Завантажити PDF файл.

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Device for liquid layer thickness control at radiation in an electron accelerator

Автори англійською

Krasnikov Yevhen Arkadiiovych, Ahaltsov Oleksandr Mykhailovych, Yevstratov Volodymyr Mykolaiovych, Kyivskyi Mykhailo Iliich, Shevchuk Lidia Hryhorivna

Назва патенту російською

Устройство для регулирования толщины шара жидкости при облучении на ускорителе электронов

Автори російською

Красников Евгений Аркадьевич, Агальцов Александр Михайлович, Евстратов Владимир Николаевич, Киевский Михаил Ильич, Шевчук Лидия Григорьевна

МПК / Мітки

МПК: G05D 9/00

Мітки: пристрій, регулювання, товщини, прискорювачі, опромінюванні, слою, рідини, електронів

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/1-3101-pristrijj-dlya-regulyuvannya-tovshhini-sloyu-ridini-pri-oprominyuvanni-na-priskoryuvachi-elektroniv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для регулювання товщини слою рідини при опромінюванні на прискорювачі електронів</a>

Подібні патенти