Порицький Марк Львович

Номер патенту: 11369

Опубліковано: 25.12.1996

Автори: Порицький Марк Львович, Матусевич Едуард Іванович, Андреєва Ася Фантинівна

МПК: G03C 5/00, G03F 7/26

Мітки: фотошаблон, виготовлення, спосіб

Формула / Реферат:

1. Фотошаблон, содержащий прозрачную для актиничного излучения подложку с маскирующим слоем на ее поверхности, содержащим прозрачные участки и непрозрачные, выполненные из оксида празсодима в соответствии с топологическим ри­сунком, отличающийся тем, что, с целью повыше­ния износостойкости фотошаблона и улучшения его оптических характеристик, прозрачные участ­ки маскирующего слоя выполнены из полуторного окисла празеодима.2. Способ...