C23C 14/46 — за допомогою іонного променя, одержуваного від зовнішнього іонного джерела

Номер патенту: 115118

Опубліковано: 25.09.2017

Автори: Маллулі Джон Ф., Кононенко Юрій Григорович, Білоусов Ігор Володимирович, Кузьмичов Анатолій Іванович

МПК: C23C 14/16, C23C 14/24, C23C 14/00 ...

Мітки: покриттів, осадження, керамічних, парофазне

Формула / Реферат:

1. Пристрій для нанесення покриття на підкладку, який включає: камеру осадження;електронно-променеву гармату, розташовану таким чином, щоб спрямовувати електронний промінь на розплав матеріалу покриття;тигель для утримання розплаву матеріалу покриття; та засіб обертання розплаву, виконаний з можливістю його контролю для спрямування відшлакованих матеріалів, які спливають на поверхню розплаву, до периферії розплаву для...

Номер патенту: 87935

Опубліковано: 25.08.2009

Автори: Малишко Іван Олександрович, Михайлова Олена Олександрівна

МПК: C23C 14/46, C23C 14/00

Мітки: іонно-плазмових, вакуумних, спосіб, поверхні, виробів, покриттів, циліндричні, внутрішні, нанесення

Формула / Реферат:

1. Спосіб нанесення вакуумних іонно-плазмових покриттів на внутрішні циліндричні поверхні групи виробів, при якому вироби встановлюють на позиції робочого стола вакуумної камери й за допомогою плазмового потоку матеріалів наносять покриття, при цьому і робочому столу, і кожному виробу відносно робочого стола надають рівномірні, забезпечуючі рівномірну товщину поверхневого шару покриття, обертові рухи, який відрізняється тим, що плазмовий...

Номер патенту: 26969

Опубліковано: 10.10.2007

Автори: Барановська Мар'яна Юріївна, Лізунов Сергій Миколайович, Аулін Віктор Васильович, Лисенко Сергій Володимирович, Барановський Денис Миколайович, Бобрицький Віталій Миколайович

МПК: C23C 14/46

Мітки: поверхонь, лазерною, модифікування, спосіб, обробкою

Формула / Реферат:

Спосіб модифікування поверхонь лазерною обробкою, який відрізняється тим, що в зону опромінення струминно подають воду чи водні розчини з необхідними елементами.

Номер патенту: 77914

Опубліковано: 15.01.2007

Автори: Мустяца Олег Никифорович, Посвятенко Едуард Карпович, Золотухін Олександр Олександрович, Дмитрієв Микола Миколаєвич, Золотухін Олександр Віталієвич

МПК: C23C 14/40, C23C 14/32, C23C 14/46 ...

Мітки: іонно-плазмового, електропровідних, покриттів, спосіб, напилювання

Формула / Реферат:

Спосіб іонно-плазмового напилювання електропровідних покриттів програмованої еластичності, який відрізняється тим, що на вироби подають електронну і іонну частини газової квазінейтральної плазми рознесеними у часі зі сталою частотою, подаючи та змінюючи потенціал опорної напруги на виробах з позитивного на негативний, при цьому за час дії негативного потенціалу на вироби спрямовують іонну частину квазінейтральної плазми, а за час дії...

Номер патенту: 73290

Опубліковано: 15.07.2005

Автори: Марікоккі Антоніо Френк, Рейт Вольфганг Ерхардт, Баер Мартін, Еванс Джон Дуглас, старший, Брюс Роберт Вілліам, Еберхардт Гельмут, Рік Альфред

МПК: C23C 14/56, C22B 9/22, C23C 14/46 ...

Мітки: конденсації, нанесення, варіанти, парової, пристрій, шляхом, фазі, електронно-променевий, покриття

Формула / Реферат:

1. Електронно-променевий пристрій  (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який включає:покривну камеру (12),  яка виконана з можливістю функціонування  в умовах підвищеної температури  та субатмосферного тиску;конденсаційну бленду (52), що визначає ділянку покриття в покривній камері (12); електронно-променеву пушку (30) для проектування електронного променя (28) на ділянку покриття;апертуру (68) в...

Номер патенту: 69453

Опубліковано: 15.09.2004

Автор: Саєнко Володимир Антонович

МПК: C23C 14/14, C23C 14/28, C23C 14/30 ...

Мітки: реактор, плазмохімічний

Формула / Реферат:

1. Плазмохімічний реактор, що складається з трубки подавання робочого газу (1), анода з водяним охолодженням (2) та робочою речовиною (3), термоемісійного катода (4), вміщених у соленоїд (5), допоміжного електрода (6), підкладкотримача (7) та блоків електроживлення (8 - 11), який відрізняється тим, що трубка подавання робочого газу (1) розташована в отворі на осі анода (2), а катод виконаний у вигляді плоскої двозахідної спіралі (4),...