Патенти з міткою «масок»

Номер патенту: 112525

Опубліковано: 26.09.2016

Автор: Полегато Моретті Маріо

МПК: A61F 9/02, G02C 11/08, G02C 5/12 ...

Мітки: оправа, професійного, масок, окулярів, спортивного, тощо, використання

Формула / Реферат:

1. Оправа (10, 100) для окулярів, масок для професійного або спортивного використання, призначена для утримування щонайменше однієї коригувальної та/або захисної лінзи у положенні, яке під час використання знаходиться перед очноямковими ділянками обличчя користувача, причому ця оправа (10, 100) має щонайменше одну паропроникну ділянку від навколишнього середовища до шкіри користувача, що носить дану оправу (10, 100), і передбачена щонайменше...

Номер патенту: 100965

Опубліковано: 25.08.2015

Автори: Індутний Іван Захарович, Данько Віктор Андрійович, Минько Віктор Іванович, Шепелявий Петро Євгенович, Луканюк Марія Василівна

МПК: G03G 5/10, G03F 7/26, G03F 1/56 ...

Мітки: резистів, масок, спосіб, рельєфно-фазових, формування, літографічних, халькогенідних, структур, шарах, позитивних, періодичних

Формула / Реферат:

1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних резистів, який включає нанесення на підкладинку шару резисту з неорганічної халькогенідної сполуки, відпал резисту протягом 1-3 годин при температурі від Tg-5 до Tg-15 °C, де Tg - температура розм'якшення даного халькогеніду, експонування резисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду,...

Номер патенту: 77533

Опубліковано: 25.02.2013

Автори: Абрамова Анастасія Сергіївна, Голованов Валерій Олексійович, Сумська Ольга Петрівна

МПК: D06M 11/00

Мітки: надання, властивостей, спосіб, матеріалам, антимікробних, медичних, захисних, масок

Формула / Реферат:

Спосіб надання антимікробних властивостей матеріалам для медичних захисних масок, який включає обробку матеріалу антимікробним препаратом, віджимання та сушіння, який відрізняється тим, що як антимікробний препарат використовують відфільтрований екстракт з ягід ялівцю звичайного у концентрації 20-25 г/л при температурі 40 °C, модулі ванни 50, 100 % -вому віджиманні та сушінні при кімнатній температурі.

Номер патенту: 99226

Опубліковано: 25.07.2012

Автори: Шепелявий Петро Євгенович, Індутний Іван Захарович, Данько Віктор Андрійович, Минько Віктор Іванович

МПК: G03F 7/00, G03H 1/26, G03G 5/00 ...

Мітки: структур, літографічних, формування, шарах, халькогенідних, періодичних, спосіб, рельєфно-фазових, фоторезистів, масок

Формула / Реферат:

1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів, який включає нанесення на підкладинку шару фоторезисту з неорганічної халькогенідної сполуки, експонування фоторезисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду, шляхом проектування на фоторезист зображення відповідного фотошаблона, чи інтерференційного поля, сформованого двома...

Номер патенту: 67673

Опубліковано: 17.04.2006

Автори: Плаксій Юрій Степанович, Єсьман Сергій Степанович, Галкін Олександр Олексійович, Мамілов Сергій Олександрович, Кравченко Вілен Йосипович

МПК: G01N 21/01, G01N 21/39

Мітки: масок, пристрій, флексоформ, оптичного, контролю

Формула / Реферат:

Електроліт для нанесення захисних і декоративних плівок на вироби із вентильних металів та їх сплавів на основі 0,1-15%-го розчину однозаміщеного фосфату лужного металу, який відрізняється тим, що він додатково містить двозаміщений фосфат лужного металу, який береться в масовому співвідношенні 1:1 до основної солі, а як розчинник використовується вода.

Номер патенту: 67942

Опубліковано: 15.07.2004

Автори: Бережанський Володимир Михайлович, Новосядлий Степан Петрович

МПК: C30B 11/02

Мітки: фотошаблонів, транспарентних, спосіб, просвітлювальних, виготовлення, масок

Формула / Реферат:

1. Спосіб виготовлення просвітлювальних (транспарентних) масок для фотошаблонів, який включає хімічну обробку оптичних скляних заготовок, термічний розклад залізовмісної сполуки, наприклад пентакарбонілу заліза, фотолітографію по просвітлювальній плівці, який відрізняється тим, що процес формування плівки Fе2О3 проводять шляхом низькотемпературного осадження в реакторі зниженого тиску шляхом створення самопоширюваного фронту зони ланцюгової...