Рефлектор
Номер патенту: 103022
Опубліковано: 10.09.2013
Автори: Маріетті Ґері Дж., Медвік Пол А., Ваґнер Ендрю В.
Формула / Реферат
1. Рефлектор, який включає:
прозору підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню;
шар основи, сформований поверх принаймні частини другої основної поверхні;
первинне відбиваюче покриття, сформоване поверх принаймні частини шару основи; і
неорганічне захисне покриття, що складається по суті з матеріалу, вибраного з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, сформоване поверх принаймні частини первинного відбиваючого покриття;
верхнє покриття, що містить станат цинку, сформоване між первинним відбиваючим покриттям та неорганічним захисним покриттям;
причому шар основи містить діоксид титану товщиною від 1 нм до 3 нм.
2. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття є непрозорим у видимій області спектра і містить принаймні одну металеву плівку.
3. Рефлектор за п. 2, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття містить принаймні один метал, вибраний з платини, іридію, осмію, паладію, алюмінію, золота, міді, срібла або сумішей, сплавів, або їх комбінацій.
4. Рефлектор за п. 3, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття містить срібло.
5. Рефлектор за п. 3, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм.
6. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що захисне покриття має товщину в діапазоні від 75 нм до 120 нм.
7. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що включає герметизуючу структуру, сформовану поверх принаймні частини захисного покриття.
8. Рефлектор за п. 7, який відрізняється тим, що герметизуюча структура включає полімерний матеріал.
9. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що антикорозійне покриття розташоване між первинним відбиваючим покриттям та захисним покриттям.
10. Рефлектор за п. 9, який відрізняється тим, що антикорозійне покриття містить принаймні один метал або металевий сплав, вибраний з представників 2-16-ї груп Періодичної таблиці елементів.
11. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що додатково включає фотоактивне покриття, сформоване поверх принаймні частини першої основної поверхні.
12. Рефлектор, який включає:
прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню;
неорганічний шар основи, сформований поверх принаймні частини другої основної поверхні, де шар основи містить принаймні один оксид металу, вибраний з оксиду алюмінію, діоксиду титану, діоксиду цирконію, оксиду цинку, станату цинку, оксиду олова або їх сумішей, або їх комбінацій, і має товщину в діапазоні від 0,1 нм до 5 нм;
первинне відбиваюче покриття сформоване поверх принаймні частини шару основи, де первинне відбиваюче покриття містить принаймні один метал, вибраний з платини, іридію, осмію, паладію, алюмінію, золота, міді, срібла або сумішей, сплавів, або їх комбінацій, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм, і де первинне відбиваюче покриття є непрозорим у видимій області спектра;
антикорозійне покриття, сформоване поверх принаймні частини первинного відбиваючого покриття, де антикорозійне покриття містить принаймні один метал або металевий сплав, що вибраний з представників 2-16-ї груп Періодичної таблиці елементів, і має товщину в діапазоні від 20 нм до 40 нм;
верхнє покриття, сформоване поверх принаймні частини антикорозійного покриття, де верхнє покриття містить принаймні один шар, який включає матеріал, вибранийз оксидів, нітриду, оксинітридів, бориду, фторидів або карбідів металів, та має товщину в діапазоні від 5 нм до 500 нм; і
неорганічне захисне покриття, сформоване поверх принаймні частини верхнього покриття, де захисне покриття включає матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм.
13. Рефлектор, який включає:
прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню;
неорганічний шар основи, що містить шар діоксиду титану, що має товщину в діапазоні від 1 нм до 3 нм, сформований зверху принаймні частини другої основної поверхні;
первинне відбиваюче покриття, що містить шар срібла та має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм, сформоване поверх принаймні частини шару основи;
антикорозійне покриття, що включає нікелевмісний сплав, що має товщину в діапазоні від 20 нм до 40 нм, сформоване зверху принаймні частини первинного відбиваючого покриття;
верхнє покриття, що містить шар станату цинку, що має товщину в діапазоні від 100 нм до 200 нм, сформоване зверху принаймні частини антикорозійного покриття; і
неорганічне захисне покриття, що включає матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію та оксиду алюмінію, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм, сформоване поверх принаймні частини верхнього покриття.
14. Рефлектор за п. 13, який відрізняється тим, що включає герметизуючу структуру, сформовану поверх принаймні частини захисного покриття, де герметизуюча структура містить полімерний матеріал.
15. Рефлектор, який включає:
прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню;
шар основи, сформований поверх принаймні частини другої основної поверхні, де шар основи містить прозорий діелектричний матеріал;
первинне відбиваюче покриття сформоване поверх принаймні частини шару основи, де первинне відбиваюче покриття є непрозорим у видимій області спектра і містить принаймні одну металеву плівку;
неорганічне захисне покриття, сформоване поверх принаймні частини первинного відбиваючого покриття, де захисне покриття включає матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію та оксиду алюмінію; і
герметизуючу структуру, сформовану поверх принаймні частини захисного покриття, де герметизуюча структура містить полімерний матеріал.
Текст
Реферат: Рефлектор, такий як сонячне дзеркало, включає високопрозору основу, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню. Принаймні одне відбиваюче покриття формується поверх принаймні частини одної з поверхонь, наприклад другої основної поверхні (або, як альтернатива, першої основної поверхні). Відбиваюче покриття включає принаймні один металевий шар. Герметизуюча структура може бути сформована поверх принаймні частини другого відбиваючого покриття. UA 103022 C2 (12) UA 103022 C2 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 Область техніки, до якої відноситься винахід Цей винахід відноситься, головним чином, до шару основи з покриттям та, в одному конкретному варіанті здійснення, до скляної підкладки з покриттям, використовуваної, зокрема, для відбивання електромагнітного випромінювання, такого як електромагнітне сонячне випромінювання. Рівень техніки Із зростанням вартості викопних палив сонячна енергія стає прийнятнішою для промисловості і економічно життєздатним джерелом енергії. Одним відомим варіантом є використання дзеркал з метою концентрації сонячної енергії для вироблення електроенергії. Дзеркала, що мають високу відбивну здатність сонячного випромінювання, використовуються для пристроїв "теплової енергії від концентрованих сонячних променів" (CSTP). Існують дзеркала з різною геометрією, які застосовуються в цій області техніки. У одній традиційній системі застосовуються криволінійні параболічні сонячні дзеркала для того, щоб концентрувати сонячну енергію на трубки, розташовані уздовж фокальної лінії. Теплообмінне середовище в трубках передає поглинену теплову енергію в блок генератора, де вона використовується для вироблення електроенергії. У іншій традиційній системі застосовується сонячна башта, в якій декілька плоских сонячних дзеркал направляють сонячну енергію в певне місце башти. Теплота, що генерується сфокусованою сонячною енергією, передається робочому тілу, такому як натрій, причому нагріте робоче тіло використовується для вироблення енергії. Іншою сферою застосування таких дзеркал є "концентровані фотогальванічні елементи" (CPV). При такому застосуванні, дзеркала фокусують або концентрують сонячну енергію на високоефективні фотогальванічні (PV) пристрої, і таким чином, поліпшується вихід енергії в цьому пристрої. У цих відомих системах бажано, щоб дзеркала відбивали якомога більше сонячної енергії. Крім того, бажано, щоб дзеркала мали як можна більший термін експлуатації для того, щоб виключити часту заміну дзеркал. У традиційній технології виробництва дзеркал використовується спосіб вологого хімічного нанесення, в якому срібло осідає на скляну підкладку з розчину нітрату срібла. Проблема таких відомих систем полягає в тому, що відпрацьований розчин повинен видалятися екологічно прийнятним способом. Більш того, в таких традиційних системах відсутня можливість обробки виробу з покриттям при високій температурі (наприклад, для термічного зміцнення, відпуску або згинання) після осадження шару срібла, оскільки це призведе до пошкодження шару срібло. Хоча в деяких традиційних дзеркалах є шар міді, осаджений шляхом вологого хімічного нанесення поверх шару срібла, з метою уповільнення корозії срібла, такі традиційні шари міді не можуть достатньою мірою захистити шар срібла, щоб допустити нагрівання скла з покриттям до температури розм'якшення. Крім того, шар міді, осаджений вологим хімічним способом, є небажаним з екологічних міркувань, конкретно через необхідність видалення стічних вод вологого хімічного способу. Отже, було б доцільно створити рефлектор (відбиваючий виріб), і спосіб виготовлення відбиваючого виробу, в якому усунені або зменшені, принаймні, деякі з проблем, властиві таким традиційним виробам. Суть винаходу Рефлектор, включає прозору підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню. Поверх, принаймні, частини другої основної поверхні формують шар основи. Поверх шару основи формують первинне відбиваюче покриття. Неорганічне захисне покриття формується поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття. У одному не обмежуючому варіанті здійснення, шар основи містить неорганічний матеріал, такий як прозорий діелектричний матеріал. Інший рефлектор, включає прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню. Поверх, принаймні, частини другої основної поверхні формують неорганічний шар основи, який містить, принаймні, один оксид металу, вибраний з оксиду алюмінію, діоксиду титану, діоксиду цирконію, оксиду цинку, станату цинку, оксиду олова, або їх сумішей, або їх комбінацій, і має товщину в діапазоні від 0,1 нм до 5 нм. Принаймні, поверх шару основи формують первинне відбиваюче покриття, яке містить, принаймні, один метал, вибраний з платини, іридію, осмію, паладію, алюмінію, золота, міді, срібла, або сумішей, сплавів, або їх комбінацій, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм, і є непрозорим у видимій області спектру. Антикорозійне покриття формується поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття, причому антикорозійне покриття містить, принаймні, один метал або металевий сплав, що складається з представників 2-16-ї груп Періодичної таблиці елементів, і має товщину в діапазоні від 20 нм до 40 нм. Верхнє покриття формується поверх, 1 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 принаймні, частини антикорозійного покриття, причому верхнє покриття містить, принаймні, один шар, що містить матеріал, вибраний з оксидів, нітриду, оксинітридів, бориду, фторидів, або карбідів металів, і де верхній покрив має товщину в діапазоні від 5 нм до 500 нм. Неорганічне захисне покриття формується поверх, принаймні, частини верхнього покриття, причому захисне покриття містить матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію, або суміші діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм. Додатковий відбиваючий виріб включає прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню. Поверх, принаймні, частини другої основної поверхні формують шар основи, який містить шар діоксиду титану, що має товщину в діапазоні від 1 нм до 3 нм. Поверх, принаймні, частини шару основи формують первинне відбиваюче покриття яке містить шар срібла, що має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм. Антикорозійне покриття формується поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття, причому антикорозійне покриття включає нікельвмісний сплав, що має товщину в діапазоні від 20 нм до 40 нм. Поверх, принаймні, частини антикорозійного покриття формують верхнє покриття, яке містить шар станату цинку, що має товщину в діапазоні від 100 нм до 200 нм. Неорганічне захисне покриття формується поверх, принаймні, частини верхнього покриття, причому захисне покриття містить матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію, або суміші діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, та має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм. Спосіб виготовлення відбиваючого виробу (рефлектора) включає стадії: отримання прозорого шару основи, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню; осадження неорганічного шару основи поверх, принаймні, частини другої основної поверхні; осадження, принаймні, одного первинного відбиваючого покриття, яке є непрозорим у видимій області спектру, поверх, принаймні, частини основи; і осадження неорганічного захисного покриття поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття. Короткий опис креслень Винахід буде описаний з посиланням на наступні фігури креслень, в яких аналогічні деталі скрізь позначені однаковими посилальними номерами позицій. На Фіг. 1A показаний вигляд збоку в розрізі (не у масштабі) відбиваючого виробу (рефлектора), що включає ознаки винаходу; на Фіг. 1B показаний вигляд збоку в розрізі (не у масштабі) іншого відбиваючого виробу, що включає ознаки винаходу; на Фіг. 1C показаний вигляд збоку в розрізі (не у масштабі) додаткового відбиваючого виробу, що включає ознаки винаходу; на Фіг. 2 приведений вигляд збоку в розрізі (не у масштабі) іншого відбиваючого виробу за винаходом; Фіг. 3 є виглядом збоку в розрізі (не у масштабі) додаткового відбиваючого виробу за винаходом; Фіг. 4 є виглядом збоку в розрізі (не у масштабі) додаткового відбиваючого виробу за винаходом; та на Фіг. 5 приведений вигляд збоку (не у масштабі) відбиваючого виробу за винаходом, закріпленого на станині. Опис переважних варіантів винаходу Використовувані у винаході просторові терміни або терміни, вказуючі напрями, такі як "лівий", "правий", "внутрішній", "зовнішній", "вище", "нижче", і тому подібне, мають значення, показане на фігурах креслень. Проте слід розуміти, що винахід може допускати різні альтернативні орієнтації і, відповідно, такі терміни не слід розглядати як обмежувальні. Крім того, слід розуміти, що всі числа, використовувані в описі та формулі винаходи, що виражають розміри, фізичні характеристики, технологічні параметри, кількості компонентів, умови реакції, і тому подібне, можуть бути модифіковані у всіх випадках за допомогою терміну "приблизно". Отже, якщо не вказане протилежне, чисельні значення, викладені, в нижченаведеному описі і формулі винаходу можуть змінюватися залежно від необхідних властивостей, які можуть бути отримані з використанням цього винаходу. Як мінімум, але не як спроба обмежити застосування доктрини еквівалентів об'єму формули винаходу, кожна чисельна величина повинна тлумачити, принаймні, в світлі ряду приведених значущих цифр з використанням традиційних методик округлення. Більш того, всі приведені в описі діапазони слід розуміти, як такі що включають початкове та кінцеве значення діапазону і будь-які, і всі піддіапазони, віднесені до цієї категорії. Наприклад, сформульований діапазон "від 1 до 10" слід розглядати як величини, що включають будь-які і всі піддіапазони між (і включно) мінімальним значенням 1 і максимальною величиною 10; тобто, всі піддіапазони, починаючи з мінімального значення 1 або більше, і закінчуючи максимальною величиною 10 або менше, наприклад, від 1 до 3,3, від 4,7 до 7,5, від 5,5 до 10, і 2 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 тому подібне. Крім того, використовувані у винаході терміни "формується поверх (поверх)”, "осідає поверх (поверх)”, або "отримується поверх (поверх)” означають формується, осідає або отримується на поверхні, але не обов'язково в безпосередньому контакті з поверхнею. Наприклад, шар покриття "сформований поверх" шару основи не виключає наявності одного або декількох інших шарів покриття або плівок однакового або різного складу, розташованих між сформованим шаром покриття і підкладкою. Використовувані у винаході терміни "полімер" або "полімерний" включають олігомери, гомополімери, співполімери і терполімери, наприклад, полімери, що утворилися з двох або більш за типи мономерів або полімерів. Терміни "видимий діапазон" або "видиме світло" відносяться до електромагнітного випромінювання, що має довжину хвилі в діапазоні від 380 нм до 780 нм. Терміни "інфрачервона область" або "інфрачервоне випромінювання" відносяться до електромагнітного випромінювання, що має довжину хвилі в діапазоні більш ніж 780 нм і до 100000 нм. Терміни "ультрафіолетова область" або "ультрафіолетове випромінювання" означає електромагнітне випромінювання, що має довжину хвилі в діапазоні від 100 нм до менше, ніж 380 нм. Крім того, всі документи, такі як (але без обмеження) видані патенти і заявки на патенти, на які є посилання у винаході, слід розглядати як повністю "включені в цей винахід як посилання". Крім того, такі параметри як "пропускання видимого світла" і "відбивання видимого світла" і тому подібне, визначаються з використанням традиційних методів. Фахівці в цій області техніки можуть зрозуміти, що такі характеристики як пропускання видимого світла або відбивання видимого світла можуть змінюватися залежно від фізичних розмірів, наприклад, товщини досліджуваного виробу. Отже, розрахункове зіставлення із справжнім винаходом слід проводити при еквівалентній товщині. З метою подальшого обговорення, винахід буде розглянутий з посиланням на використання відбиваючого виробу (рефлектора) для відбивання електромагнітного випромінювання, такого як (але без обмеження) сонячне дзеркало для відбивання електромагнітного сонячного випромінювання. Використовуваний у винаході термін "сонячне дзеркало" відноситься до будьякого виробу, скомпонованого для відбивання електромагнітного сонячного випромінювання, такого як видиме і/або інфрачервоне і/або ультрафіолетове випромінювання, наприклад, для використання в системах концентрації сонячної енергії. Проте слід розуміти, що винахід не обмежується застосуванням в сонячних дзеркалах, воно може бути застосоване на практиці в інших областях, таких як (але не обмежується) ламіновані або не ламіновані побутові і/або промислові дзеркала, або відбивачі для високоефективних оптичних систем (наприклад, відеопроектори або оптичні сканери), названо лише небагато областей. Тому слід розуміти, що конкретно описані приклади здійснення приведені тільки для пояснення загального задуму винаходу і що винахід не обмежується цими конкретно описаними прикладами здійснення. У широкому аспекті рефлектор за винаходом включає, принаймні, деякі з наступних компонентів: (1) світлопровідну підкладку або перекриваючий шар, що має мале поглинання сонячного випромінювання в області електромагнітного спектру, в якій потрібне відбивання від виробу, (2) один або декілька первинних відбиваючих шарів, що мають високу відбивну здатність сонячного випромінювання в областях електромагнітного спектру, в якому потрібне відбивання, (3) необов'язкова "грунтовка", або "блокуючий", або "бар'єрний" шар (шари), які можуть сприяти збереженню характеристик відбиваючого шару (шарів) і/або поліпшенню адгезії суміжних компонентів, (4) один або декілька необов'язкових вторинних відбиваючих шарів, таких як додаткові металеві, напівпровідникові, діелектричні, і/або композиційні шари, які можуть підсилити відбивну здатність виробу в деякому або всіх необхідних діапазонах довжин хвиль, і/або можуть захищати первинний відбиваючий шар (шари) і/або запобігати дифузії хімічних частинок між шарами і/або шаром основи/перекриваючими шарами, (5) необов'язковий шар (шари), що запобігає корозії, (6) необов'язковий протекторний шар (шари), що містить матеріали, які мають вищу схильність до корозії, ніж матеріали, що містять компоненти 2, 3 і/або 4, (7) необов'язковий шар (шари) матеріалів (наприклад, металу або металевих сплавів), що мають корозійну стійкість і/або утворюють пасивуючі шари, які запобігають хімічній взаємодії/реакції хімічно активних частинок навколишнього середовища з іншими компонентами, (8) необов'язковий герметизуючий шар (шари), який захищає розташовані нижче шари (особливо відбиваючий шар (шари)) від дії небезпечних чинників навколишнього середовища (наприклад, забруднень атмосфери, води, механічних домішок) (9) необов'язковий адгезійний шар (шари), який сполучає виріб з необов'язковими лежачими нижче тонкими пластинками/шарами/ шаром основи/перекриваючими шарами або іншими 3 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 підтримуючими структурами, (10) необов'язковий полімерний шар (шари), (11) необов'язкові додаткові тонкі пластинки/шари/шар основи/перекриваючі шари, (12) необов'язкова, не вимагаюча догляду (наприклад, гідрофільна і/або фотокаталітична або гідрофобна) верхня сторона, і (13) необов'язкові краєві ущільнювачі. Не обмежуючий рефлектор, що включає ознаки винаходу, продемонстрований на Фіг. 1A і буде описаний тут, як сонячне дзеркало 1. Це сонячне дзеркало 1 може володіти будь-якою необхідною відбивною здатністю або коефіцієнтом пропускання в області (областях), що представляють інтерес, усередині електромагнітного спектру (наприклад, ультрафіолетовій, видимій, ближній інфрачервоній, дальній інфрачервоній, мікрохвильовій, радіохвильовій, та ін.). Наприклад, сонячне дзеркало 1 може мати ступінь відбивання видимого світла з довжиною хвилі 550 нм, принаймні 85 %, наприклад, принаймні 90 %, наприклад, принаймні 95 %. У варіанті здійснення, показаному на Фіг. 1A, сонячне дзеркало 1 включає підкладку або шар 12 з першою основною поверхнею 14, тобто, зовнішньою основною поверхнею, і протилежною другою основною поверхнею 16, тобто, внутрішньою основною поверхнею. У подальшому обговоренні, перша основна поверхня 14 звернена до падаючого випромінювання, а друга поверхня 16 обернена у бік, зворотний падаючому випромінюванню. Необов'язковий шар основи 102 може бути створений поверх, принаймні, частини однієї основної поверхні, такої як друга основна поверхня 16. У показаному не обмежуючому варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 формується поверх, принаймні, частини другої основної поверхні 16, наприклад, поверх, принаймні, частини шару основи 102, якщо він є. Захисне покриття 50 створюють поверх, принаймні, частини первинного відбиваюче покриття 22. Хоча в продемонстрованому варіанті здійснення покриття формуються поверх другої основної поверхні 16, ясно, що, принаймні, деякі покриття як альтернатива можуть утворитися на першій основній поверхні 14. У широкій практиці винаходу шар 12 може включати будь-який необхідний матеріал, що має будь-які необхідні характеристики. Наприклад, шар 12 може бути прозорим або напівпрозорим для видимого випромінювання. Термін "прозорий" означає, що ступінь пропускання більший, ніж 0 % і до 100 % в необхідному діапазоні довжини хвилі, такому як видиме випромінювання. Як альтернатива, шар 12 може бути напівпрозорим. Термін "напівпрозорий" означає, що пропускання електромагнітного випромінювання (наприклад, видимого випромінювання) можливе за рахунок дифузії або розсіювання цього випромінювання. Приклади відповідних матеріалів для шару 12 включають (але без обмеження) термопластичні, термореактивні або еластомерні полімерні матеріали, скло, кераміку, і метали або металеві сплави, та їх комбінації, композиції, або суміші. Конкретні приклади відповідних матеріалів включають (але без обмеження) пластичні шари основи (такі як акрилові полімери, наприклад, поліакрилати; поліалкилметакрилати, такі як поліметилметакрилати, поліетилметакрилати, поліпропилметакрилати, і тому подібне; поліуретани; полікарбонати; поліалкилтерефталати, такі як поліетилентерефталат (PET), поліпропилентерефталати, полібутилентерефталати, і тому подібне; полімери, що містять полісилоксани; або співполімери будь-яких мономерів для отримання полімерів або будь-яких їх сумішей); керамічні шари основи; скляні шари основи; або суміші або комбінації будь-яких вказаних вище матеріалів. Наприклад, шар 12 може включати традиційне натрієво-кальцієво-силікатне скло, боросилікатне скло, або освинцьоване скло. Скло може бути світлим. Термін "світле скло" означає нефарбоване або безбарвне скло. Альтернативне скло може бути забарвленим у той або інший спосіб. Скло може бути відпущеним або термічно обробленим склом. Використовуваний у винаході термін "термічно оброблене" означає відпущене, зігнуте, термічно зміцнене або ламіноване покриття. Скло може бути будь-якого типу, таке як традиційне поліроване скло, і може мати будь-який склад, будь-які оптичні властивості, наприклад, будь-який ступінь пропускання видимого світла, ультрафіолетового, інфрачервоного і/або всього сонячного випромінювання. Наприклад, шар 12 може бути світлим полірованим склом або може бути забарвленим або кольоровим склом. Без обмеження справжнього винаходу, приклади стекол, придатних для шару 12, описані в патентах США №№ 4746347; 4792536; 5030593; 5030594; 5240886; 5385872; і 5393593. Шар 12 може мати будь-які необхідні розміри, наприклад, довжину, ширину, форму або товщину. У одному прикладі здійснення перший шар 12 може мати товщину більшу, ніж 0 і до 10 мм, таку товщину як від 1 мм до 10 м, наприклад, від 1 мм до 5 мм, наприклад, товщину меншу, ніж 4 мм, наприклад, товщину від 3 мм до 3,5 мм, наприклад, товщину 3,2 мм. Крім того, шар 12 може мати будь-яку необхідну форму, таку як плоску, викривлену, параболічну або тому подібне. Крім того, коли первинний відбиваючий шар (шари) 22 знаходиться на другій основній поверхні 16 4 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 виробів, шар 12 може містити один або декілька матеріалів, яким властиве мале поглинання електромагнітного випромінювання в області електромагнітного спектру, в якій потрібне відбивання. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення шар 12 може мати високий ступінь пропускання видимого випромінювання при стандартній довжині хвилі 550 нанометрів (нм) і стандартній товщині 3,2 мм. Термін "високий ступінь пропускання видимого випромінювання" означає ступінь пропускання видимого випромінювання при 550 нм, який перевищує або дорівнює 85 %, чи перевищує або дорівнює 87 %, чи перевищує або дорівнює 90 %, чи перевищує або дорівнює 91 %, чи перевищує або дорівнює 92 %, чи перевищує або дорівнює 93 %, чи перевищує або дорівнює 95 %, при стандартній товщині шару 3,2 мм. Скла, особливо використовувані при практичному здійсненні винаходу, розкриті в патентах США №№ 5030593 і 5030594. Не обмежуючі приклади стекол, які можуть бути використані при здійсненні винаходу, включають (але без обмеження) скла марок: Starphire®, Solarphire®, Solarphire® PV, Solargreen®, Solextra®, GL-20®, GL-35™, Solarbronze®, CLEAR, Solargray®, котрі всі постачає на ринок фірма PPG Industries Inc. of Pittsburgh, Pennsylvania. Шар основи 102 може забезпечити міцнішу або надійнішу поверхню розділу між шаром 12 і первинним відбиваючим покриттям 22. Шар основи 102 може містити один або декілька матеріалів, вибраних так, щоб поверхня розділу між шаром основи 102 і первинним відбиваючим покриттям 22 мала більшу механічну, хімічну і/або екологічну стабільність, ніж поверхня розділу між шаром 12 і первинним відбиваючим шаром 22. Крім того, шар основи 102 може служити дифузійним бар'єром для обміну елементами між шаром 12 і первинним відбиваючим покриттям 22 (таким як міграція натрію з скляного шару основи до вищерозміщеного покриття (покриттів) або міграція металу, наприклад, срібла з первинного відбиваючого покриття 22 в скло), особливо яка могла би відбуватися в результаті обробки виробу з покриттям при підвищеній температурі, наприклад, для згинання або термічного зміцнення. Додатково або альтернативно шар основи 102 може забезпечити гладшу або плоскішу поверхня, на якій осідатиме вищерозміщене покриття, наприклад, первинне відбиваюче покриття 22. Приклади матеріалів, придатних для шару основи 102, включають (але без обмеження) неорганічні матеріали, такі як (але не обмежуються) прозорі діелектрики з малим поглинанням, такі як оксиди металів або їх комбінації, композиції або суміші оксидів металів. Приклади відповідних оксидів металів включають оксид алюмінію, діоксид титану, діоксид цирконію, оксид цинку, станат цинку, оксид олова, або їх суміші, або їх комбінації. Інші приклади для шару основи 102 включають один або декілька шарів діоксиду кремнію і/або нітриду кремнію. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення шар основи 102 містить діоксид титану. Шар основи 102 може мати будь-який склад або товщину, щоб отримати виріб з достатньою функціональністю (наприклад, механічною, хімічною, пасивуючою, вирівнюючою, адгезійною, з властивістю дифузійного бар'єру, з підвищеною екологічною довговічністю, оптичною функціональністю). У одному окремому варіанті здійснення, де шар основи 102 є діоксидом титану, шар основи 102 має товщину в діапазоні від 0,1 нм до 5 нм, таку як від 0,1 нм до 3 нм, таку як від 0,5 нм до 3 нм, таку як від 1 нм до 3 нм, таку як від 0,5 нм до 2 нм, таку як від 1 нм до 2 нм, таку як від 1,5 нм до 2 нм, таку як 1,8 нм. Первинне відбиваюче покриття 22 формується поверх, принаймні, частини другої основної поверхні 16, наприклад, поверх, принаймні, частини шару основи 102, якщо вона є. Первинне відбиваюче покриття 22 містить один або декілька неорганічних або органічних діелектриків, металів або напівпровідників, вибраних з метою відбивання однієї або декількох частин електромагнітного спектру, такий як одна або декілька частин в діапазоні електромагнітного сонячного випромінювання. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 містить одну або декілька металевих плівок або шарів, що відбивають випромінювання. Приклади відповідних відбиваючих металів включають (але без обмеження) металеві платину, іридій, осмій, паладій, алюміній, золото, мідь, срібло, або суміші, сплави, або їх комбінації. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення, первинне відбиваюче покриття 22 містить шар металевого срібла, що має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм, таку як від 50 нм до 300 нм, таку як від 60 нм до 400 нм, таку як від 60 нм до 300 нм, таку як від 70 нм до 300 нм, таку як від 80 нм до 200 нм, таку як від 80 нм до 150 нм, таку як від 90 нм до 150 нм, таку як від 90 нм до 140 нм, таку як від 90 нм до 130 нм, таку як від 100 нм до 130 нм, таку як від 120 нм до 130 нм. У одному окремому, не обмежуючому варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 містить металеве срібло і має товщину, принаймні 50 нм, таку як, принаймні 60 нм, таку як, принаймні 70 нм, таку як, принаймні 80 нм (наприклад, в діапазоні від 70 нм до 90 нм). Первинне відбиваюче покриття 22 може бути осаджене до такої товщини, щоб виріб 1 мав будьякий певний необхідний рівень відбивної здатності в діапазоні електромагнітного 5 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 випромінювання, яке потрібно відбивати. Первинне відбиваюче покриття 22 може бути осаджено до товщини, достатньої для того, щоб первинне покриття 22 було непрозорим в необхідному діапазоні довжин хвилі, такому як видиме випромінювання. Первинне відбиваюче покриття 22 може годитися для відбивання видимого і сонячного інфрачервоного випромінювання. У одному певному, не обмежуючому варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 осаджується з використанням традиційного процесу розпилювання, який детальніше описаний далі. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 може містити "сильний відбивач", що містить безліч переміжуваних матеріалів з високим та малим показником заломлення. Захисне покриття 50 сприяє захисту розташованих нижче шарів, таких як первинний відбиваючий шар 22, від механічної і хімічної дії під час виробництва, перевезення, маніпулювання, обробки і/або протягом терміну служби дзеркала в умовах експлуатації. Крім того, захисне покриття 50 допомагає захистити розташовані нижче шари від проникнення рідкої води, водяної пари та інших атмосферних забруднювачів (твердих, рідких або газоподібних). Захисне покриття 50 може бути непроникним для кисню шаром покриття, який запобігає або ослабляє надходження кисню з навколишнього середовища в розташовані нижче шари при подальшій обробці, наприклад, такій як нагрівання або згинання. Захисне покриття 50 може бути виготовлене з будь-якого необхідного матеріалу або суміші матеріалів, таких як (але без обмеження) один або декілька неорганічних матеріалів. У одному прикладі здійснення захисне покриття 50 може включати шар, що містить один або декілька металоксидних матеріалів, таких як (але без обмеження) оксиди алюмінію, кремнію або їх суміші. Наприклад, захисне покриття 50 може бути єдиним шаром покриття, що має склад в діапазоні від 0 мас. % до 100 мас. % оксиду алюмінію і/або від 100 мас. % до 0 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 1 мас. % до 99 мас. % оксиду алюмінію і від 99 мас. % до 1 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 5 мас. % до 95 мас. % оксиду алюмінію і від 95 мас. % до 5 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 10 мас. % до 90 мас. % оксиду алюмінію і від 90 мас. % до 10 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 15 мас. % до 90 мас. % оксиду алюмінію і від 85 мас. % до 10 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 50 мас. % до 75 мас. % оксиду алюмінію і від 50 мас. % до 25 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 50 мас. % до 70 мас. % оксиду алюмінію і від 50 мас. % до 30 мас. % діоксиду кремнію, такий як від 35 мас. % до 100 мас. % оксиду алюмінію і від 65 мас. % до 0 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, від 70 мас. % до 90 мас. % оксиду алюмінію і від 30 мас. % до 10 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, від 75 мас. % до 85 мас. % оксиду алюмінію і від 25 мас. % до 15 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, 88 мас. % оксиду алюмінію і 12 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, від 65 мас. % до 75 мас. % оксиду алюмінію і від 35 мас. % до 25 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, 70 мас. % оксиду алюмінію і 30 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, від 60 мас. % до менш ніж 75 мас. % оксиду алюмінію і більш ніж від 25 мас. % до 40 мас. % діоксиду кремнію. У одному певному, не обмежуючому варіанті винаходу захисне покриття 50 містить від 40 мас. % до 15 мас. % оксиду алюмінію і від 60 мас. % до 85 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, 85 мас. % діоксиду кремнію і 15 мас. % оксиду алюмінію. Також можуть бути присутніми інші матеріали, такі як алюміній, хром, гафній, ітрій, нікель, бор, фосфор, титан, цирконій і/або їх оксиди, з метою регулювання показника заломлення захисного покриття 50. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення показник заломлення захисного покриття 50 може бути в діапазоні від 1 до 3, такий як від 1 до 2, такий як від 1,4 до 2, такий як від 1,4 до 1,8. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 містить комбінацію діоксиду кремнію і оксиду алюмінію. Захисне покриття 50 може розпилюватися з двох катодів (наприклад, один кремнієвий і інший алюмінієвий) або з єдиного катода, що містить кремній і алюміній. Склад цього оксидного кремній/алюмінієвого захисного покриття 50 може бути представлений як SixAl1-xO1,5+x/2, де x може змінюватися від більше 0 до менше, ніж 1. У одному конкретному, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 може бути оксидним кремній/алюмінієвим покриттям (SixAl1-xO1,5+x/2), що має товщину в діапазоні від 5 нм до 5000 нм, таку як від 5 нм до 1000 нм, таку як від 10 нм до 100 нм, наприклад, від 10 нм до 50 нм, таку як від 10 нм до 40 нм, таку як від 20 нм до 30 нм, таку як 25 нм. Крім того, захисне покриття 50 може мати змінну товщину. Термін "змінна товщина" означає, що товщина захисного покриття 50 може змінюватися в даній одиниці площі, наприклад, захисне покриття 50 може мати великі і малі ділянки або області. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 містить кремній/алюмінієве оксидне покриття або суміш діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, таку як 85 мас. % діоксиду кремнію і 15 мас. % оксиду алюмінію, і має товщину в діапазоні від 10 нм до 500 нм, таку як від 20 нм до 300 нм, таку як від 50 нм до 300 нм, наприклад, від 50 нм до 200 нм, таку як від 50 нм до 150 нм, таку як від 50 нм до 120 нм, таку як від 75 нм до 120 нм 6 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 таку як від 75 нм до 100 нм. У певному, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 може мати товщину, принаймні 50 нм, таку як, принаймні 75 нм, таку як, принаймні 100 нм, таку як, принаймні 110 нм, таку як, принаймні 120 нм, таку як, принаймні 150 нм, таку як, принаймні 200 нм. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 містить шар діоксиду кремнію, що має товщину в діапазоні від 10 нм до 100 нм, таку як від 10 нм до 80 нм, таку як від 20 нм до 80 нм, таку як від 30 нм до 70 нм, таку як від 40 нм до 60 нм, таку як 50 нм. У додатковому, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 містить шар діоксиду кремнію, що має товщину в діапазоні від 10 нм до 500 нм, таку як від 10 нм до 400 нм, таку як від 20 нм до 300 нм, таку як від 50 нм до 200 нм, таку як від 75 нм до 150 нм, таку як від 75 нм до 120 нм. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 може містити багатошарову структуру, наприклад, перший шар, принаймні, з одним другим шаром, що утворився поверх першого шару. У одному конкретному, не обмежуючому варіанті здійснення перший шар може містити оксид алюмінію або суміш або сплав, що містить оксид алюмінію і діоксид кремнію. Наприклад, перший шар може містити суміш діоксиду кремнію/оксиду алюмінію, що має більше, ніж 5 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, більше, ніж 10 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, більше, ніж 15 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, більше, ніж 30 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, більше, ніж 40 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, від 50 мас. % до 70 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, в діапазоні від 70 мас. % до 100 мас. % оксиду алюмінію і від 30 мас. % до 0 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, більше, ніж 90 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, більше, ніж 95 мас. % оксиду алюмінію. У одному не обмежуючому варіанті здійснення перший шар складається повністю або майже повністю з оксиду алюмінію. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення перший шар може мати товщину в діапазоні від більш, ніж 0 нм до 1 мкм, таку як від 5 нм до 10 нм, таку як від 10 нм до 25 нм, таку як від 10 нм до 15 нм. Другий шар може містити діоксид кремнію або суміш або сплав, що містить діоксид кремнію і оксид алюмінію. Наприклад, другий шар може містити суміш діоксиду кремнію/оксиду алюмінію, що має більше, ніж 40 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, більше, ніж 50 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, більше, ніж 60 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, більше, ніж 70 мас. % діоксиду кремнію, наприклад, більше, ніж 80 мас. % діоксиду кремнію, таку як в діапазоні від 80 мас. % до 90 мас. % діоксиду кремнію і від 10 мас. % до 20 мас. % оксиду алюмінію, наприклад, 85 мас. % діоксиду кремнію і 15 мас. % оксиду алюмінію. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення другий шар може мати товщину в діапазоні від більше, ніж від 0 нм до 2 мкм, таку як від 5 нм до 500 нм, таку як від 5 нм до 200 нм, таку як від 10 нм до 100 нм, таку як від 30 нм до 50 нм, таку як від 35 нм до 40 нм. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення другий шар може мати товщину в діапазоні від більш, ніж 0 нм до 1 мкм, таку як від 5 нм до 10 нм, таку як від 10 нм до 25 нм, таку як від 10 нм до 15 нм. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення захисне покриття 50 може бути подвійним шаром, що утворився з першого шару, що містить оксид металу (наприклад, першого шару, що містить діоксид кремнію і/або оксид алюмінію), сформованого поверх іншого шару, що містить оксид металу (наприклад, другого шару, що містить діоксид кремнію і/або оксид алюмінію). Окремі шари багатошарового захисного покриття можуть мати будь-яку необхідну товщину. Не обмежуючі приклади відповідних захисних покриттів описані, наприклад, в патентах США №№ 10/007382; 10/133805; 10/397001; 10/422094; 10/422095; і 10/422096. Як обговорювалося вище, відбиваючий виріб (рефлектор) за винаходом може включати один або декілька необов'язкових шарів, додаткових плівок, покриттів або структур. Тепер будуть описані додаткові відбиваючі вироби за винаходом з такими включеними додатковими структурами. Проте слід розуміти, що описані конкретні необов'язкові структури або покриття не обмежуються певними продемонстрованими варіантами здійснення, крім того ці структури можуть бути використані взаємозамінно, в будь-якому з варіантів здійснення винаходу. Інший, не обмежуючий рефлектор, що включає ознаки винаходу, продемонстрований на Фіг. 1В у вигляді сонячного дзеркала 3. У цьому варіанті здійснення, продемонстрованому на Фіг. 1B, сонячне дзеркало 3 включає шар 12 з першою основною поверхнею 14, тобто зовнішньою основною поверхнею, і протилежною другою основною поверхнею 16, тобто внутрішньою основною поверхнею, як описано вищим. Необов'язковий шар основи 102 може бути нанесений поверх, принаймні, частини одної з основних поверхонь, такий як друга основна поверхня 16. Первинне відбиваюче покриття 22 формується поверх, принаймні, частини другої основної поверхні 16, наприклад, поверх, принаймні, частини шару основи 102, якщо він є. Одне або декілька необов'язкових, стійких відносно корозії або антикорозійних покриттів 104 може бути нанесено, наприклад, поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття 22. 7 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 Плівка ґрунтовки 106 може бути нанесена поверх або знизу, принаймні, частини антикорозійного покриття 104. Верхній шар 40 може бути передбачений поверх, принаймні, частини антикорозійного покриття 104, наприклад, поверх, принаймні, частини плівки ґрунтовки 106. Захисне покриття 50 може бути передбачено поверх, принаймні, частини верхнього шару 40. Необов'язкова герметизуюча структура 24 може бути нанесена поверх, принаймні, частини захисного покриття 50. Хоча показано тільки одне антикорозійне покриття 104, виріб може мати множину антикорозійних покриттів 104 і множину плівок ґрунтовок 106 або вище, і/або нижче за антикорозійне покриття 104. Шар 12, шар основи 102, первинне відбиваюче покриття 22 і захисне покриття 50 можуть бути такими, як описано вищим. Проте в цьому варіанті здійснення рефлектор, 3 також містить інші шари, що мають інші функції. Наприклад, антикорозійне покриття 104 може забезпечувати різні переваги, такі як придушення корозії і екранування ультрафіолетового випромінювання. Крім того, антикорозійне покриття 104 може забезпечувати в деякій мірі відбивання електромагнітної енергії, що може дозволити використовувати тонший первинний відбиваючий шар 22. Крім того, антикорозійне покриття 104 може забезпечувати механічний і/або хімічний захист для розташованих нижче шарів покриття. Антикорозійне покриття 104 може бути нанесене нижче, вище або між одним або декількома шарами покриття, наприклад, первинним відбиваючим покриттям (покриттями) 22 або верхнім покриттям 40 (описано далі). Як альтернатива або доповнення, антикорозійне покриття 104 може бути нанесено нижче, вище або між одним або декількома шарами захисного покриття 50. Вважають, що антикорозійне покриття 104 збільшує корозійний опір розташованих нижче покриттів, і/або підвищує здатність сонячного відбиваючого дзеркала 3 для видимого випромінювання, і/або може блокувати або зменшувати пропускання УФ випромінювання. Приклади відповідних матеріалів для антикорозійного покриття 104 включають (але без обмеження) елементарні метали і сплави з двох або більш металевих елементів, які знаходяться в групах 2-16 періодичної таблиці елементів, включаючи (але не обмежуючись) нікель і нікельвмісні сплави, залізні сплави і залізовмісні сплави, такі як неіржавіючі сталі, алюміній та алюмінійвмісні сплави, мідь та мідьвмісні сплави, хром та хромвмісні сплави, титан і титанвмісні сплави, латунь, таку як латунь Naval (сплав Cu, Zn і Sn), адміралтейська латунь (сплав Zn, Sn і Cu), і алюмінієва латунь (сплав Cu, Zn і Al), кобальт і кобальтвмісні сплави, такі як сплави кобальту і хрому, цинк і цинквмісні сплави, олово і олововмісні сплави, цирконій і цирконійвмісні сплави, молібден і молібденвмісні сплави, вольфрам і вольфрамвмісні сплави, ніобій і ніобийвмісні сплави, індій та індійвмісні сплави, свинець і свинцевмісні сплави та вісмут і вісмутвмісні сплави. Конкретні, не обмежуючі варіанти винаходу включають корозійностійкі метали і металеві сплави, включаючи (але не обмежуючись) нікель і нікельвмісні сплави, такі як Нікель 200, Inconel® сплави, такі як Inconel 600 і Inconel 625, неіржавіючі сталі, такі як неіржавіюча сталь 304 і неіржавіюча сталь 316, Monel® сплави, такі як Monel 400, Hastelloy® сплави, кобальт і кобальтвмісні сплави, такі як Stellite® сплави, Inco сплави, такі як сплав Inco C-276 і сплав Inco 020, Incoloy® сплави, такі як Incoloy 800 і Incoloy 825, мідь і мідьвмісні сплави, такі як латунь, особливо латунь Naval (приблизно 59 % міді, 40 % цинку і 1 % олова) і адміралтейська латунь (приблизно 69 % міді, 30 % цинку, 1 % олова), кремній і кремнійвмісні сплави, титан і титанвмісні сплави, і алюміній і алюмінійвмісні сплави, такі як алюміній 6061. Якщо є антикорозійне(ні) покриття 104, воно може мати будь-яку необхідну товщину. У деяких, не обмежуючих варіантах здійснення антикорозійні покриття 104 можуть мати товщину в діапазоні (але без обмеження) від 1 нм до 500 нм, таку як від 1 нм до 400 нм, таку як від 1 нм до 300 нм, таку як від 1 нм до 200 нм, таку як від 1 нм до 100 нм, таку як від 10 нм до 100 нм, таку як від 20 нм до 100 нм, таку як від 30 нм до 100 нм, таку як від 40 нм до 100 нм, таку як від 50 нм до 100 нм, таку як від 20 нм до 40 нм, таку як від 30 нм до 40 нм, таку як від 30 нм до 35 нм. У інших не обмежуючих варіантах здійснення антикорозійне(ні) покриття 104 може мати товщину, принаймні, 10 нм, таку як, принаймні 20 нм, таку як, принаймні 30 нм, таку як, принаймні 40 нм, таку як, принаймні 50 нм, таку як, принаймні 100 нм, таку як, принаймні 200 нм. У одному певному, не обмежуючому варіанті здійснення антикорозійне(ні) покриття 104 містить Inconel і може мати товщину в діапазоні від 10 нм до 100 нм, таку як від 10 нм до 80 нм, таку як від 15 нм до 50 нм, таку як від 20 нм до 40 нм, таку як від 30 нм до 40 нм, таку як від 30 нм до 35 нм. Необов'язковий шар ґрунтовки 106 може бути сформований вище і/або нижче антикорозійного покриття (покриттів) 104. Цей шар ґрунтовки 106 виконує одну або обидві наступні функції: (a) хімічний газопоглинач для кисню або інших хімічних частинок (або ендогенних, або екзогенних для виробу) для того, щоб прискорити їх взаємодію з шаром (шарами) ґрунтовки, в порівнянні з первинним відбиваючим покриттям 22, і/або (b) фізичний бар'єр дифузії для того, щоб запобігти попаданню і дії хімічних частинок (не обов'язково за 8 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 рахунок хімічної реакції) на первинне відбиваюче покриття 22. У одному конкретному варіанті здійснення необов'язковий шар (шари) ґрунтовки 106 може містити метал або металевий сплав, який володіє сильною спорідненістю до кисню, і/або продукт хімічної реакції металу або металевого сплаву з киснем. Необов'язковий шар (шари) ґрунтовки 106 також може містити матеріали, які створюють дифузійний бар'єр з метою запобігання дифузії молекулярного або атомарного кисню, водяної пари, або інших газоподібних частинок, та їх подальша взаємодія з первинним відбиваючим покриттям 22. У одному певному варіанті здійснення шар ґрунтовки 106 містить титан, оксид титана або їх суміш/комбінацію. У одному певному варіанті здійснення шар ґрунтовки 106 може мати товщину в діапазоні від 0,1 до 10 нм, таку як від 0,5 до 5 нм, таку як від 0,5 до 4 нм, таку як від 0,5 до 2 нм, таку як від 1 нм до 2 нм. Верхнє покриття 40 формується поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття 22, наприклад, поверх, принаймні, частини антикорозійного шару 104, наприклад, поверх, принаймні, частини шару ґрунтовки 106. Верхнє покриття 40 може містити один або декілька шарів, наприклад, один або декілька діелектричних шарів, таких як один або декілька оксидів металів, нітриду, оксинітридів, бориду, фторидів, або карбідів. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття 40 може бути єдиним шаром, що містить цинк і оксид олова, таким як станат цинку. У іншому певному, не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття 40 може містити багатоплівкову структуру, як описано нижче у зв'язку з Фіг. 1C. Проте слід розуміти, що винахід не обмежується оксидними покриттями. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття 40 містить станат цинку. Верхнє покриття може мати товщину, принаймні 10 нм, таку як, принаймні 20 нм, таку як, принаймні 50 нм, таку як, принаймні 75 нм, таку як, принаймні 100 нм, таку як, принаймні 150 нм, таку як, принаймні 200 нм. У одному певному, не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття може мати товщину в діапазоні від 5 нм до 500 нм, таку як від 10 нм до 500 нм, таку як від 50 нм до 500 нм, наприклад, від 50 нм до 300 нм, таку як від 100 нм до 250 нм, таку як від 100 нм до 200 нм, таку як від 120 нм до 165 нм, таку як від 110 нм до 165 нм. Зазвичай, чим товще верхнє покриття, тим більший захист забезпечується для розташованих нижче покриваючих шарів. Необов'язкова герметизуюча структура 24 може утворитися поверх і/або навколо, принаймні, частини шару покриття 12, який описаний вищим. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення герметизуюча структура 24 формується, принаймні, частково за допомогою герметизуючого матеріалу 92. Відповідні герметизуючі матеріали 92 можуть включати полімерні матеріали, неорганічні матеріали, або композиційні матеріали, їх комбінації, поєднання, суміші і сплави. Коли значна частина або весь герметизуючий матеріал 92 містить полімерний матеріал, цей герметизуючий матеріал 92 може бути нанесений будь-яким традиційним способом, таким як (але без обмеження) нанесення щіткою, валком, розпилюванням, поливом, покриття зануренням, методом центрифугування, нанесення вістрям ножа, трафаретний друк, нанесення заливкою, електропокриття (або ж електроосадження) та порошкове покриття. Відповідні полімерні герметизуючі матеріали 92 включають (але без обмеження) термопластичні, термореактивні полімери, еластомери і термопластичні еластомери, що утворилися шляхом полімеризації приєднання або конденсаційної полімеризації, із зшиванням або без зшивання, і співполімери, та їх композиції, комбінації, суміші, сполуки і сплави. Проте в герметизуючих матеріалах, що містять полімерні матеріали, можуть застосовуватися різні добавки і наповнювачі, включаючи ініціатори, фотоініціатори, пластифікатори, стабілізатори, запобіжники, біоциди, вирівнюючі агенти, агенти, поліпшуючі текучість, антиоксиданти, поглиначі УФ випромінювання, поверхнево-активні речовини, барвники, пігменти і неорганічні або органічні наповнювачі. Можливі повністю полімерні герметизуючі матеріали можуть містити (але без обмеження) поліакрилати, поліалкиди, поліакрилонітрили, поліефіри, поліфторвуглеці, полівініли, полісечовини, полімеламіни та полікарбонати. Наприклад, герметизуюча структура 24 може включати покриття на основі акрилатів, покриття на основі уретанів, фторполімерні і/або хлорфторполімерні покриття (наприклад, поліфторетілен, поліхлортрифторетілен та інші), покриття на основі полівінилиденхлориду, покриття на основі етиленвінилового спирту, покриття на основі поліакрилонітрилу, покриття на основі циклічних олефінових полімерів або на основі сополімерів, композиційні неорганічні/органічні покриття: органічні полімерні матриці з однією або декількома неорганічними фазами (наприклад, подібний до кераміки діоксид кремнію і оксид алюмінію), що диспергують або рівномірно, або нерівномірно, усередині розпорошених плазмою неорганічних покриттів: кераміки (наприклад, діоксид кремнію, оксид алюмінію, нітрид кремнію, борид титану, карбід титану, нітрид бору, карбід кремнію) і сплавів металів (алюмінію, титану, сплавів на основі нікелю типу Inconel, залізних сплавів типу неіржавіючої сталі), покриття на основі вулканізованого бутадієну (наприклад, наприклад, синтетичні каучуки, зшиті сіркою), отверджувані Уф-випромінюванням полісилоксанові покриття, 9 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 ламінати, що містять полімерні проміжні шари (наприклад, проміжні шари етиленвінилацетата або полівінилиденхлорида) і скляні базові плити. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення полімерний матеріал не містить важких металів, таких як свинець. Для герметизуючих матеріалів, що повністю складаються з неорганічних матеріалів, відповідні матеріали включають (але без обмеження) метали, металеві сплави, або кераміку і композиційні матеріали або їх комбінації. Приклади відповідних способів осадження таких неорганічних герметизуючих матеріалів включають фізичне осадження пари (наприклад, осадження напиленням, випаровування електронним променем, термічне випаровування, осадження катодним дуговим розрядом, осадження плазмовим розпилюванням, осадження полум'яним розпилюванням, осадження піролітичним розпилюванням, осадження, викликане іонами), хімічне осадження пари (наприклад, термічне хімічне осадження з парової фази (CVD), CVD викликане/підсилене плазмою), золь-гель осадження, інші вологі хімічні процеси (наприклад, керамічні емалі), та їх комбінації. Крім того, герметизуюча структура 24 може містити полімерні, а також неорганічні матеріали в комбінації. Конкретні покриття, відповідні для герметизуючої структури 24 включають (але без обмеження) сімейство покриттів Corabond® (такі як покриття Corabond® HC7707), комерційно доступні від фірми PPG Industries, Inc. of Pittsburgh, Pennsylvania, керамічна емаль Ferro GAL1875 "Etch", покриття Cosmichrome® (комерційно доступне від фірми Gold Touch, Inc.), Sureguard® дзеркально дубльоване покриття (комерційно доступне від Spraylat Corporation), покриття друкарською фарбою EcoBrite® (комерційно доступні від PPG Industries, Inc), покриття PRC 4429 і PRC 4400, комерційно доступні від PRC DeSoto, і покриття Spraylat Lacryl Series 700 або 800 (доступні від Spraylat Corporation). Альтернативно, герметизуюча структура 24 може бути металевою, такою, яка формується з одного або декількох металевих шарів, такими як ті, що описані вище у зв'язку з антикорозійним покриттям 104, що утворилися поверх другого відбиваючого покриття 22 з необов'язковим полімерним матеріалом, що утворився поверх металевого шару (шарів). Додаткові приклади неполімерних/неорганічних герметизуючих матеріалів включають керамічні емалі, золь-гелеві керамічні покриття, керамічні або металеві покриття полум'яного розпилювання, керамічні або металеві покриття плазмового розпилювання, і керамічні або металеві покриття катодним дуговим розрядом. У одному конкретному не обмежуючому варіанті здійснення герметизуюча структура 24 може бути багатошаровою структурою, такою як двошарове покриття, що має шар основи з низьким вмістом свинцю або не містить свинцю, і верхній шар з низьким вмістом свинцю або що не містить свинцю. Додаткове необмежуюче сонячне дзеркало 10, що включає ознаки винаходу, продемонстровано на Фіг. 1C. У варіанті здійснення, продемонстрованому на Фіг. 1C, сонячне дзеркало 10 включає перший шар 12 з першою основною поверхнею 14, тобто, зовнішньою основною поверхнею, і протилежною другою основною поверхнею 16, тобто внутрішньою основною поверхнею, як описано вище. У одному не обмежуючому варіанті здійснення необов'язкове вторинне відбиваюче покриття 20 формується поверх, принаймні, частини внутрішньої поверхні 16. У іншому, не обмежуючому варіанті здійснення необов'язкове вторинне відбиваюче покриття 20 може формуватися поверх, принаймні, частини зовнішньої основної поверхні 14. Первинне відбиваюче покриття 22 формується поверх, принаймні, частини другої основної поверхні 16, наприклад, поверх, принаймні, частини вторинного відбиваюче покриття 20, якщо є вторинне відбиваюче покриття 20, і на другій основній поверхні 16. Антикорозійне покриття 104 може формуватися поверх, принаймні, частини первинного відбиваюче покриття 22. Верхнє покриття 40 може формуватися поверх, принаймні, частини антикорозійного покриття 104. Захисне покриття 50 може формуватися поверх, принаймні, частини верхнього покриття 40. Дзеркало 10 також може включати герметизуючу структуру 24. Необов'язкове вторинне відбиваюче покриття 20, якщо воно є, може виконувати одну або декілька функцій в сонячному дзеркалі 10. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення вторинне відбиваюче покриття 20 може бути вибрано з метою посилення загального відбивання електромагнітного випромінювання від відбиваючого виробу (рефлектора) в певній області або діапазоні електромагнітного випромінювання. Вторинне відбиваюче покриття 20 може бути вибране або сконструйоване з метою відбивання електромагнітного випромінювання в одній або декількох частинах електромагнітного спектру (наприклад, видимій, інфрачервоній, ультрафіолетовій). У одному, не обмежуючому варіанті здійснення вторинне відбиваюче покриття 20 може бути вибрано з метою посилення відбивання короткохвильового випромінювання, такого як випромінювання з довжиною хвилі меншою, ніж 600 нм, такою як менше, ніж 550 нм, такою як в діапазоні від 400 нм до 550 нм. Як альтернатива, вторинне відбиваюче покриття 20 можна налаштувати, наприклад, шляхом варіювання його товщини, для 10 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 відбивання УФ випромінювання. Вторинне відбиваюче покриття 20 може містити один або декілька шарів відбиваючого матеріалу, таких як один або декілька шарів металоксидних матеріалів. У одному конкретному, не обмежуючому варіанті здійснення вторинне відбиваюче покриття 20 містить перемежувані шари матеріалу з відносно високим показником заломлення і матеріалу з відносно низьким показником заломлення. Матеріалом з "високим" показником заломлення є будь-який матеріал, що має показник заломлення вище, ніж у матеріалу з "низьким" показником заломлення. У одному не обмежуючому варіанті здійснення, матеріал з низьким показником заломлення є матеріалом, що має показник заломлення менший, ніж або дорівнює 1,75. Не обмежуючі приклади матеріалів з низьким показником заломлення включають діоксид кремнію, оксид алюмінію, фториди (такі як фторид магнію і кальцію) та їх сплави, суміші, або комбінації. У одному не обмежуючому варіанті здійснення матеріал з високим показником заломлення має показник заломлення більший, ніж 1,75. Не обмежуючі приклади таких матеріалів включають діоксид титану, діоксид цирконію, станат цинку, нітрид кремнію, оксид цинку, оксид цинку з добавкою олова, оксид ніобію, оксид танталу, та їх сплави, суміші і комбінації. Наприклад, вторинне відбиваюче покриття 20 може бути (але без обмеження справжнього винаходу) багатошаровим покриттям, як показано на Фіг. 1C, яке має перший шар 26, наприклад, перший діелектричний шар, і другий шар 28, наприклад, другий діелектричний шар. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення перший шар 26 має високий показник заломлення, а другий шар 28 має низький показник заломлення. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення перший шар 26 містить діоксид титану, і другий шар 28 містить діоксид кремнію. У одному конкретному, не обмежуючому варіанті здійснення перший шар, наприклад, діоксиду титану, має товщину в діапазоні від 15 нм до 35 нм, наприклад, від 20 нм до 30 нм, таку як від 22 нм до 27 нм, таку як 25 нм. Другий шар, наприклад, діоксиду кремнію, може мати товщину в діапазоні від 30 нм до 60 нм, наприклад, від 35 нм до 50 нм, таку як від 40 нм до 50 нм, таку як 42 нм. Слід розуміти, що матеріали вторинного відбиваючого покриття 20 не обмежуються оксидами металів. Можуть бути використані будь-які матеріали, такі як (але без обмеження) оксиди, нітрид, оксинітриди, фториди та ін. У не обмежуючому варіанті здійснення, показаному на Фіг. 1C, може бути передбачений необов'язковий адгезійний шар 30 між вторинним відбиваючим покриттям 20 і первинним відбиваючим покриттям 22. Адгезійний шар 30 може бути будь-яким шаром, який підсилює адгезію між вторинним і первинним відбиваючими покриттями 20, 22 або покращує механічну і/або хімічну довговічність вторинного або первинного відбиваючих покриттів 20, 22. Адгезійний шар 30 може містити, принаймні, один матеріал, вибраний з діелектриків, напівпровідників, полімерів, органічних сполук, або шарів металу або металевих сплавів. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення адгезійний шар 30 містить, принаймні, один матеріал, вибраний з оксидів, нітриду, або оксинітридів цинку, олова, титану або їх комбінацій, таких як (але без обмеження) оксид цинку, діоксид титану, або оксид цинку/олова, такий як станат цинку. Наприклад, адгезійний шар 30 може мати товщину менше, ніж або рівну 5 нм, таку як менше, ніж або рівну 4 нм, таку як менше, ніж або рівну 3 нм, таку як менше, ніж або рівну 2 нм, таку як менше, ніж або рівну 1 нм. У продемонстрованому прикладі здійснення, показаному на Фіг. 1C, верхнє покриття 40 формується поверх, принаймні, частини первинного відбиваючого покриття 22. Верхнє покриття 40 може бути таким, як описано вищим. У одному конкретному, не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття може містити один або декілька шарів, наприклад, один або декілька діелектричних шарів, наприклад, один або декілька оксидів, нітрид, оксинітридів, бориду, фторидів, або карбідів металів. У одному певному, не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття 40 містить багатоплівкову структуру, що має першу плівку 42, наприклад, плівку оксиду металу, другу плівку 44, наприклад, плівку оксиду металевого сплаву або суміші оксидів, і необов'язково третю плівку 46, наприклад, плівку оксиду металу. Проте слід розуміти, що винахід не обмежується оксидними покриттями, і що можуть бути використані інші покриття, такі як нітрид або оксинітриди (але не обмежується вказаним). У одному не обмежуючому варіанті здійснення верхнє покриття 40 може містити оксид цинку або оксид цинку/олова, такий як станат цинку, і може мати товщину в діапазоні від 1 нм до 500 нм, таку як від 5 нм до 500 нм, таку як від 10 нм до 500 нм, таку як від 50 нм до 500 нм, наприклад, від 50 нм до 300 нм, таку як від 100 нм до 250 нм, таку як від 100 нм до 200 нм, таку як від 120 нм до 165 нм. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення першою плівкою 42 може бути цинквмісна плівка, така як оксид цинку. Плівка оксиду цинку може бути осаджена з цинкового катода, в який введені інші матеріали з метою поліпшення характеристик провідності і розпилювання катода. Наприклад, цинковий катод може містити невелику кількість (наприклад, 10 мас. % або менше, наприклад, від 0 мас. % до 5 мас. %) провідного матеріалу, такого як олово, з метою 11 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 поліпшення характеристики розпилювання катода. В цьому випадку отримана плівка оксиду цинку включатиме невелику частку оксиду олова, наприклад, від 0 до 10 мас. % оксиду олова, наприклад, від 0 до 5 мас. % оксиду олова. Шар покриття, осаджений з цинкового катода, містить 10 мас. % або менше олова, називається в справжньому винаході шаром "оксиду цинку", не дивлячись на те, що в нім може бути присутньою невелика кількість олова (наприклад, 10 мас. %). Вважають, що з невеликої кількості олова в катоді утворюється невелика кількість оксиду олова в плівці, яка в основному містить оксид цинку. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення перша плівка 42 оксиду цинку містить 90 мас. % цинку і 10 мас. % олова і має товщину в діапазоні від 1 нм до 200 нм, таку як від 1 нм до 150 нм, таку як від 1 нм до 100 нм, таку як від 1 нм до 50 нм, таку як від 1 нм до 25 нм, таку як від 1 нм до 20 нм, таку як від 1 нм до 10 нм, таку як від 2 нм до 8 нм, таку як від 3 нм до 8 нм, таку як від 4 нм до 7 нм, таку як від 5 нм до 7 нм, таку як 6 нм. У одному не обмежуючому варіанті здійснення друга плівка 44 може бути плівкою з оксиду цинк/олов'яного сплаву або з суміші оксидів цинку/олова. Оксид цинк-олов'яного сплаву може бути отриманий при осадженні у вакуумі при магнетронному розпилюванні цинк-олов'яного катода, який містить цинк і олово в співвідношенні від 10 мас. % до 90 мас. % цинку і від 90 мас. % до 10 мас. % олова. Один відповідний оксид металевого сплаву, який може бути присутнім в другій плівці 44, є станат цинку. Термін "станат цинку" означає склад Zn XSn1-XO2-X (формула 1), де "x" змінюється в діапазоні від більш, ніж 0 до менше, ніж 1. Наприклад, "x" може бути більше, ніж 0 і може бути будь-якою часткою або десятковим дробом між більш, ніж 0 до менше, ніж 1. Наприклад, коли x=2/3, формула 1 є Zn 2/3Sn1/3O4/3, яку звичніше записують як "Zn2SnO4". Плівка, що містить станат цинку, має одну або декілька форм формули 1, і її кількість переважає в плівці. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення друга плівка 44 станату цинку може мати товщину в діапазоні від 1 нм до 200 нм, таку як від 1 нм до 150 нм, таку як від 1 нм до 100 нм, таку як від 1 нм до 50 нм, таку як від 1 нм до 25 нм, таку як від 1 нм до 20 нм, таку як від 5 нм до 15 нм, таку як від 6 нм до 14 нм, таку як від 8 нм до 14 нм, таку як від 10 нм до 14 нм, таку як від 11 нм до 13 нм, таку як 12 нм. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення необов'язкова третя плівка 46 може бути цинквмісною плівкою, аналогічною першій плівці 42, наприклад, плівкою оксиду цинку. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення необов'язкова плівка 46 з оксиду цинку має товщину в діапазоні від 1 нм до 200 нм, таку як від 1 нм до 150 нм, таку як від 1 нм 100 нм, таку як від 1 нм до 50 нм, таку як від 1 нм до 25 нм, таку як від 1 нм до 10 нм, таку як в діапазоні від 2 нм до 8 нм, таку як в діапазоні від 3 нм до 8 нм, таку як в діапазоні від 4 нм до 7 нм, таку як в діапазоні від 5 нм до 7 нм, таку як 6 нм. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення сонячне дзеркало 10 може мати фотоактивне покриття 60, таке як фотокаталітичне і/або фотогідрофільне покриття, сформоване поверх, принаймні, частини першої поверхні 14. Не обмежуючим прикладом одного відповідного матеріалу для фотоактивного покриття 60 є діоксид титану. Фотоактивне покриття 60 може бути осаджене безпосередньо на першу поверхню 14, або на бар'єрний шар, такий як бар'єрний шар 64 для дифузії іонів натрію (SIDB), може бути передбачений між першою поверхнею 14 і фотоактивним покриттям 60. Не обмежуючим прикладом відповідного матеріалу для шару SIDB є діоксид кремнію, або оксид алюмінію, або їх комбінації. Як альтернатива, фотоактивне покриття 60 може бути виключене, і поверх першої поверхні 14 формується тільки шар SIDB. Деякі або всі покриття, описані вище для відбиваючих виробів за винаходом, можуть бути осаджені будь-яким традиційним способом, таким як (але не обмежується вказаним) мокрі хімічні методи (наприклад, осадження покриття з розчину, покриття методом хімічного відновлення, золь-гель хімічним методом і ін.), електрохімічні методи (наприклад, гальванопокриття/електроосадження), розпилювальне осадження (наприклад, осадження пари магнетронного розпилювання (MSVD)), напилення (наприклад, термічне або електроннопроменеве напилення), хімічне осадження пари (CVD), струменевий піроліз, полум'яне напилення або плазмове напилення. У одному, не обмежуючому варіанті здійснення деякі або всі покриття можуть бути осаджені методом MSVD. Приклади пристроїв і методів покриття MSVD добре відомі фахівцеві в цій області техніки і описані, наприклад, в патентах США №№ 4379040; 4861669; 4898789; 4898790; 4900633; 4920006; 4938857; 5328768; і 5492750. Наприклад, первинне відбиваюче покриття 22 може бути нанесено мокрими хімічними методами (наприклад, нанесення "вологого срібла" - шляхом осадження срібла з розчину нітрату срібла), якщо це потрібно. У одному не обмежуючому варіанті здійснення один або декілька шарів вторинного відбиваючого покриття 20 можуть бути нанесені традиційними методами CVD, наприклад, на поліровану скляну стрічку, коли стрічка знаходиться у ванні з 12 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 оловом. Потім первинне відбиваюче покриття 22 і один або декілька шарів верхнього покриття 40 можуть бути нанесені за допомогою іншого процесу, такого як MSVD. Як альтернатива, всі покриття можуть бути нанесені аналогічним чином, таким як MSVD. Вважають, що нанесення, принаймні, деяких покриттів шляхом розпилювання має переваги в порівнянні з багатьма іншими методами. Наприклад, можливе осадження великого ряду матеріалів в єдиній вакуумній камері. Крім того, можна чекати, що осадження розпилюванням даватиме шари з більшою хімічною чистотою, ніж традиційні мокрі хімічні методи. Більш того, при розпилюванні відсутній рідкий потік відходів, які утворюються у разі мокрих хімічних методів, а також забезпечується легке нанесення інших металів. Крім того, розпилювання забезпечує нанесення неорганічних оксидів, які можуть бути використані як адгезійні шари, хімічні бар'єри і механічний захист. Герметизуюча структура 24 може сформуватися поверх і/або навколо, принаймні, частини шару покриття, описаного вище. Герметизуюча структура 24 не обмежується описаними вище прикладами, але може включати будь-який матеріал для захисту розташованих нижче матеріалів покриття від хімічної і/або механічної дії. Наприклад, в сонячному дзеркалі 80, показаному на Фіг. 2, герметизуюча структура 24 включає другий шар 82, приєднаний до першого шару 12, наприклад, до захисного покриття 50, за допомогою полімерного шару 84. Другий шар 82 може бути вибраний з матеріалів, описаних вище для першого шару 12, і може бути таким же, як перший шар 12 або відрізнятися від нього. Крім того, другий шар 82 не обов'язково є прозорим для електромагнітного випромінювання в будь-якій частині електромагнітного спектру. Полімерний шар 84 може містити будь-який необхідний матеріал і може включати один або декілька шарів. Шар (шари) 84 може включати термопластики, термореактивні пластики, еластомери і/або термопластичні еластомери. Шар 84 може бути полімерним або пластичним матеріалом, таким як, наприклад, полівінилбутираль, пластифікований полівінілхлорид, або багатошарові термопластичні матеріали, включаючи поліетилентерефталат, етиленвінилацетат (EVA), полівінілхлорид, полівінилиденхлорид, полікарбонат, поліакрилати (наприклад, поліметилметакрилат, поліакрилонітрил), полісилоксани, фторополімери, поліефіри, меламіни, полісечовини, поліуретани, поліалкиди, поліфенолформальдегіди і ін. Відповідні матеріали описані (але без обмеження) в патентах США №№ 4287107 і 3762988. Шар 84, що скріпляє перший і другий шари разом, може забезпечити поглинання енергії, і може підвищити міцність ламінуючої структури. У одному не обмежуючому варіанті здійснення шар 84 виконаний з полівінилбутираля і має товщину в діапазоні від 0,5 мм до 1,5 мм, таку як від 0,75 мм до 0,8 мм. У сонячному дзеркалі 90 за винаходом, показаному на Фіг. 3, може бути використана полімерна герметизуюча структура 24, сформована, принаймні, частково за допомогою герметизуючого матеріалу 92, як описано вище. Герметизуючий матеріал 92 може бути намотаний навколо, принаймні, частини сторін (незначна частина поверхні) сонячного дзеркала 90, забезпечуючи ущільнення кромки виробу. Альтернативно, традиційний краєвий ущільнювач, такий як (але не обмежений) полівінилиденхлорид (PVDC), може бути нанесений на краї, тобто, незначну частину поверхні виробу до нанесення герметизуючого матеріалу. Інше сонячне дзеркало 100 за винаходом показано на Фіг. 4. Сонячне дзеркало 100 включає перший шар 12, як описано вище. У цьому варіанті здійснення вторинне відбиваюче покриття 20 відсутнє. Первинне відбиваюче покриття 22 може бути нанесено поверх, принаймні, частини другої основної поверхні 16. У одному певному варіанті здійснення передбачений шар основи 102 між другою основною поверхнею 16 і первинним відбиваючим покриттям 22. Шар основи 102 може бути таким же, як описано вище. У цьому варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 може бути виконане з будьякого матеріалу, з описаних вище, у зв'язку з ранішими варіантами здійснення. У одному певному варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 містить шар металевого срібла, що має товщину в діапазоні від 10 нм до 500 нм, таку як 50 нм до 500 нм, наприклад, від 50 нм до 300 нм, таку як від 50 нм до 200 нм, таку як від 100 нм до 200 нм, таку як від 100 нм до 150 нм, таку як від 110 нм до 140 нм, таку як від 120 нм до 140 нм, таку як від 128 нм до 132 нм. У іншому певному варіанті здійснення первинне відбиваюче покриття 22 містить шар металевого срібла, що має товщину в діапазоні від 1 нм до 500 нм, таку як 50 нм до 500 нм, наприклад, від 50 нм до 300 нм, таку як від 50 нм до 200 нм, таку як від 50 нм до 150 нм, таку як від 70 нм до 150 нм, таку як від 90 нм до 120 нм, таку як від 90 нм до 130 нм, таку як від 90 нм до 100 нм, таку як від 90 нм до 95 нм. Верхнє покриття 40 може бути одним шаром або багатошаровою структурою, що має перший шар 110 і другий шар 112. У одному певному варіанті здійснення перший шар 110 оксиду металу містить шар оксиду цинку, що має товщину в діапазоні від 1 нм до 30 нм, таку як від 1 нм до 25 нм, таку як від 5 нм до 20 нм, таку як від 10 нм до 20 нм, таку як від 10 нм до 13 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 17 нм. Другий шар 112 містить станат цинку і має товщину в діапазоні від 10 нм до 100 нм, таку як від 40 нм до 45 нм. Сонячне дзеркало 100 також може включати захисне покриття 114, яке може бути таким же або подібним до захисного покриття 50, описаного вище. У одному певному варіанті здійснення захисне покриття 114 містить шар діоксиду кремнію, що має товщину в діапазоні від 10 нм до 500 нм, таку як від 10 нм до 300 нм, таку як від 10 нм до 100 нм, таку як від 20 нм до 100 нм, таку як від 30 нм до 80 нм, таку як від 40 нм до 60 нм, таку як від 50 нм до 60 нм, таку як 57 нм. На Фіг. 5 показаний рефлектор за винаходом (наприклад, сонячне дзеркало 1, 3, 10, 80, 90, 100), змонтований на опорній станині 120. Рефлектор, змонтований так, щоб перша основна поверхня 14 була обернена назовні. Рефлектор, може бути змонтований будь-яким традиційним методом, наприклад, за допомогою клею або шляхом механічного закріплення виробу на рамі, названо лише деякі методи. Станина 120 може бути приєднана до герметизуючої структури 24, як описано вище. Альтернативно, герметизуюча структура 24 може бути виключена, і станина 120 з'єднується із зовнішнім шаром покриття комплекту покриття, наприклад, із захисним покриттям 50. Ця станина 120 може бути виготовлена з будь-якого необхідного матеріалу, такого як (але не обмежується вказаним) метал (такий як алюміній, неіржавіюча сталь, та ін.) або полімерний матеріал, такий як пластик. Винахід створює вироби з високою відбивною здатністю, які застосовуються в багатьох областях, наприклад, в сонячних дзеркалах (але не обмежується цим). Рефлектори за винаходом можуть мати півсферичну зважену інтегровану відбивну здатність сонячного червоно-зеленого випромінювання (WIRg), принаймні 50 %, таку як, принаймні 60 %, таку як, принаймні 70 %, таку як, принаймні 80 %, таку як, принаймні 90 %, таку як, принаймні 91 %, таку як, принаймні 92 %, таку як, принаймні 93 %, таку як, принаймні 94 %, таку як, принаймні 95 %, таку як в діапазоні від 90 % до 96 %. Як описано вище і як показано в наступних прикладах, перевага рефлектору за винаходом над традиційними дзеркалами, отриманими вологим хімічним методом, полягає в тому, що на рефлектор за винаходом може бути нанесене покриття і потім воно може бути нагріте до температури, достатньої для термічної обробки або згинання виробу з покриттям (до нанесення будь-якої полімерної герметизуючої структури) без шкідливої дії на відбивну здатність виробу. Крім того, покриття винаходу можуть демонструвати поліпшення спектральної характеристики (тобто, зростання відбивної здатності в деякому або у всьому вимірюваному діапазоні спектру) і збільшення зваженої інтегрованої відбивної здатності сонячного випромінювання після нагрівання. Наприклад відбиваючий виріб за винаходом, що має шар основи, і/або первинне відбиваюче покриття і/або вторинне відбиваюче покриття і/або антикорозійне покриття, і/або верхнє покриття, і/або захисне покриття, можна нагрівати до температури, достатньої для згинання або термічної обробки виробу до нанесення герметизуючої структури. Наприклад, підкладка і покриття можуть бути нагріті, принаймні, до 300±F (149±C), наприклад, принаймні 350±F (177±C), наприклад, принаймні 400±F(204±C), наприклад, принаймні 500±F (260±C), наприклад, принаймні 750±F (399±C), наприклад, принаймні 800±F (427±C), наприклад, принаймні 900±F (482±C), наприклад, принаймні 1000±F (538±C), наприклад, принаймні 1022±F (550±C), наприклад, принаймні 1100±F (593±C), наприклад, принаймні 1200±F (649±C), наприклад, принаймні 1300±F (704±C), наприклад, в діапазоні від 350±F (177±C) до 1300±F (704±C). Тепер винахід буде описаний з посиланнями на конкретні приклади, які ілюструють дзеркала з різними структурами, що включають різні аспекти винаходу. Проте слід розуміти, що винахід не обмежується цими конкретними прикладами. Приклади У таблиці 1 показана структура різних дзеркал (зразки 1-10) винаходу. 50 Таблиця 1 № зразка TiО2 шар основи Ag Грунтовка Ti TiO2 ZnO Zn2SnO4 Inconel 600 Грунтовка Ti TiO2 ZnO 1 2 3 4 5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 130 130 120 120 120 2.5 2.5 1,5 1,5 1,5 0 0 0 0 0 12 9 12 9 0 10 10 10 10 0 33 0 33 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 9 0 0 10 14 Zn2SnO4 Si85/Al15 0 0 0 0 21 60 60 60 60 60 UA 103022 C2 Продовження таблиці 1 № зразка Ag Грунтовка Ti TiO2 ZnO Zn2SnO4 Inconel 600 Грунтовка Ti TiO2 ZnO Zn2SnO4 Si85/Al15 6 7 8 9 10 11 1,5 1,5 1,5 1,8 1,8 1,6 120 120 120 127 132 128 0 0 1,5 1,6 0 0 0 0 0 1,8 0 0 0 0 5 0 0 0 0 0 21 0 0 0 33 33 33 33 20 33 0 0 0 0 1 1 0 0 0 0 0 0 10 0 0 17 10 0 12 2 128 0 0 0 0 33 1 0 0 13 2 128 0 0 0 0 33 1 0 0 14 15 5 TiО2 шар основи 2 2 91 95 0 0 0 0 0 0 0 0 31 33 1 1 0 0 0 0 12 60 0 60 0 60 42 57 42 57 48 111 11085-120 120 12075-120 165 153 100 137 76 У таблиці 2 показана півсферична відбивна здатність WIRg (зважена інтегрована відбивна здатність сонячного випромінювання Rg) зразків 1-15 дзеркал до і після нагрівання. З цих результатів видно, що півсферична зважена інтегрована відбивна здатність сонячного випромінювання дзеркалами за винаходом може збільшитися при нагріванні. Колонка "Температура розм'якшення" означає, що вироби з покриттям поміщали в печі при 1300±F (704±C) і нагрівали (приблизно 5 хвилин) до температури розм'якшення скла (максимальна температура поверхні з покриттям склала біля 1185±F (641±C). 10 Таблиця 2 Після осадження (без нагрівання) 30 хв. при 350±F (177±C) Температура розм'якшення № зразка 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 15 ASTM G-1733AM-1,5D 92,9 92,6 не виміряна не виміряна 92,8 92,8 92,9 92,9 92,7 93,1 94,0 немає даних немає даних 93,7 94,0 ISO 9050 92,7 92,4 не виміряна не виміряна 92,6 92,6 92,7 92,7 92,4 92,9 93,8 немає даних немає даних 93,4 93,7 ASTM G-1733AM-1,5D 93,6 93,5 не виміряна не виміряна 93,4 93,4 93,5 93,5 93,7 немає даних немає даних немає даних немає даних немає даних немає даних ISO 9050 93,4 93,3 не виміряна не виміряна 93,3 93,3 93,4 93,3 93,5 немає даних немає даних немає даних немає даних немає даних немає даних ASTM G-1733AM-1,5D 93,1 94,2 не виміряна не виміряна 93,8 93,9 93,9 88,5 94,2 93,9 95,5 немає даних немає даних 95,4 95,4 Фахівець в цій області техніки зможе легко зрозуміти, що можуть бути виконані модифікації винаходу без відхилення від його задуму, викладеного вище в описі. Отже, певні варіанти здійснення, детально описані в справжньому винаході, є лише ілюстративними і не обмежують об'єм винаходу, який в повній широті визначається формулою винаходу, що додається, та її будь-якими і всіма еквівалентами. ФОРМУЛА ВИНАХОДУ 20 ISO 9050 92,8 94,1 не виміряна не виміряна 93,6 93,8 93,7 88,1 94,0 93,8 95,3 немає даних немає даних 95,2 95,2 1. Рефлектор, який включає: прозору підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню; шар основи, сформований поверх принаймні частини другої основної поверхні; 15 UA 103022 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 первинне відбиваюче покриття, сформоване поверх принаймні частини шару основи; і неорганічне захисне покриття, що складається по суті з матеріалу, вибраного з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, сформоване поверх принаймні частини первинного відбиваючого покриття; верхнє покриття, що містить станат цинку, сформоване між первинним відбиваючим покриттям та неорганічним захисним покриттям; причому шар основи містить діоксид титану товщиною від 1 нм до 3 нм. 2. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття є непрозорим у видимій області спектра і містить принаймні одну металеву плівку. 3. Рефлектор за п. 2, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття містить принаймні один метал, вибраний з платини, іридію, осмію, паладію, алюмінію, золота, міді, срібла або сумішей, сплавів, або їх комбінацій. 4. Рефлектор за п. 3, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття містить срібло. 5. Рефлектор за п. 3, який відрізняється тим, що первинне відбиваюче покриття має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм. 6. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що захисне покриття має товщину в діапазоні від 75 нм до 120 нм. 7. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що включає герметизуючу структуру, сформовану поверх принаймні частини захисного покриття. 8. Рефлектор за п. 7, який відрізняється тим, що герметизуюча структура включає полімерний матеріал. 9. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що антикорозійне покриття розташоване між первинним відбиваючим покриттям та захисним покриттям. 10. Рефлектор за п. 9, який відрізняється тим, що антикорозійне покриття містить принаймні один метал або металевий сплав, вибраний з представників 2-16-ї груп Періодичної таблиці елементів. 11. Рефлектор за п. 1, який відрізняється тим, що додатково включає фотоактивне покриття, сформоване поверх принаймні частини першої основної поверхні. 12. Рефлектор, який включає: прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню; неорганічний шар основи, сформований поверх принаймні частини другої основної поверхні, де шар основи містить принаймні один оксид металу, вибраний з оксиду алюмінію, діоксиду титану, діоксиду цирконію, оксиду цинку, станату цинку, оксиду олова або їх сумішей, або їх комбінацій, і має товщину в діапазоні від 0,1 нм до 5 нм; первинне відбиваюче покриття сформоване поверх принаймні частини шару основи, де первинне відбиваюче покриття містить принаймні один метал, вибраний з платини, іридію, осмію, паладію, алюмінію, золота, міді, срібла або сумішей, сплавів, або їх комбінацій, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм, і де первинне відбиваюче покриття є непрозорим у видимій області спектра; антикорозійне покриття, сформоване поверх принаймні частини первинного відбиваючого покриття, де антикорозійне покриття містить принаймні один метал або металевий сплав, що вибраний з представників 2-16-ї груп Періодичної таблиці елементів, і має товщину в діапазоні від 20 нм до 40 нм; верхнє покриття, сформоване поверх принаймні частини антикорозійного покриття, де верхнє покриття містить принаймні один шар, який включає матеріал, вибраний з оксидів, нітриду, оксинітридів, бориду, фторидів або карбідів металів, та має товщину в діапазоні від 5 нм до 500 нм; і неорганічне захисне покриття, сформоване поверх принаймні частини верхнього покриття, де захисне покриття включає матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію і оксиду алюмінію, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 500 нм. 13. Рефлектор, який включає: прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню; неорганічний шар основи, що містить шар діоксиду титану, що має товщину в діапазоні від 1 нм до 3 нм, сформований зверху принаймні частини другої основної поверхні; первинне відбиваюче покриття, що містить шар срібла та має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм, сформоване поверх принаймні частини шару основи; антикорозійне покриття, що включає нікелевмісний сплав, що має товщину в діапазоні від 20 нм до 40 нм, сформоване зверху принаймні частини первинного відбиваючого покриття; 16 UA 103022 C2 5 10 15 20 верхнє покриття, що містить шар станату цинку, що має товщину в діапазоні від 100 нм до 200 нм, сформоване зверху принаймні частини антикорозійного покриття; і неорганічне захисне покриття, що включає матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію та оксиду алюмінію, і має товщину в діапазоні від 50 нм до 200 нм, сформоване поверх принаймні частини верхнього покриття. 14. Рефлектор за п. 13, який відрізняється тим, що включає герметизуючу структуру, сформовану поверх принаймні частини захисного покриття, де герметизуюча структура містить полімерний матеріал. 15. Рефлектор, який включає: прозору скляну підкладку, що має першу основну поверхню і другу основну поверхню; шар основи, сформований поверх принаймні частини другої основної поверхні, де шар основи містить прозорий діелектричний матеріал; первинне відбиваюче покриття сформоване поверх принаймні частини шару основи, де первинне відбиваюче покриття є непрозорим у видимій області спектра і містить принаймні одну металеву плівку; неорганічне захисне покриття, сформоване поверх принаймні частини первинного відбиваючого покриття, де захисне покриття включає матеріал, вибраний з діоксиду кремнію, оксиду алюмінію або суміші діоксиду кремнію та оксиду алюмінію; і герметизуючу структуру, сформовану поверх принаймні частини захисного покриття, де герметизуюча структура містить полімерний матеріал. 17 UA 103022 C2 18 UA 103022 C2 19 UA 103022 C2 Комп’ютерна верстка А. Крижанівський Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 20
ДивитисяДодаткова інформація
Автори російськоюMedwick, Paul, A., Wagner, Andrew, V., Mariette, Gary, J.
МПК / Мітки
Мітки: рефлектор
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/22-103022-reflektor.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Рефлектор</a>
Дискретно-імпедансний рефлектор
Номер патенту: 15446
Опубліковано: 17.07.2006
Автор: Цалієв Тамерлан Арманович
МПК: H01Q 19/10
Мітки: рефлектор, дискретно-імпедансний
Формула / Реферат:
Дискретно-імпедансний рефлектор, що виконаний у вигляді плоскої лінзи Френеля, поверхня якого складається з послідовно пронумерованих зон (парні і непарні зони Френеля), причому в межах однієї сукупності зон (наприклад, зони з непарними номерами) є покриття з хорошого провідника, який відрізняється тим, що друга сукупність зон Френеля (зони з парними номерами) також заповнена матеріалом, на поверхні кожної з зон відношення дотичних складових...
Рефлектор антенного пристрою
Номер патенту: 28178
Опубліковано: 16.10.2000
Автори: Завірохін Іван Георгійович, Умзар Юрій Августович
МПК: H01Q 19/10
Мітки: рефлектор, пристрою, антенного
Формула / Реферат:
Рефлектор антенного пристрою у вигляді несиметричної вирізки з параболоїду обертання, торець якої належить площині її розкриття і має форму еліпсу, який відрізняється тим, що еліптичний торець вирізки є доповненим до форми круглого рефлектора двома серповидними площадками, симетрично розташованими по обидві сторони відносно великої осі еліпсу.
Підкладка для звукоізоляції плаваючої плити
Номер патенту: 72218
Опубліковано: 15.02.2005
Автор: Ван Хесс Крістіан
МПК: E04F 15/20
Мітки: плаваючої, плити, підкладка, звукоізоляції
Формула / Реферат:
1. Підкладка для звукоізоляції плаваючої плити, що включає скловолокнисте покриття, яка відрізняється тим, що пластикова плівка укріплена на поверхні скловолокнистого шару.2. Підкладка за п. 1, яка відрізняється тим, що пластикова плівка виконана з поліолефіна/ів, переважно це поліетиленова плівка товщиною принаймні близько 150 мікрон.3. Підкладка за п. 1 або 2, яка відрізняється тим, що плівка суміщена із скловолокнистим...
Електричний кабель з низьким газодимовиділенням
Номер патенту: 2882
Опубліковано: 16.08.2004
Автори: Чувурін Микола Петрович, Антонець Юрій Панасович, Карпушенко Василь Петрович, Золотарьов Володимир Михайлович, Науменко Олексій Антонович
МПК: H01B 7/42
Мітки: низьким, електричний, кабель, газодимовиділенням
Формула / Реферат:
Електричний кабель з низьким газодимовиділенням, який складається з осердя у вигляді принаймні однієї ізольованої струмопровідної жили та захисного покриття, який відрізняється тим, що додатково містить нанесений методом екструзії з обтисненням, поверх захисного покриття, суцільний шар полімерного матеріалу низького газодимовиділення, який забезпечує достатню теплопровідність в умовах застосування кабеля, причому суцільний шар полімерного...
Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття на деталь конденсацією із парової фази
Номер патенту: 73725
Опубліковано: 15.09.2005
Автори: Брюс Роберт Вілліам, Марікоккі Антоніо Френк, Еванс Джон Дуглас, старший
МПК: H01J 37/305, H01J 37/30, H01J 37/317, C23C 14/56, C23C 14/24, C23C 14/30
Мітки: електронно-променевий, парової, конденсацією, фазі, пристрій, деталь, нанесення, покриття
Формула / Реферат:
Електронно-променевий пристрій (10) для нанесення покриття на деталь конденсацією із парової фази, який включає: покривну камеру (12), що містить покривний матеріал та функціонує в умовах підвищеної температури та субатмосферного тиску; електронно-променеву пушку (30), що проектує електронний промінь на покривний матеріал (26), розташований у покривній камері (12), розплавлюючи покривний матеріал (26) та випаровуючи його при цьому; засоби...
Попередній патент: Система і спосіб обслуговування безпечної передачі коротких повідомлень і передачі мультимедійних повідомлень (варіанти)
Наступний патент: Пристрій і спосіб виміру початкової швидкості снаряда або подібних елементів зброї
Випадковий патент: Спосіб контролю енергетичних показників мережі живлення