Розподільна основа для розподілу газу, запиленого дрібними твердими частинками

1. Розподільна основа з отворами для розподілу газу, запиленого твердими частинками, що містить кілька отворів, принаймні один рухомий очисний пристрій, розміщений на розподільній основі (1), що зменшує утворення відкладень на розподільній основі при її роботі та на отворах (2) розподільної основи, та (або) принаймні часткове видалення відкладень, що утворилися, яка відрізняє ться тим, що очисний пристрій має засіб (3) для очистки розподільної основи та її отворів прямою механічною ударною дією на розподільну основу та її отвори. 2. Розподільна основа за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб (3) для очистки розподільної основи C2 1 ГАЗУ, (13) РОЗПОДІЛУ 80817 ДЛЯ (11) (54) РОЗПОДІЛЬНА ОСНОВА ЧАСТИНКАМИ ДО ПАТЕНТУ НА ВИНАХІД 3 80817 З [публікації ЕР 0 444 614 А2] вже відомо, як видаляти відкладення з розподільної основи з отворами за допомогою рухомого очисного пристрою. Відомі з цього документа пристрій та спосіб виявилися на практиці складними і потребують високих рівнів технічних та фінансових витрат. Отже, метою цього винаходу є далі удосконалити пристрій за преамбулою пункту 1 формули винаходу, а також спосіб за преамбулою пункту 5 формули винаходу, щоб уможливити реалізацію економічного та надійного способу та відповідного пристрою. Поставлена задача вирішується - з точки зору пропонованого пристрою - через відмітну частину пункту 1 формули винаходу та - з точки зору пропонованого способу - через відмітну частину пункту 5 формули винаходу. Проста та раціональна очистка розподільної основи з отворами забезпечується завдяки тому факту, що очисний пристрій має засіб для очистки розподільної основи прямою механічною, зокрема, ударною дією на розподільну основу, зокрема, на отвори розподільної основи з отворами. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого пристрою, засіб для очистки розподільної основи виконаний таким чином, що засіб для очистки розподільної основи поглинає з потоку газу кінетичну енергію, достатню для досягнення очисної дії. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого пристрою, засобом для очистки розподільної основи є трос та (або) ланцюг та (або) стрижень, встановлений з можливістю рухатися. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого пристрою, засіб для очистки розподільної основи розташований на розподільній основі, зокрема, принаймні в одному з отворів розподільної основи. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого пристрою, очисний пристрій передбачений принаймні для одного отвору і може кріпитися в самому отворі та (або) на розподільній основі, та (або) в іншому місці у пристрої з псевдозрідженим шаром. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого пристрою, очисний пристрій прикріплений поруч з отвором та (або) вище, та (або) нижче нього. За одним конкретним варіантом здійснення, винахід відрізняється розподільною основою з отворами, призначеною для розподілу газу, запиленого твердими частками, переважно для використання у пристрої з псевдозрідженим шаром для відновлення твердих часток, що містять окис металу, причому на розподільній основі встановлений принаймні один рухомий очисний пристрій, що уможливлює зменшення утворення відкладень на розподільній основі в отворах та (або) на розподільній основі, та (або) принаймні часткове видалення відкладень, що вже утворилися, причому очисний пристрій представляє собою 4 трос та (або) ланцюг, та (або) стрижень, встановлений з можливістю руху на розподільній основі та (або) у самому отворі, принаймні, в одному з отворів. Далі, винахід відрізняється способом, описаним у пункті 5 формули винаходу. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого способу, потоком газу очисному пристрою передається кінетична енергія, достатня для досягнення очисної дії. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого способу, розподільна основа з отворами виконана таким чином, що вона вібрує під дією очисного пристрою. За одним конкретним варіантом здійснення пропонованого способу, очисний пристрій встановлений, зокрема, прикріплений у принаймні одному з отворів розподільної основи. Отвори газорозподільних основ, що використовуються, наприклад, у технології з псевдозрідженим шаром, і в які протікає запилений газ, зазвичай блокуються через спікання пилу, що переноситься газом. Це призводить до значних експлуатаційних витрат на очистку о творів. Отже, за одним конкретним варіантом здійснення винаходу, в отворі та (або) ви ще, та (або) нижче нього, та (або) поруч з ним закріплені один або декілька ланцюгів, тросів або стрижнів, встановлених з можливістю рухатися, наприклад, стрижні, що закріплені ланцюгом та (або) тросом або схожими виробами. Турбулентність потоку газу надає руху цим деталям, і вони відбивають від отворів частки, що пристали, або примушують отвори вібрувати, через що частки, що пристали, відділяються та (або) послаблюється явище спікання. Різні варіанти здійснення предмету винаходу ілюструються на кількох схематичних кресленнях, що не обмежують обсяг винаходу, на яких фіг.1 схематично зображує розподільну основу з отворами; фіг.2 ілюструє пристрій з псевдозрідженим шаром, що має розподільну основу з отворами; фіг.3 ілюстр ує різні подальші варіанти здійснення, що можна використовувати для створення розподільної основи за даним винаходом. Фіг.1 ілюструє розподільну основу 1 з отворами, що має кілька отворів 2. Очисні пристрої, зокрема, ланцюги 3, встановлені на розподільній основі з отворами, та прикріплені до розподільної основи з отворами у прийнятних точках 4 кріплення. Потік 5 приводить у рух ланцюги 3, і вони б'ють по розподільній основі 1 та (або) по отворам 2. Ця механічна дія видаляє з розподільної основи 1 відкладення, що спеклися. За одним варіантом здійснення винаходу, розподільна основа з отворами виконана таким чином, що вібрує під дією очисних пристроїв, через що спікання ще більше зменшується. Заради простоти, фіг.1 ілюструє очисні пристрої лише в окремих отворах. Очисний пристрій може кріпитися до розподільної основи з отворами у будь-який бажаний спосіб. 5 80817 На фіг.2 знов-таки показана розподільна основа 1 з отворами, але на цей раз у пристрої 6 з псевдозрідженим шаром, наприклад, для металізації залізної руди у вигляді дрібних часток. Нижче розподільної основи 1 з отворами розташована повітряна камера 7, через яку реакційний газ подається живильною лінією 8 для газу. Після реакції у реакційній камері газ знову відводиться з пристрою з псевдозрідженим шаром через випускну лінію 9. Далі до пристрою з псевдозрідженим шаром через живильну лінію 10 подається шихтовий матеріал у твердій формі, який знову вивантажується через вивантажувальну лінію 11. Нарешті, фіг.3 ілюструє різні подальші примірні варіанти здійснення для реалізації розподільних основ, що їх можна також комбінувати один з одним. На цій фігурі детально ілюструються різні види кріплення, зокрема, кріплення 4' або 4", засіб 3' або 3" для очистки розподільної основи на розподільну основу Г або 1", зокрема, до отворів 2' або 2" розподільної основи. 6