Гальванічна установка для нанесення композиційних електролітичних покриттів
Номер патенту: 55154
Опубліковано: 10.12.2010
Автори: Білик Юрій Мирославович, Стецишин Мирослав Степанович
Формула / Реферат
1. Гальванічна установка для нанесення композиційних електролітичних покриттів, що містить ванну з електролітом і порошковим наповнювачем, нагрівальні елементи, які з'єднані з джерелом змінного струму, термодатчик і терморегулятор, випрямляч постійного струму, під'єднаний до анода і катода через амперметр і вольтметр, яка відрізняється тим, що одночасно анод і катод під'єднані до потенціостата, при цьому встановлено два змійовикових теплообмінники, де витки охолоджувальних контурів виконані з протилежними напрямками спіралей.
2. Гальванічна установка за п. 1, яка відрізняється тим, що вона додатково оснащена лопатевою мішалкою з трьома осесиметрично розміщеними перегородками.
3. Гальванічна установка за п. 1, яка відрізняється тим, що вона має додатковий охолоджувальний контур, розміщений безпосередньо в зоні електролізу, а спіралі контурів мають протилежні напрямки навивки витків з протилежно направленими потоками охолоджувальної рідини.
Текст
1. Гальванічна установка для нанесення композиційних електролітичних покриттів, що містить ванну з електролітом і порошковим наповнювачем, нагрівальні елементи, які з'єднані з джерелом змінного струму, термодатчик і терморегулятор, випрямляч постійного струму, під'єднаний до анода і катода через амперметр і вольтметр, яка від 3 го струму 17 характеристики якого контролюються амперметром 19 і вольтметром 20. Крім того, катод і анод під'єднані до потенціостату П5827М, який дозволяє змінювати і контролювати напруженість приелектродного шару відносно хлорсрібного електроду порівняння 7, потенціал якого в заданому електроліті залишається постійним. Електронагрівач 8, термодатчик 15 та терморегулятор 18 служать для нагрівання електроліту до заданої температури та її стабілізації в процесі проведення електролізу. Для вирівнювання температури у всьому об'ємі електроліту та її стабілізації в процесі електролізу встановлено два змійовикових теплообмінника: теплообмінник 4 служать для вирівнювання середньої температури електроліту у ванні і теплообмінник 6, необхідний для стабілізації температури безпосередньо в зоні електролізу (між анодом і катодом). Витки охолоджувальних контурів мають протилежно направлені потоки охолоджувальної рідини, віддаль між витками яких знаходили експериментально, а витрати охолоджувальної рідини визначали на основі рівнянь теплового балансу. Лопатева мішалка 16, яка встановлена зверху гальванічної ванни, забезпечує рівномірність розподілу частинок наповнювача в об'ємі електроліту. Вертикальні перегородки 2 додатково турбулізують потік, змінюють структуру полів швидкостей: зменшують колову швидкість при збільшенні осьової і радіальної складових швидкостей потоку суспензії. У зонах за перегородками утворюються завихрення, які взаємодіючи з основними радіальними і осьовими потоками додатково їх турбулізують, що підвищує ступінь однорідності розподілу частинок наповнювача в електроліті. При застосуванні неелектропровідних частинок наповнювача, наприклад, карбіду кремнію, їх попадання на катод проходить шляхом седиментації (осідання частинок під дією гравітаційних сил), що вимагає їх перебування в завислому стані в шарах електроліту, який знаходиться над катодом. Очевидно, що процес седиментації неелектропровідних частинок може проходити лише в ламінарному режимі, тобто при непрацюючих мішалках 16 (лопатева) і 11 (імпульсна магнітна). Наявність завислих частинок в електроліті забезпечується імпульсною магнітною мішалкою. Швидкість і час осідання на катод завислих частинок наповнювача залежно від їх геометричних розмірів (ваги) і форми знаходили за критеріальним рівнянням гравітаційного осідання, а час перемішування знаходили експериментально залежно від необхідної об'ємної кількості частинок наповнювача в матриці і ступеня однорідності суспензії. Таким чином, визначали тривалість і число імпульсів роботи магнітної мішалки, які задавалися блоком керування 13. Установка працює наступним чином. Одночасно з прогріванням попередньо підготовленого електроліту для формування заданої матриці на зразку до заданої температури електролізу 55154 4 включається лопатева мішалка, що поряд з підвищенням рівномірності розподілу компонентів електроліту забезпечує рівномірність розподілу температури в усьому об'ємі електроліту. При досягненні електролітом заданої температури починається процес формування матриці, швидкість формування якої регулюється величиною струму, що поступає від випрямляча постійного струму 17 і контролюється амперметром 19 і вольтметром 20, а також заданою величиною напруженості зони приелектродного шару, що контролюється і регулюється потенціостатом в автоматичному режимі при заданій швидкості розгортки потенціалу. Задана величина напруженості приелектродного шару і величина зміщення потенціалу визначають розмір та кількість зерен металу матриці, які залишаються постійними протягом усього процесу формування металу матриці. Таким чином, швидкість формування зерен металу матриці і швидкість доставки частинок наповнювача можуть змінюватися в заданому напрямку, що дозволяє отримувати КЕП градієнтного типу заданого об'ємного вмісту наповнювача, з досягненням співрозмірності розмірів зерен металу матриці, і геометричних розмірів часток наповнювача. Останнє, дозволяє при одночасному збільшенні об'ємного вмісту частинок наповнювача, значно зменшити внутрішні напруження при формуванні покриттів та знизити електрохімічну гетерогенність покриттів в середовищах-електролітах. При додаванні порошків наповнювача в електроліт включаються обидві мішалки протягом часу, необхідного для досягнення заданого ступеню рівномірності розподілу частинок наповнювача в електроліті, що знаходиться експериментально. Далі лопатева мішалка відключається і проводиться формування покриття, а імпульсна мішалка працює в наперед заданому імпульсному режимі, згідно попередньо розрахованих швидкості і часу осідання частинок. Наявність двох контурів охолодження дозволяє стабілізувати температуру електролізу в прикатодній зоні в межах ±2°С, що також сприяє стабілізації процесу електролізу як при формуванні металевої матриці так і при формуванні покриття з частинками наповнювача. Це також дозволяє отримувати покриття рівномірної товщини і з меншою шорсткістю поверхні. Джерела інформації: 1. A.c. СССР №1487504, «Устройство для нанесения композиционных электролитических покрытий» // И. М. Федорченко, М. Ф. Соколовский, М. В. Лучка и др. - МКИ C25DI5/00. Опубл. Б.И. №5 от 12.05.87 2. Деклараційний патент України C25D11/08 №71403А «Анодування алюмінію, сплавів на його основі» / М.В. Лучка і ін., Бюл. №11, 2004 3. Електролізер для нанесення композиційних електролітичних покриттів», патент на корисну модель // М. В. Лучка, О. В. Дерев'янко, А. О. Корнієнко та ін. №30731 C25D17/00 C25D15/00 від 11.03.2008 5 Комп’ютерна верстка Л. Купенко 55154 6 Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюGalvanic plant for application of composition electrolytic coatings
Автори англійськоюStetsyshyn Myroslav Stepanovych, Bilyk Yuriy Myroslavovich
Назва патенту російськоюГальваническая установка для нанесения композиционных электролитических покрытий
Автори російськоюСтецышин Мирослав Степанович, Билык Юрий Мирославович
МПК / Мітки
МПК: C25D 15/00, C25D 11/00
Мітки: установка, композиційних, нанесення, електролітичних, покриттів, гальванічна
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-55154-galvanichna-ustanovka-dlya-nanesennya-kompozicijjnikh-elektrolitichnikh-pokrittiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Гальванічна установка для нанесення композиційних електролітичних покриттів</a>
Попередній патент: Спосіб виробництва безперервнолитої заготовки
Наступний патент: Пристрій для конденсування пломбувального матеріалу
Випадковий патент: Перехідний узгоджуючий пристрій до двокомпонентних калоприймачів