Установка для лазерної обробки
Номер патенту: 98649
Опубліковано: 12.05.2015
Автори: Шепелєв Олександр Олександрович, Котляров Валерій Павлович
Формула / Реферат
Установка для лазерної обробки, що містить лазер, фокусуючу лінзу, систему з двох відбиваючих дзеркал зі взаємно схрещеними осями, встановленими вздовж оптичної осі лазера за фокусуючою лінзою, і робочий стіл, яка відрізняється тим, що одне з відбиваючих дзеркал виконане у вигляді набору дзеркал квадратної форми з приводами їх повороту, з'єднаних системою управління.
Текст
Реферат: UA 98649 U UA 98649 U 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Корисна модель належить до обладнання для лазерної обробки. Відомий спосіб лазерної обробки матеріалів і пристрій для його здійснення. Винахід належить до пристроїв, які забезпечують обробку матеріалів лазерним випромінюванням. Спосіб здійснюють наступним чином. За рахунок підбору радіусів кривизни повністю відбиваючого і вихідного дзеркал резонатора і відстаней між дзеркалами резонатора проводять настройку параметрів пучка лазерного випромінювання, встановлюючи задане співвідношення між шириною зони стійкості резонатора і величиною оптичної сили теплової лінзи, наведеної в активному елементі випромінюванням накачування [1]. Недоліками цього способу і пристрою є тривалий час на обробку та вартість дзеркал, які необхідно замінювати для зміни радіуса кривизни. Найбільш близьким аналогом до корисної моделі за технологічною суттю і ефектом, що досягається, є "Установка для гравірування лазерним променем". Установка містить лазер і встановлені послідовно на шляху променя систему з двох дзеркал, перше з яких забезпечено приводом його коливання щодо осі, перпендикулярної осі променя, а друге - щодо осі, перпендикулярної осі коливання першого дзеркала, а так само лінзу і предметний столик, причому входи приводів і лазера підключені до керуючого пристрою, а лінза додатково забезпечена приводами нахилу навколо її оптичного центра на кут, що дорівнює куту нахилу поверхні заготовки або дотичній до неї в місці нанесення знака, а також переміщення лінзи вздовж оптичної осі, підключеними до керуючого пристрою [2]. Недоліками відомої установки є низька продуктивність та складність зміни конфігурації знаків клейма. Задачею даної корисної моделі є скорочення часу на обробку деталі лазерним променем при нанесенні знаків. Поставлена задача вирішується тим, що, для нанесення кожного наступного знака клейма, промінь лазера розбивається дзеркалами на іншу комбінацію пучків, які направляються системою дзеркал у задану точку поверхні деталі. На креслення зображена схема установки. Установка містить лазер 1, фокусуючу лінзу 6, систему з двох відбиваючих дзеркал 2 і 4 зі взаємно перехресними осями, встановленими вздовж оптичної осі лазера 1 за фокусуючою лінзою 2, і робочий стіл 7. Одне з відбиваючих дзеркал 2 виконане у вигляді набору дзеркал 8 квадратної форми з приводами 5 і 3 їх повороту, з'єднаних з системою управління, (креслення). Установка працює наступним чином: Оброблювану деталь встановлюють на стіл 5, в систему управління вводять алгоритми нанесення маркування (знака): перелік знаків і порядок їх розташування на поверхні деталі. Система управління повертає дзеркала 2 і 4 таким чином, щоб забезпечити необхідне положення першого знака на поверхні деталі, а також приводять у робоче положення тринадцяте з набірних дзеркал 8, які беруть участь у формуванні першого знака. Включають лазер 1. Імпульс лазерного випромінювання, фокусуючись на поверхні деталі лінзою 6, дзеркалами 8 розбивається на окремі промені, що направлені на поверхню деталі, які випаровують (або просвічують) систему мікролунок, що утворюють знак клейма. Розмір знака визначається оптичними параметрами фокусуючої лінзи 6, її розташуванням відносно торця лазера і оброблюваної деталі. Розмір лунок залежить: діаметр - від енергії випромінювання у окремому пучку лазерного імпульсу і від відносного розташування дзеркала 2 та поверхні деталі на оптичній осі лінзи, глибина - від фокусної відстані лінзи та енергії випромінювання. Для нанесення наступного знака клейма промінь лазера розбивається дзеркалами 8 на і іншу комбінацію пучків, які направляються системою дзеркал 2 і 4 у задану точку поверхні деталі. Таким чином наносять весь малюнок клейма: окремі знаки формуються набором дзеркал 8, місце нанесення знака встановлюють взаємним розташуванням дзеркал 2 і 4 (сканування променя по поверхні деталі). При протяжних розмірах зони маркування в установці передбачають координатне переміщення столу 7. Установка при клеймуванні деталей дозволяє скоротити час нанесення знаків, що складають клеймо, ліній, точок, міток. Так, наприклад час нанесення знака системою точок відповідає тривалості лазерного імпульсу і дорівнює 0,1-1,0 мс, а швидкість написання системи символів досягає 5-55 шт./сек., що відповідає частоті слідування імпульсів лазерного випромінювання, за рахунок чого підвищується продуктивність. Джерела інформації: 1. Патент Росії № 2474022 H01S 3/105 від 27.07.2012 2. Патент України № 87090 В23K 26/04 від 27.01.2014 1 UA 98649 U ФОРМУЛА КОРИСНОЇ МОДЕЛІ 5 Установка для лазерної обробки, що містить лазер, фокусуючу лінзу, систему з двох відбиваючих дзеркал зі взаємно схрещеними осями, встановленими вздовж оптичної осі лазера за фокусуючою лінзою, і робочий стіл, яка відрізняється тим, що одне з відбиваючих дзеркал виконане у вигляді набору дзеркал квадратної форми з приводами їх повороту, з'єднаних системою управління. Комп’ютерна верстка Л. Ціхановська Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Василя Липківського, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут інтелектуальної власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 2
ДивитисяДодаткова інформація
Автори англійськоюKotliarov Valerii Pavlovych
Автори російськоюКотляров Валерий Павлович
МПК / Мітки
МПК: H01S 3/02
Мітки: обробки, установка, лазерної
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/4-98649-ustanovka-dlya-lazerno-obrobki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Установка для лазерної обробки</a>
Попередній патент: Комбінований цифровий привод
Наступний патент: Спосіб гартування литих бандажів розмельних млинів для підготовки глиняної маси при виробництві цегли
Випадковий патент: Спосіб визначення агроекологічної належності сортів рису в умовах затоплення