Пристрій для безперервного лиття заготовок із розплаву

Пристрій для безперервного лиття заготовок із розплаву, що містить установлену в нагрівачі ємність із вихідним отвором, кристалізатор, установлений своєю впускною частиною у вихідному отворі, охолодний пристрій, що охоплює випускну частину кристалізатора, який відрізняється тим що кристалізатор має охоплюючий його додатковий нагрівач, установлений між охолодним пристроєм та ємністю, а також теплоізолюючий екран, розміщений між додатковим иагрівачем та охолодним пристроєм Корисна модель має відношення до металурги ливарного виробництва і може бути використана для одержання довгомірних литих заготовок (катанки) ІЗ різних сплавів, особливо із сплавів на осно єнта, необхідного для отримання заготовок методом безперервного лиття, особливо зі складно легованих сплавів на основі алюмінію, МІДІ, срібла іт п Відомий пристрій для безперервного лиття заготовок із розплаву (заявка Японії № 2-247047, B22D11/04, 1990) [1] Пристрій містить установлену у нагрівачі ємність із вихідним отвором, кристалізатор, установлений своєю впускною частиною у вихідному отворі, охолодний пристрій, що охоплює випускну частину кристалізатора Впускна (що нагрівається) та випускна (охолоджувана) частини кристалізатора розділені жолобом певного профілю, виконаним на його ЗОВНІШНІЙ поверхні для збільшення опору тепловому потоку та збільшення градієнта температури Проте, використання у такій конструкції нагрівача, єдиного для підтримки температури розплавленого металу в плавильній ємності та для забезпечення певного градієнта температурі в кристалізаторі, обмежує отримання високих значень градієнта температури Це не дає можливості збільшити вихід придатної продукції В основу корисної моделі поставлено завдання створити такий пристрій для безперервного лиття заготовок із розплаву, який дозволяв би отримувати заготовки, особливо із складно легованих сплавів на основі алюмінію, міді, срібла та т п , із високим виходом придатної продукції Поставлене завдання вирішується у пристрою для безперервного лиття заготовок із розплаву, який містить установлену в нагрівачі ємність із ві алюмінію, МІДІ або срібла При одержанні заготовок методом безперервного лиття з розплаву важлиео створити високий градієнт температур на фронті кристалізації металу, що розливається, що дасть можливість одержувати заготовки високої якості з більшим виходом придатної продукції Відомий пристрій для безперервного лиття заготовок із розплаву (заявка Японії № 2-263548, B22D11/124, B22D 11/00, 1990) [1] Пристрій має установлену в нагрівачі ємність із вихідним отвором, кристалізатор, своєю впускною частиною установлений у вихідному отворі охолодний пристрій, а також додатковий нагрівач, який охоплює кристалізатор При цьому охолодний пристрій розташовано поблизу випускного отвору кристалізатора Метал, що безперервно розливають, із ємності попадає до кристалізатора, де спочатку нагрівається додатковим нагрівачем до температури вище точки плавлення металу, а потім за допомогою затравочного кристала витягується крізь випускний отвір та потрапляє в охолодний пристрій Роздільне розташування додаткового нагрівача та охолодного пристрою обумовлює значну відстань між зонами ефективного нагріву та охолодження литої заготовки Це не дає можливості отримувати високі значення температурного граді 4463 гою додаткового нагрівача 4 вище TL приблизно на вихідним отвором, кристалізатор, установлений 100°С Далі перегрітий метал входить у контакт із своєю впускною частиною у вихідному отворі, охопоміщеним у кристалізатор 3 затрааочним кристалодний пристрій, який охоплює випускну частину лом із металу, що розливається Литу заготовку кристалізатора Згідно з корисною моделлю крисодержують витягуванням затравочного кристала талізатор має охоплюючий його додатковий нагріза допомогою притискних роликів 7 У середній вам, установлений між охолодним пристроєм та частині кристалізатора 3, між додатковим нагріваємністю а також теплоізолюючий екран, розміщечем 4 і охолодним пристроєм 5, завдяки теплоізоний між додатковим нагрівачем та охолодним прилюючому екрану 6, створюється найбільш високе строєм значення температурного градієнта (GT) Саме в Наявність на кристалізаторі додаткового нагріцьому МІСЦІ відбувається спрямована кристалізавача а також екрана, розміщеного між додатковим ція металу Високе значення GT ДОЗВОЛЯЄ вести нагрівачем і охолодним пристроєм, сприяє підвипроцес безперервного лиття складнолегованих щенню градієнта температури уздовж кристалізасплавів на основі алюмінію МІДІ, срібла без обритора й заготовки, що витягається Високий градівів Високий градієнт температури на фронті крисєнт температури на фронті кристалізації металу талізації металу забезпечує зменшення висоти забезпечує зменшення висоти твердо рідинної твердорідинної зони, яка визначається з умови зони що дозволяє зменшити ймовірність обриву h - AT/G T , де ДТ= TL - Ts, Ts - температура солілитої заготовки На фіг 1 зображений пропонований пристрій дус Пропонований пристрій дозволяє створювати Він МІСТИТЬ ЄМНІСТЬ 1 із вихідним отвором, що встановлений у нагрівачі 2 У донної частини ємності 1, у його вихідному отворі, установлена впускна частина кристалізатора З З боку ЄМНОСТІ 1 кристалізатор 3 охоплений додатковим нагрівачем 4 Охолодний пристрій 5 розташований на випускній частині кристалізатора 3 і відділений від додаткового нагрівача 4 теплоізолюючим екраном 6 Витягування безперервно литої заготовки здійснюють за допомогою притискних роликів 7 Пристрій працює так Поміщений у ємність 1 метал (наприклад, сплав АМГ6) нагрівають за допомогою нагрівача 2 до температури ліквідує (TL) Метал потрапляючи в кристалізатор 3 піддається додатковому локальному нагріванню за допомо От на фронті кристалізації приблизно ЮСГС/см Сила тертя при витягуванні литої заготовки об поверхню кристалізатора прямо пропорційна висоті твердорідинної фази Зменшення h дозволяє зменшити ймовірність обриву литої заготовки Як показали експерименти вихід придатної продукції заготовок, одержуваних за допомогою пропонованого пристрою, збільшується приблизно на 40% Таким чином, пропонований пристрій для безперервного лиття заготовок із розплаву дозволяє у порівнянні з пристроєм, обраним як прототип, одержувати заготовки з більш високим виходом придатної продукції Фіг. 1 Комп ютерна верстка М Клкжін Підписне Тираж 37 прим Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул Урицького, 45, м Київ МСП 03680, Україна ДП "Український інститут промислової власностГ вул Глазунова 1 м Київ - 42, 01601