Панченко Олег Антонович

Номер патенту: 92057

Опубліковано: 27.09.2010

Автори: Птушинський Юрій Григорович, Борденюк Іван Васильович, Панченко Олег Антонович, Лисенко Віталій Степанович

МПК: H01J 27/02, H01J 37/08

Мітки: іонів, замкненим, пучка, джерело, електронів, дрейфом

Формула / Реферат:

Джерело пучка іонів із замкненим дрейфом електронів, що містить магнітопровідний корпус, що є катодом, у торці якого розташована емісійна щілина для випуску пучка іонів, і в порожнині якого розташований анод симетрично зазначеній щілині і ізольований від корпусу, джерело магніторушійної сили, джерело електроживлення, з'єднане з катодом і анодом, а також вакуумна система відкачки з камерою, яка містить катод, анод та джерело магніторушійної...

Номер патенту: 89729

Опубліковано: 25.02.2010

Автори: Панченко Олег Антонович, Птушинський Юрій Григорович, Лисенко Віталій Степанович

МПК: C01G 09/00, B82B 03/00, C01F 05/00 ...

Мітки: наночастинок, металу, спосіб, порожнистих, оксиду, одержання

Формула / Реферат:

1. Спосіб одержання порожнистих наночастинок оксиду металу, що включає окиснення наночастинок металу киснем, який відрізняється тим, що наночастинки металу одержують випарюванням відповідного металу в атмосфері інертного газу при тиску не вище атмосферного і конденсують на підкладці, окиснення наночастинок металу проводять контактуванням їх з киснем повітря протягом не менше однієї секунди і нагрівають одержані наночастинки в вакуумі чи в...

Номер патенту: 13770

Опубліковано: 25.04.1997

Автори: Владимиров Вадим Володимирович, Чорногорський Валерій Павлович, Стеценко Борис Володимирович, Панченко Олег Антонович, Голома Віталій Володимирович

МПК: C23C 14/38

Мітки: нанесення, сполук, розряду, магнетронного, покриття, плазми, багатокомпонентних, пристрій, спосіб, здійснення

Формула / Реферат:

1. Способ нанесения покрытия многокомпо­нентных соединений из плазмы магнетронного разряда, включающий напуск реагирующего газа в напылительную камеру и последующую его от­качку, а также управление потоком газа, отлича­ющийся тем, что скорость откачки газа устанав­ливают равной критическому значению, а отноше­ние скоростей откачки и натекания реагирующего газа устанавливают постоянным в течение процес­са напыления.2. Способ по п.1,...