Пристрій для регулювання товщини слою рідини при опромінюванні на прискорювачі електронів
Номер патенту: 3101
Опубліковано: 26.12.1994
Автори: Красніков Евгеній Аркадійович, Київський Михайло Ілліч, Евстратов Володимир Миколайович, Шевчук Лідія Григорівна, Висоцька Наталія Олександрівна, Агальцов Олександр Михайлович
Завантажити PDF файл.
Додаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for liquid layer thickness control at radiation in an electron accelerator
Автори англійськоюKrasnikov Yevhen Arkadiiovych, Ahaltsov Oleksandr Mykhailovych, Yevstratov Volodymyr Mykolaiovych, Kyivskyi Mykhailo Iliich, Shevchuk Lidia Hryhorivna
Назва патенту російськоюУстройство для регулирования толщины шара жидкости при облучении на ускорителе электронов
Автори російськоюКрасников Евгений Аркадьевич, Агальцов Александр Михайлович, Евстратов Владимир Николаевич, Киевский Михаил Ильич, Шевчук Лидия Григорьевна
МПК / Мітки
МПК: G05D 9/00
Мітки: пристрій, регулювання, товщини, прискорювачі, опромінюванні, слою, рідини, електронів
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/1-3101-pristrijj-dlya-regulyuvannya-tovshhini-sloyu-ridini-pri-oprominyuvanni-na-priskoryuvachi-elektroniv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для регулювання товщини слою рідини при опромінюванні на прискорювачі електронів</a>
Попередній патент: Перетворювальний пристрій
Наступний патент: Пальовий фундамент
Випадковий патент: Двигун внутрішнього згоряння