Патенти з міткою «фоторезистів»
Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів
Номер патенту: 99226
Опубліковано: 25.07.2012
Автори: Індутний Іван Захарович, Минько Віктор Іванович, Данько Віктор Андрійович, Шепелявий Петро Євгенович
МПК: G03G 5/00, G03H 1/26, G03F 7/00 ...
Мітки: періодичних, шарах, структур, фоторезистів, спосіб, масок, літографічних, формування, халькогенідних, рельєфно-фазових
Формула / Реферат:
1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів, який включає нанесення на підкладинку шару фоторезисту з неорганічної халькогенідної сполуки, експонування фоторезисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду, шляхом проектування на фоторезист зображення відповідного фотошаблона, чи інтерференційного поля, сформованого двома...