Патенти з міткою «експонування»

Пристрій для експонування субстрату обростання

Завантаження...

Номер патенту: 79164

Опубліковано: 10.04.2013

Автор: Домбровський Костянтин Олегович

МПК: A01K 61/00, G01N 1/02

Мітки: обростання, пристрій, субстрату, експонування

Формула / Реферат:

Пристрій для експонування субстрату обростання, що містить знімний засіб кріплення субстрату, стержень, пружину та трос, який відрізняється тим, що знімний засіб кріплення субстрату виконаний у вигляді розтяжного у повздовжньому напрямі елемента, що складається із телескопічного стержня, концентрично якому встановлені втулки з глухим отвором та пружиною розтягнення, гофрувальної порожнистої оболонки, які закріплені однією стороною до одного...

Пристрій для експонування субстратів обростання к.о. домбровського

Завантаження...

Номер патенту: 40733

Опубліковано: 27.04.2009

Автор: Домбровський Костянтин Олегович

МПК: A01K 61/00

Мітки: обростання, субстратів, пристрій, домбровського, експонування, ко

Формула / Реферат:

1. Пристрій для експонування субстратів обростання, що містить стержень, субстрат, пази та опорні елементи, який відрізняється тим, що на одному кінці вертикального стержня виконані гвинтові лопаті заглиблення до ґрунту, на якому блоками  вздовж його подовжньої осі розміщений між опорними елементами субстрат, що має форму еліпсних дисків з пазами на їх поверхні, причому кожен еліпсний диск розміщений на вертикальному стержні під кутом a...

Спосіб експонування топографічних зображень із використанням рядів матриць із автоелектронними випромінювачами різних розмірів

Завантаження...

Номер патенту: 24157

Опубліковано: 25.06.2007

Автори: Когут Ігор Тимофійович, Голота Віктор Іванович

МПК: H05K 3/00

Мітки: автоелектронними, розмірів, різних, матриць, випромінювачами, експонування, спосіб, рядів, зображень, топографічних, використанням

Формула / Реферат:

1. Спосіб експонування топографічних зображень із використанням рядів матриць із автоелектронними випромінювачами різних розмірів, що включає рухому напівпровідникову пластину, покриту фоторезистом, яка експонується керованим електронним випромінюванням матриці випромінювачів, який відрізняється тим, що використовують ряди матриць випромінювачів різних розмірів.2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що в рядах матриць...

Спосіб експонування топографічного зображення мікроелектронних пристроїв

Завантаження...

Номер патенту: 20074

Опубліковано: 15.01.2007

Автори: Голота Віктор Іванович, Когут Ігор Тимофійович

МПК: H01L 31/00

Мітки: спосіб, мікроелектронних, пристроїв, експонування, зображення, топографічного

Формула / Реферат:

1. Спосіб експонування топографічного зображення мікроелектронних пристроїв, який виконують методом матрично-емітерної літографії, що включає рухому напівпровідникову пластину, покриту фоторезистом, який експонують керованим випромінюванням матриці емітерів, при цьому експоновані емітерами піксели мають різні розміри, а потрібні величини експозицій пікселів (напівтоновість) набирають дискретною модуляцією тривалостей випромінювання емітерів,...