Електроліт для електрохімічного осадження іридієвого покриття

Електроліт для електрохімічного осадження іридієвого покриття з розплавленого електроліту, який відрізняється тим, що замість KCN та NaCN до складу розплаву вводять карбамід, NH4Cl та сіль ІrСl3 при наступному співвідношенні компонентів, мас. %: карбамід-NН4Сl (16,8 мол. %) 99,5-99,9 ІrСl3 0,1-0,5. (19) (21) u200908028 (22) 29.07.2009 (24) 25.12.2009 (46) 25.12.2009, Бюл.№ 24, 2009 р. (72) БОГДАНОВИЧ ЛЮДМИЛА ВАСИЛІВНА, САВЧУК АНАСТАСІЯ ВАЛЕРІЇВНА, ТУМАНОВА НЕЛЛІ ХАЧАТУРОВНА (73) ІНСТИТУТ ЗАГАЛЬНОЇ ТА НЕОРГАНІЧНОЇ ХІМІЇ ІМ. В.І. ВЕРНАДСЬКОГО НАН УКРАЇНИ 3 46623 4 Таблиця 1 Вплив щільності струму та часу електролізу на якість іридієвого покриття, одержаного з розплаву карбамід - NН4Сl при температурі 130°С Щільність 2 струму, А/дм . 5 5 5 Час електролізу, хв. 40 60 80 10 40 10 10 20 20 20 25 25 25 30 30 зо 60 80 40 60 80 40 60 80 40 60 80 40 40 40 60 Товщина покЗовнішній вид покриття. риття, μкм. Покриття не спостерігається Легке затемнення поверхні Затемнення стає більш інтенсивним На поверхні міді з'являються окремі плями Покриття плямами 0,5 Тонке сіре покриття 1,5 Покриття світлішає 1,9 Світло-сіре покриття 2,1 Світло-сіре покриття 2,5 Світло-сіре покриття, з'являється невеликий блиск 2,7 Світло-сіре з ледь помітним блиском 3,0 Світло-сіре покриття з невеликим блиском 3,5 Світло-сіре, напівблискуче 3,9 Покриття сірішає 4,2 Сіре покриття, з'являються тріщини На поверхні з'являються дендрити, які легко змива4,5 ються водою. Результати, наведені в таблиці 1, свідчать, що якісні іридієві покриття різної товщини можна одержати при щільності струму 20-30А/дм2, та часу електролізу 40-80хв., окрім випадку застосування високої щільності струму (30А/дм2) при 80 хвилинному електролізі. Оптимальна товщина покриття 2 3,9μкм одержана при електролізі при 30А/дм та часу електролізу 60хв. Для збільшення товщини покриття в розплав вводили ІrСl3 в кількості 0,1-05 мас. %. Результати, одержані після введення солі іридію, наведені в таблиці 2. Таблиця 2 Вплив концентрації ІrСl3 на товщину та якість іридієвого покриття, одержаного при електролізі розплаву карбамід-NН4Сl при 130°С, протягом 60хв. електролізу. Кількість евтектичного розплаву карбамід-NH4Cl, мас. %. 99,9 99,7 99,5 Кількість ІrСl3, мас. %. Щільність струму, 2 А/дм Товщина покриття, μкм 0,1 0,3 0,5 20 20 20 3,5 6,6 8,3 Світло-сіре покриття Дрібнокристалеве покриття Сіре покриття з напівблиском 99,9 99,7 0,1 0,3 25 25 5,8 8,4 99,5 0,5 25 10,1 Напівблискуче сіре покриття Блискуче світло-сіре покриття Дрібнокристалеве блискуче світло-сіре покриття. 99,9 0,1 30 10,8 99,7 0,3 30 99,5 0,5 30 Таким чином, як видно з даних таблиці 2, добавка ІrСl3 концентрацією в 0,5 мол.% дозволяє збільшити товщину покриття до 10,1μкм і одержати дрібнокристалічне, світло-сіре блискуче покрит Зовнішній вид покриття Сіре покриття з окремими дендритами Кількість дендритів дуже збільшується Вся поверхня в дендритах тя іридію з гарною адгезією до мідної основи. Електроліз проводили у відкритій ванні при температурі 130°С протягом 60хв. електролізу з застосуванням іридієвого аноду. 5 46623 Список використаної літератури 1. Вячеславов П.М., Грилихес С.Я., Буркат Г.К. и др. Гальванотехника благородных и редких металлов. - Л.: Машиностроение, 1970, 247с. 2. Грилихес С.Я., Тихонов К.И. Электрохими Комп’ютерна верстка А. Крулевський 6 ческие и химические покрытия. - Л.: Химия, 1990, 288с. 3. Harding W.B. Plating Surface Finish 1997, №9, p.48-55. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601