Спосіб одержання наночастинок системи метал-кисень із заданим складом електронно-променевим випаровуванням і конденсацією у вакуумі

1. Спосіб одержання наночастинок системи метал-кисень із заданим складом шляхом електронно-променевого випаровуванням і конденсації у вакуумі, що включає одночасне нагрівання і випаровування у вакуумній камері твердого вихідного матеріалу і твердого матеріалу носія із щонайменше двох окремих ємностей, змішування парових потоків вихідного матеріалу і носія, осадження в зоні конденсації змішаного парового потоку на підкладку з фіксуванням наночастинок вихідного матеріалу на підкладці матеріалом носія, що твердіє, й утворенням конденсату наночастинок у носії, який відрізняється тим, що вибирають твердий вихідний матеріал із групи, що включає метали і їхні сплави, вибирають матеріал носія з розчинних у рідині та випаровних у вакуумі без розкладання неорганічних речовин, вибраних із групи: хлориди натрію, калію, кальцію, магнію, оксид бору, метаборат натрію і їхні суміші, задають і дозованим охолодженням підтримують температуру підкладки в інтервалі формування відкритої мікро- та нанорозмірної пористої структури матеріалу носія менше 0,5 його температури плавлення зі створенням відкритої мікро- та нанорозмірної пористої структури матеріалу носія на підкладці й одержанням у відкритій мікро- та нанорозмірній пористій структурі матеріалу носія конденсату наночастинок, що мають відкриту поверхню, здійснюють дозовану подачу кисню або кисневмісних газів, парів та їхніх сумішей в зону конденсації вакуумної камери і фізико-хімічну взаємодію відкритої поверхні наночастинок вихідного матеріалу з киснем з одержанням наночастинок системи метал-кисень з заданим складом.

2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють нагрів та випаровування вихідного матеріалу лазерним випромінюванням.

3. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють радіаційний нагрів та випаровування вихідного матеріалу та матеріалу носія з керамічних ємностей.

4. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють дозоване випаровування матеріалу носія шляхом зміни фізичної площі поверхні матеріалу носія, який розміщують у відкритій ємності.

5. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють дозоване випаровування матеріалу носія, який розміщують в закритій ємності, крізь випускний отвір цієї ємності.

6. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють іонізацію парового потоку вихідного матеріалу.

7. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють дозовану подачу кисню або кисневмісних газів, парів та їхніх сумішей в зону конденсації вакуумної камери після процесу осадження змішаного парового потоку на підкладку.

8. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють дозовану подачу кисню або кисневмісних газів, парів та їхніх сумішей в зону конденсації вакуумної камери у процесі осадження змішаного парового потоку на підкладку.

9. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що здійснюють додаткову високотемпературну хіміко-термічну обробку конденсату метал-кисень у кисні або кисневмісних газах, парах та їхніх сумішах.

10. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що концентрація наночастинок у зазначеному конденсаті становить від 0,1 до 30 об. %.

12. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що додатково включає розмел і перемішування зазначеного одержаного конденсату.

13. Спосіб за п. 1-12, який відрізняється тим, що додатково конденсат розчиняють щонайменше в одній рідині, наночастинки стабілізують у зазначеній рідині розчиненою у зазначеній рідині поверхнево-активною речовиною з одержанням колоїдної системи наночастинок системи метал-кисень.