Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення
Номер патенту: 64926
Опубліковано: 25.11.2011
Автори: КРАВЧЕНКО ЮРІЙ СТЕПАНОВИЧ, Кравченко Сергій Юрійович, Осадчук Володимир Степанович
Формула / Реферат
Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, що оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фоторезистор, біполярний транзистор, ємність, котушку індуктивності та два джерела постійної напруги, який відрізняється тим, що фотоперетворювач містить другий біполярний транзистор, перший та другий резистори, причому перший вивід фоторезистора з'єднаний із котушкою індуктивності, а другий вивід фоторезистора з'єднаний з першим виводом ємності, із емітером другого біполярного транзистора, другим полюсом другого джерела постійної напруги та другим полюсом першого джерела постійної напруги, колектор другого біполярного транзистора з'єднаний із базою першого біполярного транзистора та першим виводом першого резистора, другий вивід якого з'єднаний з першим полюсом другого джерела постійної напруги, емітер першого біполярного транзистора з'єднаний із першим виводом ємності, базою другого біполярного транзистора та другим виводом котушки індуктивності, колектор першого біполярного транзистора з'єднаний першим виводом другого резистора, другий вивід другого резистора з'єднаний з першим полюсом першого джерела постійної напруги.
Текст
Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, що оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фоторезистор, біполярний транзистор, ємність, котушку індуктивності та два джерела постійної напруги, який відрізняється тим, що фотоперетворювач містить другий біполярний транзистор, перший та другий резистори, причому перший ви 3 тора, другий вивід першого резистора з'єднаний з першим полюсом другого джерела постійної напруги, емітер першого біполярного транзистора з'єднаний із першим виводом ємності із базою другого біполярного транзистора та другим виводом котушки індуктивності, колектор першого біполярного транзистора з'єднаний першим виводом другого резистора, другий вивід другого резистора з'єднаний з першим полюсом першого джерела постійної напруги. На кресленні подано схему пристрою для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення. Пристрій складається з вузькосмугового інтерференційного фільтра 1, який оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фоторезистор 2, перший вивід якого з'єднаний із котушкою індуктивності 3, а другий вивід фоторезистора з'єднаний з першим виводом ємності 4, із емітером другого біполярного транзистора 5, другим полюсом другого джерела постійної напруги 6 та другим полюсом першого джерела постійної наруги 7, колектор другого біполярного транзистора 5 з'єднаний із базою першого біполярного транзистора 8 та першим виводом першого резистора 9, другий вивід першого резистора 9 з'єднаний з першим полюсом другого джерела постійної напруги 6, емітер першого біполярного транзистора 8 з'єднаний із першим виводом ємності 4 із базою другого біполярного транзистора 5, другим виводом котушки індуктивності 3 та виходом, колектор першого біполярного транзистора 8 з'єднаний першим ви Комп’ютерна верстка Л. Купенко 64926 4 водом другого резистора 10, другий вивід другого резистора 10 з'єднаний з першим полюсом першого джерела постійної напруги 7. Пристрій працює наступним чином. В початковий момент часу світло не діє на фоторезистор 2. Підвищення напруги джерела постійної напруги 6 через резистор 9 до величини, коли на електродах емітер-колектор біполярних транзисторах 5 та 8 виникає від'ємний опір, який приводить до виникнення електричних коливань у контурі який, утворюється паралельним включенням повного опору біполярних транзисторів 5 і 8 з ємнісним характером на електродах емітерколектор та котушкою індуктивності 3. Ємність 4 запобігає проходженню змінного струму через джерело постійної напруги 6. При наступній дії оптичного випромінювання на фоторезистор 2 і змінює його опір що приводить до зміни ємнісної складової повного опору на електродах колекторемітер біполярних транзисторів 5 та 6, а це викликає зміну резонансної частоти коливального контуру. Використання запропонованого пристрою суттєво підвищує точність виміру інформативного параметра за рахунок використання ємнісного елемента коливального контуру у вигляді біполярних транзисторів, в яких зміна опору під дією світла перетворюється в ефективну зміну резонансної частоти, при цьому можлива лінеаризація функції перетворення шляхом вибору величини напруги живлення. Підписне Тираж 23 прим. Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for determination of plasma etching process finishing
Автори англійськоюKravchenko Serhii Yuriiovych, Kravchenko Yurii Stepanovych, Osadchuk Volodymyr Stepanovych
Назва патенту російськоюУстройство для определения момента окончания процесса плазменного травления
Автори російськоюКравченко Сергей Юрьевич, Кравченко Юрий Степанович, Осадчук Владимир Степанович
МПК / Мітки
МПК: H01L 21/302
Мітки: пристрій, закінчення, визначення, травлення, плазмового, моменту, процесу
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-64926-pristrijj-dlya-viznachennya-momentu-zakinchennya-procesu-plazmovogo-travlennya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення</a>
Попередній патент: Спосіб ключового хешування теоретично доведеної стійкості на основі еліптичних кривих
Наступний патент: Спосіб одержання протипухлинної вакцини
Випадковий патент: Концентратор космічної енергії "сніжинка"