Полива
Номер патенту: 24468
Опубліковано: 21.07.1998
Автори: Радкевич Людмила Миколаївна, Щукіна Людмила Павлівна, Лісачук Георгій Вікторович, Олефіренко Надія Григорівна, Трусова Юлія Дмитрівна, Рищенко Михайло Іванович
Формула / Реферат
Глазурь, включающая SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит Li2O и MgO при следующем соотношении компонентов, мас. доли %: SiO2 54 - 56; Al2O3 14 - 16; B2O3 7 - 13; CaO 6 - 14; Li2O 4 - 5; Mg 4 - 10.
Текст
Предлагаемое изобретение относится к составам глазурей в керамической промышленности и может быть использовано для получения глазурованных облицовочных, фасадных и плиток для полов на поточноконвейерных линиях скоростного обжига. Известен состав глазури, содержащий мас. доли %: SiO2 42,0 - 52,0; B2O3 19,0 - 26,0; Al2O3 5,5 - 8,5: MgO 3,9 - 12,0; Na2O 5,0 - 7,5; K2O 0,5 - 3,6; CaO 2,0 - 2,5; P2O5 4,5 - 5,6 (1). Однако, данная глазурь имеет высокое значение термического коэффициента линейного расширения (ТКЛР) (6,0 - 6,25) × 10-6град-1 и низкое значение термостойкости (230 - 250°C). Наиболее близкой к заявляемой глазури по составу является глазурь, содержащая масс. доли %: SiO2 32,16 - 37,61; B2O3 22,03 - 25,53; CaO 7,96 - 12,15; Na2O 1,54 - 3,42; K2O 2,08 - 4,83; Al2O3 9,40 - 13,04; ZnO 4,20 - 7,04; ZrO2 6,55 - 10,26 (2). Недостатком данной глазури-прототипа является высокое значение ТКЛР (4,9 - 5,1) × 10-6град-1, что ограничивает область применения данной глазури. Задача предлагаемого изобретения - снижение значения термического коэффициента линейного расширения глазури. Технический результат обеспечивается тем, что в отличие от известной глазури, включающей SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, Na2O, K2O, ZnO, ZrO2 предлагаемая глазурь содержит дополнительно Li2O и MgO при следующем соотношении компонентов: мас. доли %: SiO2 54 - 56; Al2O3 14 - 16; B2O3 7 - 13; CaO 6 - 11; Li2O 4 - 5; MgO 4 10. Данные компоненты в заявляемом соотношении для приготовления глазури не применялись, что свидетельствует о соответствии предложенного решения критерию "изобретательский уровень". Положительный эффект объясняется следующим. Благодаря дополнительному введению Li2O и MgO, а также предложенному соотношению компонентов в результате модифицирующего действия MgO и минерализующего действия оксида лития в период варки фритты образуются зародыши кристаллического bсподумена. При дальнейшей термообработке (обжиге изделий) рост кристаллов b-сподумена, равномерно распределенных в стеклообразной матрице, за счет собственного низкого термического расширения (ТКЛ P = 0,9 × 10-6град-1), способствует значительному снижению ТКЛР, а также повышению показателей твердости и химической устойчивости готового покрытия. Пример. В качестве исходного сырья используются следующие сырьевые материалы: песок кварцевый, каолин просяновский, борная кислота, мел белгородский, углекислый литий, оксид магния технический. Температура варки фритты 1320 - 1350°C. Шихтовой (материальный) состав, соответствующий оптимальному химическому составу глазури №2, мас.%: Песок 27,01 Каолин 31,55 Борная кислота 13,8 Мел 14,0 Углекислый литий 8,72 Оксид магния техн. 4,92 Глазурь готовят мокрым помолом фритты до остатка на сите 0056 0,1 - 0,5%. Влажность шликера 34 38%, плотность 1,64 - 1,65г/см3. Плитки покрывались глазурью методом полива или распыления и обжигались на поточно-конвейерной линии в течение 30 - 60 минут при температуре 930°C. Конкретные составы глазурей и их свойства приведены в таблице. Как следует из таблицы, предлагаемые составы глазурей позволяют значительно снизить температурный коэффициент линейного расширения (ТКЛР) и получить изделия с высокими показателями термостойкости и износостойкости по сравнению с прототипом. В запредельных составах глазури происходит срыв достигаемого эффекта, а именно - увеличивается ТКЛР и резко уменьшаются показатели термостойкости. Таким образом, предлагаемое изобретение обладает рядом преимуществ по сравнению с известным.
ДивитисяДодаткова інформація
Автори англійськоюRyschenko Mykhailo Ivanovych, Lisachuk Heorhii Viktorovych, Trusova Yuliia Dmytrivna, Schukina Liudmyla Pavlivna, Olefirenko Nadiia Hryhorivna, Radkevych Liudmyla Mykolaivna
Автори російськоюРищенко Михаил Иванович, Лисачук Георгий Викторович, Трусова Юлия Дмитриевна, Щукина Людмила Павловна, Олефиренко Надежда Григорьевна, Радкевич Людмила Николаевна
МПК / Мітки
МПК: C03C 8/04
Мітки: полива
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-24468-poliva.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Полива</a>