Спосіб виготовлення рідкокристалічного пристрою
Номер патенту: 60440
Опубліковано: 25.06.2011
Автори: Левенець Василь Володимирович, Сушинський Орест Євгенович, Готра Зенон Юрійович, Фечан Андрій Васильович, Микитюк Зіновій Матвійович
Формула / Реферат
Спосіб виготовлення рідкокристалічного пристрою, згідно з яким на внутрішні сторони плоских скляних пластин послідовно наносять прозорі провідні покриття, орієнтуючі шари та склеюють пластини внутрішніми сторонами одна до одної із спейсерами між ними з наперед заданою товщиною прошарку, який заповнюють рідкокристалічною сумішшю, герметизують і подають оптичне випромінювання під кутом в шар рідкокристалічної суміші, який відрізняється тим, що на зовнішню сторону нижньої скляної пластини встановлюють дзеркальну пластину і оптичне випромінювання подають безпосередньо в грань нижньої скляної пластини.
Текст
Спосіб виготовлення рідкокристалічного пристрою, згідно з яким на внутрішні сторони плоских 3 60440 скляними пластинами 1, товщину якого задають спейсерами 5, заповнюють рідким кристалом 2, герметизують і на зовнішню сторону нижньої скляної пластини 1 встановлюють дзеркальну пластину 6 і оптичне випромінювання 7 подають безпосередньо в грань нижньої скляної пластини 1. Для збільшення інтенсивності оптичного випромінювання, яке поширюється в сторону верхньої скляної пластини 1, з зовнішньої сторони нижньої скляної пластини 1 встановлюють дзеркальну пластину 6 з великим коефіцієнтом відбивання. Розповсюдження оптичного випромінювання в рідкокристалічному пристрої здійснюють шляхом його введення в грань нижньої скляної пластини 1, після чого, внаслідок різного значення показників заломлення скляної пластини 1 і рідкого кристалу 2, значення показника заломлення скляної пластини 1 менший за показник заломлення рідкого кристалу 2, воно потрапляє в шар рідкого кристалу 2, в якому відбувається розсіювання випромінювання і подальше розповсюдження в сторону верхньої скляної пластини 1. Зміна інтенсивності оптичного випромінювання та розширення індикатриси розсіювання здійснюєть Комп’ютерна верстка Л.Литвиненко 4 ся шляхом прикладання напруги до прозорих провідних покриттів 3. В якості рідкого кристалу 2 вибирають немато-холестеричну суміш, в якій відбувається ефект холестерико-нематичного переходу. Для досягнення максимальної інтенсивності оптичного випромінювання використовують розсіювальну конфокальну текстуру рідкого кристалу 2, яка утворюється, коли відсутня напруга на прозорих провідних покриттях 3. А мінімальна інтенсивність оптичного випромінювання досягається при прикладанні напруги до прозорих провідних покриттів 3 і утворенні в рідкому кристалі 2 гомеотропної текстури нематика. Планарно орієнтуючі шари 4 необхідні для створення початкової орієнтації молекул рідкого кристалу 2 паралельно до площин скляних пластин 1. В якості прозорих провідних покриттів 3 використовують плівки суміші оксиду олова та індію (ІТО). Величину контрасту та ширину індикатриси розсіювання можна регулювати в широких межах внаслідок прикладання різної за величиною напруги до прозорих провідних покриттів 3, що призводить до покращення рівномірності підсвічування. Підписне Тираж 24 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюManufacturing method for liquid crystal device
Автори англійськоюHotra Zenon Yuriiovych, Mykytiuk Zinovii Matviiovych, Fechan Andrii Vasyliovych, Sushynskyi Orest Yevhenovych, Levenets' Vasyl' Volodymyrovich
Назва патенту російськоюСпособ изготовления жидкокристаллического устройства
Автори російськоюГотра Зенон Юрьевич, Микитюк Зиновий Матвеевич, Фечан Андрей Васильевич, Сушинский Орест Евгеньевич, Левенец Василий Владимирович
МПК / Мітки
МПК: G02F 1/13
Мітки: спосіб, виготовлення, пристрою, рідкокристалічного
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-60440-sposib-vigotovlennya-ridkokristalichnogo-pristroyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб виготовлення рідкокристалічного пристрою</a>
Попередній патент: Спосіб масової експрес-діагностики населення
Наступний патент: Спосіб виготовлення кольорового оптичного елемента
Випадковий патент: Універсальна відцентрова форсунка