Данько Віктор Андрійович
Спосіб виготовлення оригіналу оптичної сигналограми
Номер патенту: 109582
Опубліковано: 10.09.2015
Автори: Минько Віктор Іванович, Данько Віктор Андрійович, Луканюк Марія Василівна, Крючин Андрій Андрійович, Бородін Юрій Олександрович, Петров В'ячеслав Васильович, Індутний Іван Захарович, Шепелявий Петро Євгенович, Гера Едуард Васильович, Рубіш Василь Михайлович
МПК: G11B 7/26
Мітки: оптично, оригіналу, виготовлення, сигналограми, спосіб
Формула / Реферат:
Спосіб виготовлення оригіналу оптичної сигналограми, що включає нанесення у вакуумі на дискову підкладку адгезійного шару і шару неорганічного фоторезисту на основі халькогенідного скла, його експонування модульованим гостросфокусованим лазерним пучком, і формування рельєфної структури шляхом селективного хімічного травлення фоторезисту, який відрізняється тим, що як неорганічний фоторезист на основі халькогенідного скла використовують шар...
Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах позитивних халькогенідних резистів
Номер патенту: 100965
Опубліковано: 25.08.2015
Автори: Минько Віктор Іванович, Данько Віктор Андрійович, Луканюк Марія Василівна, Індутний Іван Захарович, Шепелявий Петро Євгенович
МПК: G03F 1/56, G03F 7/26, G03G 5/10 ...
Мітки: шарах, халькогенідних, періодичних, спосіб, структур, літографічних, формування, масок, позитивних, резистів, рельєфно-фазових
Формула / Реферат:
1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних резистів, який включає нанесення на підкладинку шару резисту з неорганічної халькогенідної сполуки, відпал резисту протягом 1-3 годин при температурі від Tg-5 до Tg-15 °C, де Tg - температура розм'якшення даного халькогеніду, експонування резисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду,...
Прилад для аналізу біомолекулярних середовищ
Номер патенту: 87271
Опубліковано: 27.01.2014
Автори: Дорожинський Гліб Вячеславович, Данько Віктор Андрійович, Христосенко Роман Васильович, Стеценко Максим Олександрович, Шепелявий Петро Євгенович
МПК: G01N 21/55
Мітки: середовищ, біомолекулярних, аналізу, прилад
Формула / Реферат:
Прилад для аналізу біомолекулярних середовищ, який містить оптичний вузол, який складається з джерела р-поляризованого монохроматичного видимого світла, призми повного внутрішнього відбиття з нанесеним на її поверхню плівковим металевим робочим елементом та системи вимірювання інтенсивності відбитого від робочого елемента світла, а також пристрій механічного повороту призми з кроковим двигуном та системою передачі обертального руху від...
Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів
Номер патенту: 99226
Опубліковано: 25.07.2012
Автори: Індутний Іван Захарович, Шепелявий Петро Євгенович, Минько Віктор Іванович, Данько Віктор Андрійович
МПК: G03F 7/00, G03G 5/00, G03H 1/26 ...
Мітки: рельєфно-фазових, літографічних, періодичних, формування, масок, шарах, фоторезистів, структур, спосіб, халькогенідних
Формула / Реферат:
1. Спосіб формування літографічних масок та рельєфно-фазових періодичних структур на шарах халькогенідних фоторезистів, який включає нанесення на підкладинку шару фоторезисту з неорганічної халькогенідної сполуки, експонування фоторезисту випромінюванням спектрального складу, що відповідає міжзонному поглинанню халькогеніду, шляхом проектування на фоторезист зображення відповідного фотошаблона, чи інтерференційного поля, сформованого двома...
Спосіб подвоєння просторової частоти при записі рельєфно-фазових періодичних структур
Номер патенту: 99200
Опубліковано: 25.07.2012
Автори: Індутний Іван Захарович, Шепелявий Петро Євгенович, Данько Віктор Андрійович, Минько Віктор Іванович
МПК: G03F 7/00, G03G 5/00, G03H 1/00 ...
Мітки: частоти, структур, подвоєння, рельєфно-фазових, спосіб, періодичних, записі, просторової
Формула / Реферат:
1. Спосіб подвоєння просторової частоти при записі рельєфно-фазових періодичних структур, який включає послідовне нанесення на підкладинку адгезивного шару, допоміжного шару та верхнього шару фоторезисту, формування з фоторезисту інтерференційної літографічної маски періодичної 1D конфігурації певної просторової частоти, селективне травлення через маску допоміжного шару до утворення "грибоподібної" форми поперечного перерізу...
Спосіб одержання світловипромінюючого матеріалу
Номер патенту: 58700
Опубліковано: 26.04.2011
Автори: Шепелявий Петро Євгенович, Михайловська Катерина Василівна, Данько Віктор Андрійович, Індутний Іван Захарович
МПК: H01L 21/265
Мітки: спосіб, одержання, матеріалу, світловипромінюючого
Формула / Реферат:
1. Спосіб отримання світловипромінюючого матеріалу на основі нанокомпозитних поруватих шарів Si-SiOx, що включає формування шару субоксиду кремнію SiOx (де х £ 2) шляхом осадження SiOx у вакуумі на підкладинку, орієнтовану під кутом 20-80° до напряму потоку осаджуваної речовини і наступного термічного відпалу цього шару при температурі 400-1300 °С в атмосфері інертного газу чи у вакуумі, який відрізняється тим, що після відпалу шар...
Спосіб одержання світловипромінювального матеріалу
Номер патенту: 33100
Опубліковано: 10.06.2008
Автори: Майданчук Іван Юрійович, Індутний Іван Захарович, Шепелявий Петро Євгенович, Данько Віктор Андрійович, Минько Віктор Іванович
МПК: H01L 21/265
Мітки: матеріалу, світловипромінювального, спосіб, одержання
Формула / Реферат:
1. Спосіб одержання світловипромінювального матеріалу на основі нанокомпозитних поруватих шарів Si-SiOx, який включає формування шару субоксиду кремнію SiOx (де х £ 2) шляхом осадження SiOx у вакуумі на підкладинку, орієнтовану під кутом 20-80° до напряму потоку осаджуваної речовини, і наступного термічного відпалу цього шару при температурі 400-1300 °С в атмосфері інертного газу чи у вакуумі, який відрізняється тим, що перед відпалом...
Спосіб одержання світловипромінювального матеріалу на основі кремнію
Номер патенту: 75793
Опубліковано: 15.05.2006
Автори: Індутний Іван Захарович, Майданчук Іван Юрійович, Шепелявий Петро Євгенович, Минько Віктор Іванович, Данько Віктор Андрійович
МПК: H01L 21/265
Мітки: кремнію, основі, спосіб, матеріалу, одержання, світловипромінювального
Формула / Реферат:
1. Спосіб одержання світловипромінювального матеріалу на основі кремнію, який включає осадження в вакуумі на підкладку шару субоксиду кремнію SiOx, де х менше 2 і наступного термічного відпалу цього шару при підвищеній температурі в атмосфері інертного газу або у вакуумі, який відрізняється тим, що під час осадження шару SiOx підкладку орієнтують під кутом від 20 до 80 градусів між нормаллю до підкладки і напрямком потоку осаджуваної...