Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення
Номер патенту: 65017
Опубліковано: 25.11.2011
Автори: Кравченко Сергій Юрійович, КРАВЧЕНКО ЮРІЙ СТЕПАНОВИЧ, Осадчук Володимир Степанович
Формула / Реферат
Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, що оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фототранзистор, біполярний транзистор, ємність, котушку індуктивності та два джерела постійної напруги, крім того частотний фотоперетворювач містить другий біполярний транзистори, перший та другий резистори, причому колектор фототранзистора з'єднаний з базою транзистора та першим виводом третього резистора, база фототранзистора з'єднана з першим виводом індуктивності, першим виводом ємності, емітером транзистора та виходом, емітер фототранзистора з'єднаний з другим виводом першого резистора, другим виводом ємності, другим виводом першого джерела постійної напруги, та другим виводом другого джерела постійної напруги, перший вивід першого резистора з'єднаний з другим виводом індуктивності, колектор транзистора з'єднаний з першим виводом другого резистора, другий вивід якого з'єднаний з першим виводом першого джерела постійної напруги, другий вивід третього резистора з'єднаний з першим виводом другого джерела постійної напруги.
Текст
Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, що оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фототранзистор, біполярний транзистор, ємність, котушку індуктивності та два джерела постійної напруги, крім того частотний фотоперетворювач містить другий біполярний транзистори, перший та 3 який містить біполярний транзистор, ємність, індуктивність, резистор та два джерела постійної напруги частотний фотоперетворювач містить фототранзистор та другий і третій резистори, причому колектор фототранзистора з'єднаний з базою біполярного транзистора та першим виводом третього резистора, база фототранзистора з'єднана з першим виводом індуктивності, першим виводом ємності, емітером біполярного транзистора та виходом, емітер фототранзистора з'єднаний з другим виводом першого резистора, другим виводом ємності, другим виводом першого джерела постійної напруги та другим виводом другого джерела постійної напруги, перший вивід першого резистора з'єднаний з другим виводом індуктивності, колектор біполярного транзистора з'єднаний з першим виводом другого резистора, другий вивід якого з'єднаний з першим виводом першого джерела постійної напруги, другий вивід третього резистора з'єднаний з першим виводом другого джерела постійної напруги. На кресленні подано схему пристрою для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення. Пристрій складається з вузькосмугового інтерференційного фільтра 1, який оптично пов'язаний з частотним фотоперетворювачем, який містить фототранзистор 2, колектор якого з'єднаний з базою біполярного транзистора 3 та першим виводом третього резистора 7, база фототранзистора 2 з'єднана з першим виводом індуктивності 4, першим виводом ємності 6, емітером біполярного транзистора 3 та виходом, емітер фототранзистора 2 з'єднаний з другим виводом першого резистора 5, другим виводом ємності 6, другим виводом першого джерела постійної напруги 9 та другим виводом другого джерела постійної напруги 10, перший вивід першого резистора 5 з'єднаний з Комп’ютерна верстка М. Ломалова 65017 4 другим виводом індуктивності 4, колектор біполярного транзистора 3 з'єднаний з першим виводом другого резистора 8, другий вивід якого з'єднаний з першим виводом першого джерела постійної напруги 9, другий вивід третього резистора 7 з'єднаний з першим виводом другого джерела постійної напруги 10. Пристрій працює наступним чином. В початковий момент часу світло не діє на фототранзистор 2. Підвищення напруги джерела постійної напруги 10 через резистор 7 до величини, коли на електродах емітер-емітер біполярного транзистора 3 та фототранзистора 2 виникає від'ємний опір, який приводить до виникнення електричних коливань у контурі, який, утворюється паралельним включенням повного опору біполярного транзистора 3 та фототранзистора 2 з ємнісним характером на електродах емітер-емітер та індуктивності 4. Ємність 6 запобігає проходженню змінного струму через джерело постійної напруги 9. При наступній дії оптичного випромінювання на фототранзистор 2 змінюється величина струму, який протікає через фототранзистор, що приводить до зміни ємнісної складової повного опору на електродах емітер-емітер біполярного транзистора 3 та фототранзистора 2, а це викликає зміну резонансної частоти коливального контуру. Використання запропонованого пристрою суттєво підвищує точність виміру інформативного параметру за рахунок використання ємнісного елементу коливального контуру у вигляді відповідного включення фототранзистора та біполярного транзистора, в якому зміна опору під дією світла перетворюється в ефективну зміну резонансної частоти. При цьому можлива лінеаризація функції перетворення шляхом вибору величини напруги живлення. Підписне Тираж 23 прим. Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for determination of plasma etching process end
Автори англійськоюKravchenko Serhii Yuriiovych, Kravchenko Yurii Stepanovych, Osadchuk Volodymyr Stepanovych
Назва патенту російськоюУстройство для определения момента окончания процесса плазменного травления
Автори російськоюКравченко Сергей Юрьевич, Кравченко Юрий Степанович, Осадчук Владимир Степанович
МПК / Мітки
МПК: H01L 21/302
Мітки: моменту, процесу, плазмового, пристрій, травлення, визначення, закінчення
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-65017-pristrijj-dlya-viznachennya-momentu-zakinchennya-procesu-plazmovogo-travlennya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення</a>
Попередній патент: Технічна рідина
Наступний патент: Склад для одержання зносостійких композиційних електролітичних покриттів на основі нікелю для роботи при підвищених температурах
Випадковий патент: Спосіб оцінки реперфузійного ушкодження ішемізованої нижньої кінцівки