Ротнер Сергій Михайлович

Номер патенту: 121573

Опубліковано: 11.12.2017

Автори: Мельник Роман Сергійович, Руденко Олександр Ігорович, Ніколаєнко Юрій Єгорович, Ротнер Сергій Михайлович

МПК: H05B 3/20, H05B 3/08

Мітки: імітатор, потоку, теплового

Формула / Реферат:

Імітатор теплового потоку, що містить підкладку у вигляді труби з внутрішнім отвором циліндричної форми, на поверхні якої розташований нагрівальний елемент, виконаний з легованої алмазоподібної плівки, та контактні площадки, розташовані на краях нагрівального елемента, який відрізняється тим, що нагрівальний елемент виконаний у вигляді щонайменше чотирьох окремих плоских частин, кожна з яких має свої контактні площадки для електричного...

Номер патенту: 99162

Опубліковано: 25.05.2015

Автори: Ротнер Сергій Михайлович, Челомбітко Ігор Васильович

МПК: G01F 3/00

Мітки: рідини, нагрівач, газу, проточної

Формула / Реферат:

1. Нагрівач проточної рідини чи газу, що містить проточну трубу з перемінним перерізом вздовж її довжини, на поверхні якої на підкладках розташовані дискретні нагрівальні елементи з резистивної безіндукційної наноструктурної кремній-вуглецевої плівки, який відрізняється тим, що всередині труби розташований розтікач, який формує заданий переріз потоку рідини чи газу вздовж довжини труби, а резистивна плівка виконана з...

Номер патенту: 108404

Опубліковано: 27.04.2015

Автори: Ротнер Світлана Едуардівна, Ротнер Сергій Михайлович, Шумінський Генрік Генрікович, Челомбітко Ігор Васильович

МПК: H05B 3/20, F24H 1/12

Мітки: проточної, газу, нагрівач, рідини

Формула / Реферат:

1. Нагрівач проточної рідини чи газу, що містить корпус у вигляді труби, нагрівальний елемент з резистивної плівки та контактні площадки, які розташовані на краях нагрівального елемента, який відрізняється тим, що корпус має на вході і виході конусні ділянки з гайками для кріплення, при цьому корпус виконаний у вигляді труби прямокутного перерізу, а нагрівальний елемент розташований на внутрішній поверхні корпусу і являє собою дискретний...

Номер патенту: 105047

Опубліковано: 10.04.2014

Автори: Вєлічко Максим Андрійович, Горбунов Ілья Алєксандровіч, Косинський Сергій Віталійович, Горбунов Пьотр Ільіч, Ротнер Сергій Михайлович

МПК: G01F 3/00

Мітки: витратоміра, рідини, газу, первинний, елемент

Формула / Реферат:

1. Первинний елемент для витратоміра рідини чи газу, що містить послідовність, як мінімум, одного нагрівача, що створює теплову мітку, і, як мінімум, одного термоперетворювача, виконаних з електропровідного матеріалу, встановлених на каркасі на вимірювальній ділянці трубопроводу всередині вимірюваної речовини вздовж потоку газового або рідкого середовища, обчислювальний блок, блок управління нагрівачем, який відрізняється тим, що нагрівач та...

Номер патенту: 82521

Опубліковано: 12.08.2013

Автори: Ротнер Сергій Михайлович, Ротнер Світлана Едуардівна, Шумінський Генрік Генрікович, Челомбітко Ігор Васильович

МПК: G01F 3/00

Мітки: нагрівач, рідини, проточної, газу

Формула / Реферат:

1. Нагрівач проточної рідини чи газу, що містить підкладку у вигляді труби, на поверхні якої розташований нагрівальний елемент з резистивної плівки та контактні площадки, розташовані на краях нагрівального елемента, який відрізняється тим, що використовується проточна труба зі змінним перерізом вздовж її довжини, а поверхневий нагрівальний елемент являє собою дискретний елемент з підкладкою і виконаний з резистивної безіндукційної...

Номер патенту: 50432

Опубліковано: 10.06.2010

Автори: Ротнер Сергій Михайлович, Ніколаєнко Юрій Єгорович

МПК: F28D 15/00, H01L 23/34, F28D 15/04 ...

Мітки: елементів, пристрій, охолодження, тепловидільних

Формула / Реферат:

1. Пристрій для охолодження тепловидільних елементів, що містить з'єднані між собою радіатор, теплоприймальну основу, теплопередавальний елемент по типу теплової труби, що має контакт з теплоприймальною основою та виконаний в вигляді корпусу з капілярною структурою усередині, який відрізняється тим, що теплопередавальний елемент являє собою єдину герметичну капсулу, виконану з двох керамічних високотеплопровідних пластин, встановлених із...

Номер патенту: 23876

Опубліковано: 11.06.2007

Автор: Ротнер Сергій Михайлович

МПК: H01C 1/02

Мітки: резистор

Формула / Реферат:

Резистор, який містить корпус, виконаний у вигляді об'ємної геометричної фігури, з крипільним елементом, розташованим у периферійній частині корпусу, контактна поверхня якого частково виконана із керамічної підкладки, внутрішня поверхня якої містить резистивний елемент і зв'язані з ним клеми, який відрізняється тим, що контактна поверхня виконана ламаною, при цьому керамічна підкладка розташована в такий спосіб, що її горизонтальна площина...

Номер патенту: 23825

Опубліковано: 11.06.2007

Автор: Ротнер Сергій Михайлович

МПК: H01C 1/02

Мітки: резистор

Формула / Реферат:

Резистор, який містить корпус, виконаний у вигляді об'ємної геометричної фігури, з кріпильним елементом, розташованим у периферійній частині корпусу, контактна поверхня якого частково виконана з керамічної підкладки, внутрішня поверхня якої містить резистивний елемент з клемами, який відрізняється тим, що ділянка контактної поверхні, яка виконана з керамічної підкладки, додатково містить шар з еластичного і теплопровідного матеріалу.

Номер патенту: 3075

Опубліковано: 15.10.2004

Автори: Ротнер Сергій Михайлович, Нікітін Вадим Едуардович

МПК: C03C 23/00

Мітки: зображень, прозорих, зразках, спосіб, формування

Формула / Реферат:

Спосіб формування зображення в прозорому зразку, який включає фокусування в об'ємі зразка імпульсного лазерного випромінювання з щільністю потужності, яка перевищує поріг руйнування зразка, до утворення контрастних зон ушкодження, який відрізняється тим, що тривалість імпульсу лазерного випромінювання встановлюють не більше 10-8 сек.

Номер патенту: 2772

Опубліковано: 16.08.2004

Автор: Ротнер Сергій Михайлович

МПК: H05B 3/06

Мітки: нагрівач

Формула / Реферат:

Нагрівач, який містить підкладку, одна з поверхонь якого містить шар діелектрика, на поверхні якого розташовано нагрівальний елемент із легованої алмазоподібної плівки, і контактні площадки, які розташовані на кінцях нагрівального елемента, який відрізняється тим, що підкладка виконана у вигляді ділянки труби, а шар діелектрика та нагрівальний елемент розташовані на зовнішній поверхні підкладки і по всій площі її поверхні.

Номер патенту: 67527

Опубліковано: 15.06.2004

Автори: Ротнер Сергій Михайлович, Нікітін Вадим Едуардович

МПК: H01C 17/00

Мітки: спосіб, резистивного, отримання, покриття

Формула / Реферат:

1. Спосіб одержання резистивного покриття, який здійснюється шляхом плазмохімічного синтезу алмазоподібної плівки з вуглецевмісного матеріалу на підігрітій підкладці з одночасним легуванням її металом, який відрізняється тим, що синтез здійснюють при температурі підкладки 550-900°С, а отриману алмазоподібну плівку піддають двостадійному відпалюванню, причому на першій стадії відпалювання проводять при температурі синтезу, а на другій стадії...

Номер патенту: 373

Опубліковано: 30.08.1999

Автори: Ткаченко Володимир Борисович, Шаригін Віктор Леонідович, Ротнер Сергій Михайлович

МПК: G02B 3/00, G02C 7/00

Мітки: очей, екран, лікувальний

Формула / Реферат:

1. Лікувальний екран для очей, корпус якого виконаний у вигляді сегмента сфери, поверхня якого зачорнена і містить отвори у вигляді зрізаних конусів, більші основи яких розташовані з зовнішнього боку поверхні, причому їх осі рівновіддалені від прилягаючих один до одного отворів, який відрізняється  тим, що товщина корпуса менша або дорівнює діаметру більшої основи отвору, а діаметр цих отворів D і відстань між їх осями S установлюють у...

Номер патенту: 7798

Опубліковано: 26.12.1995

Автори: Ротнер Юрій Михайлович, Ротнер Сергій Михайлович, Ряпосов Олександр Павлович

МПК: H05K 3/00

Мітки: спосіб, мікросхеми, виготовлення

Формула / Реферат:

Способ изготовления микросхемы, включаю­щий формирование проводящих элементов путем селективной обработки лазерным излучением по­верхности заготовки из нитрида алюминия, отли­чающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа, при фор­мировании проводящих элементов используют ла­зер с длиной волны излучения l = 1,06 мкм и длительностью излучения 2•10-6с, а селектив­ную обработку заготовки проводят в два этапа: сна­чала...