення газів, екрану 9 призначеного для більш повного використання променевої енергії і попередження від перегріву фільтра 8. Ультрафіолетові або інфрачервоні джерела 10, призначені для опромінювання рідкої суспензії, чистика 11 для зняття неоднорідної маси з поверхні, мішалки 12. Мішалка 12 призначена для підтримки в підвішеному стані частинок рідини в ємності 2. Установка також містить збирач 13 опроміненої рідини і призначеного для розділення суспензії рідини па рідку і пластичну частини, які збирачем-навантажувачем 14 подається в ємність-тару, а рідка - проходить по трубопроводу 15 і заповнює пляшки. Установка працює таким чином. Заповнюється піддон 2 рідкою суспензією, перемішується мішалкою 12 до однорідної маси і насосом 4 через систему регулюючи х кранів 5 по трубопроводам розподільчої системи 6 подається вгору на вихідну позицію віддільника 3, включається вентиляційні пристрої 7 та джерела 10 опромінювання. Подача рідкої суспензії на поверхню віддільника регулюється системою кранів 5 і подається струменем і тонкою плівкою переміщається по поверхні покритій тефлоном, на якій створені гнізда для забезпечення турбулентного потоку тонкого шару для опромінювання. Далі рідка суспензія поступає на активний роздільник, де проходить розрідження на рідку і пластичну маси рідина через отвори в поступає в трубопровід 15 і заповнює пляшки, а пластична збирачем-навантажувачем 14 і поступає в ємність-тару. Для обеззаражування рідких суспензій була створена установка з такими технічними показниками: Виробництво - 2,5м 3/год; джерела випромінення - лампи ДРТ 1000, КГТ-1000; питомі затрати енергії. КВт×год/м 3 10...25; ступінь обеззаражування, %-97,8...99,6; температура в зоні опромінювання, С°-170...200; габарити: довжина - 2100мм, ширина 2100мм, висота 2370мм, маса (без тари ПРА), кг-327. 5 39285 Заявлене технічне рішення може бути використане в сільському господарстві, зокрема в пристроях стерилізації рідин в кормовиробництві, тех Комп’ютерна в ерстка C.Литв иненко 6 нологічних процесах, воно описане в матеріалах заявки повністю, що дає можливість широко використовувати його в технологічних процесах. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601