Вакуумно-дуговий випарювач

1. Вакуумно-дуговий випарювач для нанесення покриття на внутрішню поверхню виробів, що складається з вакуумної камери, анода, який може бути часткою вакуумної камери, катода, який коаксіально розташований в об'ємі анода, джерела живлення дугового розряду, ініціатора дугового розряду, магнітної системи для керування положенням катодної плями на робочій поверхні катода, що складається з магнітної котушки, джерела електричного струму для її живлення та осердя, на якому розташовується катод, який відрізняється тим, що магнітна система для керування катодною плямою на робочій поверхні катода складається з A 2 (19) 1 3 71517 4 що забезпечує рівномірне випарювання робочої Вакуумно-дуговий випарювач працює таким поверхні катода, забезпечує максимальне викоричином: в порожнечі між катодом, деталлю, що обстання матеріалу катода. роблюється у вакуумній камері створюється вакуСпільною рисою прототипу і аналогу є наявум з тиском менше ніж 10-4мм рт.ст. Вмикається ність розпилювального катоду, аноду у формі обджерело живлення дугового розряду. Вмикається роблювальної деталі або корпусу вакуумної камеджерело живлення магнітних котушок, а потім ри, системи утримання катодної плями на робочій вмикається ініціатор дугового розряду. поверхні катоду, ініціатора дугового розряду, джеКатодна пляма під дією магнітного поля, вирорела для живлення дугового розряду. блюємого котушкою, ковзає по циліндричній та До недолік прототипу слід віднести неможлиторцевій поверхні катода, генеруя перпендикулярвість нанесення покриття на бокові поверхні циліні поверхням плазмові струмені. ндричної деталі такої ж товщини, як і на її дні. Таким чином, випарювач має можливість наВ основу винаходу, що пропонується, покланести покриття на внутрішню циліндричну та конідено вирішення задачі формування потоків плазчну або торцеву поверхню виробу. Товщина помових струменів, перпендикулярних оброблюваній криття на поверхнях задається програмою поверхні за допомогою спеціальної магнітної сисгенерації синусоїдального або спеціальної форми теми випарювача, яка дозволяє розпилювати як струму одного знаку джерела живлення другої бокову циліндричну, так і торцеву поверхні катоду. секції магнітної котушки. Задача вирішується тим, що вакуумно-дуговий Таким чином, перевагою вакуумно-дугового випарювач, що складається з вакуумної камери, випарювача, що пропонується як винахід, по зріванода, який може бути часткою вакуумної камери, нянню з відомими зразками технологічних випакатода, який коаксіальне розташований в об'ємі рювачей є можливість обробки внутрішніх поверанода, джерела живлення дугового розряду, ініціахонь деталей, які мають циліндричні та конічні тора дугового розряду, магнітної системи для кеповерхні або замкнуті з дном порожнечі. рування положенням катодної плями на робочій Аналіз вище перелічуваних відзнак від протоповерхні складається з магнітної котушки, джерела типу показує, що винахід має усі ознаки, які дорівелектричного струму для її живлення та осердя, на нюють поняттю “новітність", а також, що пропоноякому розташовується катод. Згідно винаходу магване технічне рішення є новим і має нітна система для керування катодною плямою на винахідницький рівень, що забезпечує його праворобочій поверхні - циліндричній або торцевій катову охорону. да складається з феромагнітного осердя, яке пеСуть винаходу, що пропонується, пояснюється ретинає стінку вакуумної камери електричне від кресленням. На фіг. приведено конструктивну неї ізольоване та герметізоване, на кінці осердя, схему пристрою. У вакуумній камері (1) на діелектщо знаходиться за межами вакуумної камери ричному фланці змонтоване осердя (2). У об'ємі встановлена двосекційна котушка, яка за допомокамери на осерді змонтовані розпилювальний кагою джерела їх живлення утворює магнітне поле, тод (3), а на фланці змонтовано ініціатор дугового яке по осердю транспортується до катода, який розряду (4), який живеться високовольтними імпурозташовується на протилежному кінці осердя. У льсами від джерела (5). На кінці осердя, що за залежності від величини магнітного поля катодна межами вакуумної камери змонтована двосекційна пляма може утримуватися як на боковій циліндрикотушка (6), які живеться електричним струмом від чній, так і на торцевій поверхні катоду. У двоконтуджерела (7). Джерело (7) має два контури, з яких рному джерелі один контур виробляє постійний один має можливість забезпечувати постійним електричний струм для живлення однієї секції кострумом одну секцію магнітної котушки з можливітушки та синусоїдальний або спеціальної форми стю регулювання величини струму, а др уга виробструм одного знаку для живлення другої секції ляє синусоїдальний постійний струм одного знаку котушки.. для живлення другої секції котушки і має змогу Суттєвими відзнаками винаходу, що пропонурегулювати частоту та величину стр уму. ється є наявність: Оброблюваний виріб монтується на приспосо- плазмових стр уменів з катоду випарювача, бі, яка електричне з'єднана з вакуумною камерою. які можуть бути перпендикулярні боковій поверхні Дуговий розряд між катодом та оброблюваним катода або його торця; виробом або вакуумною камерою живеться від - двосекційної магнітної проволочної котушки джерела (8). для утворення магнітного поля на поверхні катоду; Список використаних джерел - феромагнітного осердя, яке передає магнітне 1 Патент США 1322670, МКИ С23С13/12, Imполе від котушок до поверхні катода; provements in or relating to apparatus for metal - двоконтурного джерела живлення магнітної evaporation coating/ Sablev L.P., Atamansky N,P., котушки, яке забезпечує утворення магнітного поGorbunov V.N. et al. - заявлено 28.07.1971, опубліля, яке стабілізує катодну пляму у нижньому кінці ковано 11.07.1973. катоду і переміщує її по циліндричній поверхні на 2 United States Patent/ Method and apparatus for торець катоду по заданому програмою закону. controlling plazma generation in vapor deposition/Andreev, et al. April 23, 1985, 4, 512, 867. 5 Комп’ютерна в ерстка В. Мацело 71517 6 Підписне Тираж 37 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601