Фареник Володимир Іванович

Різальний інструмент з тришаровим покриттям

Завантаження...

Номер патенту: 89923

Опубліковано: 10.03.2010

Автори: Береснєв Вячеслав Мартинович, Маліков Леонід Васильович, Копєйкіна Марина Юріївна, Гриценко Валерій Іванович, Турбін Петро Васильович, Клименко Сергій Анатолійович, Литовченко Сергій Володимирович, Погребняк Олександр Дмитрович, Фареник Володимир Іванович, Азарєнков Микола Олексійович

МПК: C23C 14/06, B23B 27/14, C23C 14/08 ...

Мітки: тришаровим, інструмент, різальний, покриттям

Формула / Реферат:

1. Різальний інструмент з тришаровим покриттям, котрий містить інструментальну основу з твердого сплаву і зносостійке іонно-плазмове покриття, в якому проміжний шар виконано з нітриду титану, який відрізняється тим, що верхній шар покриття виконано з оксиду алюмінію, а нижній його шар - з титану.2. Різальний інструмент за п. 1, який відрізняється тим, що верхній шар покриття виконано товщиною 2,0 мкм.3. Різальний інструмент за...

Спосіб розділення за масою сумішей ізотопів, елементів та сполук, що знаходяться в плазмовому стані

Завантаження...

Номер патенту: 11772

Опубліковано: 25.12.1996

Автори: Власов Вячеслав Васильович, Фареник Володимир Іванович, Рожков Алім Михайлович, Кривоніс Михайло Григорович, СОСІПАТРОВ МИХАЙЛО ВАСИЛЬОВИЧ, Степанов Костянтин Миколайович, Залюбовський Ілля Іванович

МПК: B01D 59/00, H05G 2/00

Мітки: знаходяться, розділення, спосіб, елементів, сумішей, ізотопів, плазмовому, стані, сполук, масою

Формула / Реферат:

Способ разделения по массам смесей изотопов, элементов и соединений, находящихся в плаз­менном состоянии, включающий воздействие на них скрещенными электрическим и магнитным по­лями осесимметричной конфигурации в условиях замагниченности ионов, отличающийся тем, что, с целью снижения энергозатрат на разделение пу­тем избирательного воздействия на выделяемый компонент смеси, напряженности электрического и магнитного полей выбирают из...

Джерело іонів

Завантаження...

Номер патенту: 5774

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Качанов Юрій Олександрович, Зиков Олександр Володимирович, Фареник Володимир Іванович, Юнаков Микола Миколаєвич

МПК: H01J 27/02

Мітки: іонів, джерело

Формула / Реферат:

Источник ионов с холодным катодом, содер­жащий газоразрядную камеру с расположенными в ней цилиндрическим анодом, торцевым катодом и перфорированным катодом, магнитную систему и систему формирования ионного пучка, отличаю­щийся тем, что, с целью регулирования распределения плотности ионного тока пучка по его сече­нию, в газоразрядной камере со стороны торцевого катода соосно аноду установлен цилиндрический электрод с возможностью его...

Пристрій для плазмохімічного травлення матеріалів

Завантаження...

Номер патенту: 6260

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Фареник Володимир Іванович, Покроєв Анатолій Георгійович, Плетньов Василь Максимович, Будянський Олександр Михайлович

МПК: C23F 1/00

Мітки: плазмохімічного, травлення, матеріалів, пристрій

Формула / Реферат:

1. Устройство для плазмохимического травления материалов, включающее диэлектриче­скую реакционную камеру, перфорированный металлический экранирующий элемент, подложкодержатель с пластиной, размещенный внутри реак­ционной камеры, отверстия для напуска и откачки газа и индуктор для возбуждения ВЧ-разряда, витки которого охватывают реакционную камеру, отлича­ющееся тем, что, с целью увеличения скорости трав­ления и повышения качества обработки...

Пристрій для контролю процесу травлення покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 5772

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Будянський Олександр Михайлович, Єгоренко Володимир Дмитрович, Фареник Володимир Іванович, Івановський Геннадій Хомич, Демченко Петро Васильович, Федоров Микола Миколаєвич, Крячко Юрій Петрович

МПК: C23C 14/54

Мітки: пристрій, процесу, покриттів, контролю, травлення

Формула / Реферат:

1. Устройство для контроля процесса травле-ния покрытий, содержащее систему измеритель­ных электродов и подложкодержатель, размещенные в зоне разряда, откачной патрубок и блок контроля, электрически соединенный с систе­мой измерительных электродов, отличающееся тем, что, с целью повышения точности контроля процесса травления покрытий за счет исключе­ния фонового сигнала, система измерительных электродов выполнена в виде трех зондов,...

Спосіб обробки поверхонь діелектричних мішеней в вакуумі

Завантаження...

Номер патенту: 5770

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Юнаков Микола Миколайович, Фареник Володимир Іванович, Качанов Юрій Олександрович, Зиков Олександр Володимирович, Марущенко Микола Борисович

МПК: C23C 14/00

Мітки: обробки, спосіб, вакуумі, поверхонь, мішеней, діелектричних

Формула / Реферат:

Способ обработки поверхностей диэлектри­ческих мишеней в вакууме, включающий бомбар­дировку мишеней ускоренным пучком положительных ионов и компенсацию заряда электронами катода - нейтрализатора, отличаю­щийся тем, что, с целью повышения качества обра­ботки за счет улучшения однородности обработки и снижения вносимой дефектности, на поверхность катода - нейтрализатора подают положительный по­тенциал j [В], выбираемый из...

Високочастотне джерело іонів

Завантаження...

Номер патенту: 2426

Опубліковано: 26.12.1994

Автори: Зиков Олександр Володимирович, Будянський Олександр Михайлович, Фареник Володимир Іванович

МПК: H01J 27/16

Мітки: іонів, джерело, високочастотне

Формула / Реферат:

Высокочастотный источник ионов, содержащий диалектрическую разрядную камеру, ВЧ-индуктор, охватывающий камеру снаружи, потенциальный апектрод, расположенный в объеме камеры, и ионно-оптическую систему, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности и надежности рабо­ты, потенциальный апектрод соединен с источником ВЧ-напряжения через разделительный конденса­тор, а ионно-оптическая система источника состоит из одного заземленного...