Патенти з міткою «літографічних»
Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах позитивних халькогенідних резистів
Номер патенту: 100965
Опубліковано: 25.08.2015
Автори: Минько Віктор Іванович, Шепелявий Петро Євгенович, Індутний Іван Захарович, Данько Віктор Андрійович, Луканюк Марія Василівна
МПК: G03F 7/26, G03G 5/10, G03F 1/56 ...
Мітки: масок, літографічних, рельєфно-фазових, позитивних, формування, халькогенідних, спосіб, резистів, періодичних, структур, шарах
Формула / Реферат:
1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних резистів, який включає нанесення на підкладинку шару резисту з неорганічної халькогенідної сполуки, відпал резисту протягом 1-3 годин при температурі від Tg-5 до Tg-15 °C, де Tg - температура розм'якшення даного халькогеніду, експонування резисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду,...
Співполімери для чутливих у близькій інфрачервоній області випромінювання композицій для покриття позитивних термічних літографічних друкарських форм
Номер патенту: 106533
Опубліковано: 10.09.2014
Автори: Фан Акха, Нгуєн-Труонг Вієт-Ту, Локас Марк Андре, Нгуєн Май Т.
МПК: B41C 1/00, C08F 212/00, C08F 220/10 ...
Мітки: композицій, випромінювання, чутливих, співполімери, термічних, форм, літографічних, інфрачервоний, області, близькій, покриття, позитивних, друкарських
Формула / Реферат:
1. Співполімер, який має загальну структуру:,деa, b і d є молярними співвідношеннями, що змінюються в діапазоні між приблизно 0,01 і приблизно 0,90, а с є молярним співвідношенням, що змінюється в діапазоні між приблизно 0 і приблизно 0,90;А1 представляє мономерні одиниці, що містять бічну групу, яка містить ціано, в якій ціано не є приєднаним...
Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів
Номер патенту: 99226
Опубліковано: 25.07.2012
Автори: Данько Віктор Андрійович, Минько Віктор Іванович, Шепелявий Петро Євгенович, Індутний Іван Захарович
МПК: G03G 5/00, G03H 1/26, G03F 7/00 ...
Мітки: періодичних, халькогенідних, структур, літографічних, масок, фоторезистів, шарах, рельєфно-фазових, спосіб, формування
Формула / Реферат:
1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів, який включає нанесення на підкладинку шару фоторезисту з неорганічної халькогенідної сполуки, експонування фоторезисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду, шляхом проектування на фоторезист зображення відповідного фотошаблона, чи інтерференційного поля, сформованого двома...
Покривна композиція для термочутливих літографічних друкарських форм, негативна термочутлива літографічна друкарська форма та водорозчинний полімерний барвник
Номер патенту: 95373
Опубліковано: 25.07.2011
Автори: Нгуєн Май Т., Локас Марк Андре
МПК: B41M 5/00, B41C 1/00, C09B 46/00 ...
Мітки: друкарських, композиція, літографічна, літографічних, термочутливих, негативна, друкарська, форм, полімерний, термочутлива, водорозчинний, покривна, барвник, форма
Формула / Реферат:
1. Покривна композиція для термочутливих літографічних друкарських форм, яка містить:(a) водорозчинний полімерний барвник зі спектром поглинання від 300 до 600 нм; та(b) мікрочастинки або наночастинки,де вказаний полімерний барвник має наступну формулу:або