Костюк Геннадій Ігорович

Номер патенту: 112566

Опубліковано: 26.09.2016

Автори: Евшовіч Ірина Анатоліївна, Сисоєв Юрій Олександрович, Сисоєв Андрій Юрійович, Сердюк Ірина Віталіївна, Костюк Геннадій Ігорович, Доломанов Андрій Валентинович

МПК: G05D 11/00, B01F 3/02

Мітки: процентного, складу, спосіб, суміші, газів, приготування, заданого

Формула / Реферат:

Спосіб приготування суміші з N газів заданого процентного складу, що полягає в попередній підготовці змішувальної камери і подальшій подачі складових газів до відповідних заданому процентному складу парціальних тисків у змішувальну камеру, який відрізняється тим, що підготовку змішувальної камери здійснюють M-кратною подачею до тиску Рпр. в змішувальну камеру з наступним скиданням до атмосферного тиску Ратм. газу, що має максимальний...

Номер патенту: 110362

Опубліковано: 25.12.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: H05B 7/18, C23C 14/32, F28D 20/00 ...

Мітки: застосування, джерела, вакуумної, пристрою, плазми, камери, іонно-плазмової, нагріву, установки

Формула / Реферат:

1. Застосування акумульованого тепла теплоносія, нагрітого джерелом плазми для нагріву вакуумної камери іонно-плазмової установки.2. Застосування за п. 1, яке відрізняється тим, що джерело плазми забезпечено регулятором протоки рідини, що нагрівається.3. Застосування за п. 2, яке відрізняється тим, що джерело плазми додатково містить датчик вимірювання температури рідини на її виході з джерела плазми.

Номер патенту: 110120

Опубліковано: 25.11.2015

Автори: Костюк Геннадій Ігорович, Сисоєв Юрій Олександрович

МПК: H05B 7/22

Мітки: джерело, плазми, вакуумно-дугове

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дугове джерело плазми, яке містить співвісно встановлені анод і стрижневий катод, що витрачається, прикріплений до торця анода, вузол охолодження катода, змонтований поблизу його робочої поверхні у вигляді пустотілого корпусу, що охоплює герметично бічну поверхню катода, вузол переміщення катода, розташований біля його неробочого торця, і вузол підпалу, розміщений поблизу робочої поверхні катода, яке відрізняється тим, що між...

Номер патенту: 109681

Опубліковано: 25.09.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: C23C 14/40

Мітки: нанесення, розряду, спосіб, вакуумно-дугового, покриттів, плазми

Формула / Реферат:

1. Спосіб нанесення покриттів з плазми вакуумно-дугового розряду, що включає формування потоку плазми з матеріалу катода електродугового випарника, охолодження катода, підтримання температури робочої поверхні катода на заданому рівні та нанесення покриттів на партії виробів, який відрізняється тим, що охолодження катода здійснюють по його бічній поверхні, а підтримання температури робочої поверхні катода на заданому рівні здійснюють шляхом...

Номер патенту: 109451

Опубліковано: 25.08.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: C23C 14/22, C23C 14/16, C23C 14/24 ...

Мітки: спосіб, нанесення, деталі, покриттів, вакуумно-дугового

Формула / Реферат:

1. Спосіб вакуумно-дугового нанесення покриттів на деталі, що включає формування потоку плазми джерелом плазми з катодом з матеріалу покриття, що наноситься, охолодження катода, регулювання температури робочої поверхні катода та послідовне нанесення покриттів на партії деталей, який відрізняється тим, що перед нанесенням покриттів на чергову партію деталей забезпечують відсутність плазмового потоку до деталей, що оброблюються, включають...

Номер патенту: 107598

Опубліковано: 26.01.2015

Автори: Костюк Геннадій Ігорович, Сисоєв Юрій Олександрович

МПК: H05H 1/34, H05H 1/26, H05B 7/22 ...

Мітки: вакуумно-дуговий, покриттів, пристрій, нанесення

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дуговий пристрій для нанесення покриттів, що містить співвісно встановлені трубчастий анод, витратний стрижневий катод, розміщений з однієї сторони анода, тримач підкладки, розміщений з іншої сторони анода, соленоїд, що охоплює анод і катод, перший ступінь запуску, створений підпалюючим електродом і додатковим електродом, що охоплює катод, розрядний проміжок якого заповнений керамікою, підключений до виходу блока живлення першого...

Номер патенту: 106551

Опубліковано: 10.09.2014

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: B01F 3/00, G05D 11/00

Мітки: заданого, спосіб, суміші, відсоткового, складу, підготовки, газів

Формула / Реферат:

Спосіб підготовки суміші газів заданого відсоткового складу, що включає послідовну подачу  дискретних порцій j-го газу в попередньо відкачану змішувальну камеру і задавання відсоткового вмісту газу в суміші числом , який відрізняється тим, що порції газів послідовно подають в змішувальну камеру в...

Номер патенту: 67171

Опубліковано: 10.02.2012

Автори: Костюк Геннадій Ігорович, Сисоєв Юрій Олександрович, Мінаєв Микола Олександрович, Сисоєв Андрій Юрійович

МПК: C23C 14/00

Мітки: нанесення, установка, покриттів

Формула / Реферат:

1. Установка для нанесення покриттів, що містить вакуумну камеру із вакуумно-дуговим джерелом плазми і приєднаним до нього блоком живлення дугового розряду, тримач підкладки із виробами, що оброблюються, розташований всередині вакуумної камери, високовольтний блок іонного очищення із системою захисту і сполучну лінію, підключену входом до виходу високовольтного блока іонного очищення із системою захисту, а виходом до тримача підкладки і...

Номер патенту: 85625

Опубліковано: 10.02.2009

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович, Сисоєв Андрій Юрійович, Євко Юрій Сергійович

МПК: G05D 11/00, B01F 3/00, B01F 13/00 ...

Мітки: пристрій, складу, газів, технологічних, заданого, установок, відсоткового, суміші, реалізації, спосіб, підготовки

Формула / Реферат:

1. Спосіб підготовки суміші газів заданого відсоткового складу для технологічних установок, що включає послідовне подавання ij дискретних порцій j-го газу в попередньо відкачану змішувальну камеру і задавання відсоткового вмісту газу в суміші числом ij, який відрізняється тим, що подавання порцій газів у змішувальну камеру виконують циклічно, при цьому сумарну кількість дискретних порцій j-го газу в окремому циклі підготовки...

Номер патенту: 82889

Опубліковано: 26.05.2008

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович, Романченко Владислав Георгійович, Сисоєв Андрій Юрійович

МПК: C23C 14/34

Мітки: спосіб, пристрій, здійснення, вакуумі, покриттів, нанесення

Формула / Реферат:

1. Спосіб нанесення покриттів у вакуумі, що включає генерацію плазмового потоку з покривного матеріалу джерелом плазми, створення електричного поля, що прискорює іонний компонент плазмового потоку, подачею негативного потенціалу на тримач підкладки із розташованими на ньому виробами, що обробляють, подачу у вакуумну камеру газового компонента і конденсацію потоку іонів на поверхню цих виробів, який відрізняється тим, що в області осадження...