Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Реєструючий матеріал для запису оптичних рельєфів, що як основу містить халькогенідні стекла, який відрізняється тим, що матеріал виготовлено у вигляді періодичної шаруватої структури з сурми та трисульфіду миш'яку з товщиною шарів 1-2 та 3 нм відповідно, при цьому запис рельєфів на ньому здійснюється безпосередньо, в реальному масштабі часу лазером або електронним променем, а зчитування здійснюється оптичним або електричним методами.

Текст

Реєструючий матеріал для запису оптичних рельєфів, що як основу містить халькогенідні стекла, який відрізняється тим, що матеріал виготовлено у вигляді періодичної шаруватої структури з сурми та трисульфіду миш'яку з товщиною шарів 1-2 та 3 нм відповідно, при цьому запис рельєфів на ньому здійснюється безпосередньо, в реальному масштабі часу лазером або електронним променем, а зчитування здійснюється оптичним або електричним методами. (19) (21) u200912272 (22) 30.11.2009 (24) 25.05.2010 (46) 25.05.2010, Бюл.№ 10, 2010 р. (72) ВОЙНАРОВИЧ ІВАН МИХАЙЛОВИЧ, ШИПЛЯК МИРОСЛАВ МИХАЙЛОВИЧ, ТОКАЧ ВІКТОР ОЛЕКСАНДРОВИЧ, КОКЕНЄШІ ОЛЕКСАНДР ОЛЕКСАНДРОВИЧ (73) ДЕРЖАВНИЙ ВИЩИЙ НАВЧАЛЬНИЙ ЗАКЛАД "УЖГОРОДСЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ" 3 50097 4 Завдання досягається тим, що реєструючий тип) та Sb/As2S3 (2), де видно, що в стібійвмісних матеріал для запису оптичних рельєфів на основі структурах відносна зміна оптичного пропускання халькогенідних стекол виготовляється у вигляді більша ніж в багатошарових структурах Se/As2S3. періодичної шаруватої структури з сурми та трисуНа Фіг.3 показана зміна показника заломлення льфіду миш'яку з товщиною шарів 1-2 та 3 нм відв структурі Sb/As2S3 при записі лазером на довжиповідно, при цьому запис рельєфів на ньому здійні хвилі 633 нм. снюється безпосередньо, в реальному масштабі На Фіг.4 приведений знімок амплітудного опчасу лазером або електронним променем, а зчитичного рельєфу записаного електронним прометування здійснюється оптичними або електроннинем на багатошаровій структурі Sb/As2S3 зроблеми методами. ний за допомогою оптичного мікроскопа. На основі дослідження залежності величини Записаний на даному реєструючому середовищі оптичний рельєф стабільний при кімнатних локальної зміни і n індукованої світлом і еле(295°К) температурах на протязі кількох років споктронним пучком від складу наношаруватої струкстереження. Використання цього матеріалу дозвотури виявлено, що максимальною чутливістю воляє покращити параметри реєструючих середолодіють наношаруваті структури Sb/As2S3, вищ для створення амплітудно-фазових голограм, термічно напилені у вакуумі на діелектричну (скло, та функціональних елементів оптики та оптоелеккварц) або провідну (скло, покрите шаром металу) троніки, а також створити комбіновані системи основу, тобто періодичні структури з субшарів Sb оптичний запис - оптичне або електричне зчитута As2S3 товщиною 1 -2 та 3 нм відповідно і загавання. льною товщиною структури 200-1000 нм. Корисна модель може бути застосована у сисПеревагою даного матеріалу в порівнянні з темах оптичного запису і обробки інформації для раніше відомими є значно більша ефективність лазерного амплітудно-фазового, або фотозапису і модуляції оптичних параметрів, застосовтермічного запису амплітудно-фазових оптичних ність для електронного запису, можливість зчитурельєфів з підвищеним контрастом, розширеною вання запису електричним методом (за рахунок градацією змін і можливістю елекричного зчитувазміни електропровідності в місці взаємодифузії ня. 2 -1 -1 10 Ом см ) а також відсутність зміни товДжерела інфрмації щини, що є перевагою при виготовленні дифрак1. Несеребрянные фотографические процесційних ґраток з пониженими шумами. сы. Под. Ред. А.Л. Картужанского. Л. «Химия», На Фіг.1 приведене схематичне зображення 1984,375 с. багатошарової періодичної структури Sb/As2S3, яка 2. Е.Ф.Венгер, А.В. Мельничук, А.В.Стронский складається з субшарів Sb та As2S3 нанесених Фотостимулированные процессы в халькогенидвакуумним термічним напиленням на діелектричну ных стеклообразных полупроводниках и его пракабо провідну підкладку. тическое применение. Киев. Академпериодика. На Фіг.2 показана зміна оптичного пропускання 2007. с.284. прототип відносно початкового на довжині хвилі записуючого лазера 633нм в структурі Se/As2S3 (1) (прото 5 Комп’ютерна верстка В. Мацело 50097 6 Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Record material for optical relief record

Автори англійською

Voinarovych Ivan Mykhailovych, Shypliak Myroslav Mykhaiolvych, Tokach Viktor Oleksandrovych, Kokeneshi Oleksandr Oleksandrovych

Назва патенту російською

Регистрирующийматериал для записи оптических рельефов

Автори російською

Войнарович Иван Михайлович, Шипляк Мирослав Михайлович, Токач Виктор Александрович, Кокенеши Александр Александррович

МПК / Мітки

МПК: G03G 5/00

Мітки: рельєфів, матеріал, реєструючий, оптичних, запису

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/3-50097-reehstruyuchijj-material-dlya-zapisu-optichnikh-relehfiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Реєструючий матеріал для запису оптичних рельєфів</a>

Подібні патенти