Спосіб неруйнівного експрес-контролю якості комплексних електролітичних покриттів на металевих виробах

1. Спосіб неруйнівного експрес-контролю якості комплексних електролітичних покриттів на металевих виробах, який включає здійснення порівняльного аналізу з еталоном, який відрізняється тим, що в лужному середовищі потенціостатом 3 56980 4   риття; 3, 4, 5-варіанти зміни потенціалу досліджу~ ~    a n `o   a n `o  ваних зразків з КЕП складу Ni+SiCнaно; (3 і 4 - доa `o отриманого покриття ( , де пустимі відхилення встановленого потенціалу і 5  ~o недопустимі)  a n`  Досліджувалися комплексні електролітичні a `o - встановлений потенціал еталонного зразпокриття, що складалися з нікелевої матриці  ~ сформованої на сталі 45 нормалізованій і напов a n`o - встановлений потенціал покриття на ка; нювача з неелектропровідних частинок карбіду зразку (виробі), що перевіряється). Величина кремнію (SiC) різних фракцій: менше 50 нм - надопустимого відхилення різниці встановлених ночастинки; М5; 28/20; 50/40; 100/80 мкм. Відпопотенціалів для кожного конкретного випадку відно, в роботі прийнято позначення; Ni+SiCнaно визначали окремо. нікелева матриця з наповнювачем наночастинНа Фіг. 2 подано приклад застосування розками SiC; Ni+SiC50 - нікелева матриця з наповнюробленого способу. Перевірялися зразки з поквачем наночастинками SiC фракції 50/40 мкм і риттями Ni+SiCнaно. Аналіз характеру зміни крит.д. Контроль якості отриманих покриттів провових    в лужному середовищі та величини дили металографічним аналізом протравлених в відхилення встановлених потенціалів досліджу3..5% розчині азотної кислоти в етиловому спирті ваних зразків від встановленого потенціалу ета шліфів за допомогою світлового мікроскопу Нео~ фот-2. Для відібраних таким чином еталонних  a n `o  216  a `o зразків з покриттями знімали потенціостатом кілонного зразка ( мВ) показує, що (   ) в лужному зразки 3 і 4 відповідають необхідній якості покнетику зміни потенціалу в часі риття як за характером зміни потенціалу, так і за середовищі (Фіг. 1). Склад середовища: оксид величиною його відхилення від потенціалу етакальцію (СаО) - 125 г/л і 15 % цукрози (С12Н22О11) від маси СаО. Додавання до розчину оксиду калонного зразка (   6 мВ). Зразок 5 не відпольцію цукрози дозволяє отримати лужне стабільвідає необхідній якості покриття: суттєва відмінне середовище з РН 12, так званий буферний ність характеру зміни кінетики потенціалу, значне лужний розчин із стабільним значенням РН. Лужвідхилення величини встановленого потенціалу не середовище вибране тому, що як показали від потенціалу еталонного зразка (   273 попередньо проведені випробування, саме в мВ). Повільна стабілізація потенціалу, наближенцьому середовищі найшвидше проходить стабіліня його величини до потенціалу основи покриття зація потенціалу, а його значення чітко відповісвідчать про підвищену пористість нанесеного дають фракційності порошків наповнювача (Фіг КЕП. 1). Джерела інформації: Далі, за допомогою потенціостату в лужному 1. Беккерт М, Клемм X. Способы металлосередовищі знімали кінетику зміни потенціалу в графического травления. - М.: Металлургия, часі, готових виробів (зразків) з нанесеними КЕП і 1988. - 400 с. самописцем записуються криві    і порівнюва2. Лучка М. В., Киндрачук М. В., Мельник П.    И. Износостойкие диффузионно-легированные ли з еталонними кривими a `o . Відхилення композиционные покрытия. - К.: Техніка, 1993. характеру зміни кривої від еталонної і різниця 143 с. встановлених потенціалів еталонної кривої та встановленого потенціалу досліджуваного виробу (зразка) є кількісною характеристикою якості 5 Комп’ютерна верстка Д. Шеверун 56980 6 Підписне Тираж 23 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601