Плазмоводугова установка для плавлення металів
Формула / Реферат
1. Плазмоводугова установка для плавлення металів, що містить джерело живлення, плавильний агрегат з плазмотронами, яка відрізняється тим, то джерело живлення складається з розподільного трансформатора, на вторинних обмотках якого виконані три відводи з нульовим провідником у обмотки управління, вторинні обмотки з'єднані з випрямлячем постійного струму і через баластні опори з плазмотронами, які розташовані у плавильному агрегаті, виконаному у вигляді тигля, розташованому у металевій вогнетривкій футерованій камері з зазором між тиглем і камерою.
2. Плазмоводугова установка за п. 1, яка відрізняється тим, що зазор між тиглем і футерівкою камери відноситься до ваги металу, що плавиться, у межах від 1:10 до 1:20.
3. Плазмоводугова установка за п. 1, яка відрізняється тим, що плазмотрони мають охолоджувальну систему і розташовані знизу і збоку камери, а зверху камери підведений додатковий плазмотрон, через який подається інертний газ.
Текст
1. Плазмоводугова установка для плавлення металів, що містить джерело живлення, плавильний агрегат з плазмотронами, яка відрізняється тим, то джерело живлення складається з розподільного трансформатора, на вторинних обмотках якого виконані три відводи з нульовим провідником у обмотки управління, вторинні обмотки з'єднані з випрямлячем постійного струму і через ба 3 шовані плазмотрони у футерованої камері. Камера вкрита металевим кожухом і має в середині футерівку. Посередині камери установлений тигель з деяким зазором (2) до футерівки камери. У камері розташовані плазмотрони, що мають охолоджуючу систему і укріплені знизу камери, збоку, а також зверху камери встановлений додатковий плазмотрон, через який подають інертний газ. Плазмоводугова установка має джерело живлення, що вмикається через розподільчий трансформатор 660/380В; 380/180В і 120В з обмоткою керування 380В на другій стороні з нульовим дротом, а також з випрямлячем у вигляді фазового мосту, і блока баласних опір, що живлять плазмотрони, Крім того, плазмотрони мають систему охолодження, наприклад, водяну. Суттєвою ознакою пропонованого рішення є зазор між тиглем і футерівкою камери у відношенні до ваги металу, що плавлять, або до потужності устрою. Авторами проведені розрахунки та досліди, які наведені на графіку №1 і вказують співвідношення зазору до ваги металу. Зазор між футерівкою і камерою визначається відношенням цього зазору до ваги плавильного металу або потужності плавильного агрегату від 1:10 до 1:20. При зменшені цього відношення з’являються труднощі з розташуванням тигеля, а збільшення цього відношення веде до неефективного використання енергії. У камері між тигелем і корпусом камери підведені плазмотрони: знизу, збоку і зверху. Плазмотрони мають систему охолодження (вода, незамерзаюча рідина і інше). Нагрів тигелю з металом здійснюється при переміщенні струмені плазмотрону, який установлений збоку камери. Для переміщення плазмотрону застосований шарнір або реєчний механізм. Плазмотрон, що розташований зверху камери у кришці, є додатковим і через його подається інертний газ, який сприяє рафінуванню металу. Для пояснення сутності пристрою та роботи установки наведено креслення, де: на Фіг.1 зображена плавильна установка у 41990 4 розрізі; на Фіг.2 - графік 1 (співвідношення ваги металу до зазору). Пропонована установка складається з плавильного агрегату, який має камеру 1, що складається з металевого кожуху 2, який всередині мас шар футерівки 3 у вигляді цегли на вогнетривкому розчині. Посередині камери 1 установлений тигель 4, виконаний, наприклад, з графіту. Тигель 4 поставлений на підставку 5, знизу якої підведений плазмотрон 6. Другий плазмотрон 7 уведений збоку камери 1. Камера має кришку 8, через яку установлений додатковий плазмотрон 9, що подає інертний газ, який сприяє рафінуванню металу. Камера 1 розташована на підстановці 10. Кришка 8 лягає на фланець 11, який з’єднаний з кожухом 2. Плазмотрони мають живлення від трансформатора з трьома відводами во вторинної обмотки і віхревою стабілізацією дуги і пов’язані електрично з колом управління. Робота електричної схеми здійснюється через випрямляч, виконаний у вигляді моста, що живить плазмотрони постійним струмом. Схема здійснює управління охолодженням плазмотронів, для цього установлений насос з системою подання охолоджувальної рідини. Суттєвою ознакою є вибір оптимального зазору (Z) у мм у співвідношенні до ваги металу, що плавлять, у кілограмах ваги, і дорівнює: у межах від 1:10 до 1:20. Робота плазмоводугової установки полягає у наступному: для плавлення металу його розташовують у тигелі 4, закривають кришку 8 та запалюють плазмотрони. По досягненні необхідних параметрів розчину металу, вимикають плазмотрони, відкривають кришку 8 і розливають рідкий метал у форми. Пропонована установка не потребує спорудження електричних під станцій, вона проста у виготовлені і у використанні. Установка пройшла випробування у промислових умовах, - отримай злиток міді високої щільності і чистоти (99,7% Сu) при переплаві відходів обмоток електричних машин. 5 Комп’ютерна верстка А. Рябко 41990 6 Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюPlasmarc plant for metals melting
Автори англійськоюChuhunov Leonid Fedorovych
Назва патенту російськоюПлазмоводуговая установка для плавления металлов
Автори російськоюЧугунов Леонид Федорович
МПК / Мітки
МПК: B23K 10/00, C21D 7/00, H05B 7/00, H01J 17/00
Мітки: плазмоводугова, установка, плавлення, металів
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-41990-plazmovodugova-ustanovka-dlya-plavlennya-metaliv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Плазмоводугова установка для плавлення металів</a>
Попередній патент: Спосіб виготовлення високопористих проникнених керамічних виробів
Наступний патент: Спосіб виводу в космос космічного апарата сироти
Випадковий патент: Похідні піперазин-2,5-діону як модулятори резистентності до багатьох препаратів