Патенти з міткою «іонно-плазмового»

Номер патенту: 108820

Опубліковано: 10.06.2015

Автори: Бережанський Володимир Михайлович, Новосядлий Степан Петрович, Мельник Любомир Васильович, Новосядлий Святослав Володимирович

МПК: H01L 21/22

Мітки: бору, спосіб, дифузійного, джерела, нітриду, формування, планарного, іонно-плазмового

Формула / Реферат:

1. Спосіб іонно-плазмового формування планарного дифузійного джерела із нітриду бору, який включає попередню хімічну обробку кремнієвих пластин великого діаметра, тобто більше 150 мм, у перекисно-аміачній суміші і промивку в деіонізованій воді, який відрізняється тим, що формування джерела здійснюють із нітридних плівок бору кубічної фази низькотемпературним процесом осадження із направлених іонно-плазмових потоків частинок, причому...

Номер патенту: 107408

Опубліковано: 25.12.2014

Автори: Сагалович Олексій Владиславович, Сагалович Владислав Вікторович

МПК: C23C 14/48, C23C 14/06

Мітки: спосіб, avinit, поверхонь, іонно-плазмового, деталі, сталей, азотування, прецизійного, сплавів

Формула / Реферат:

1. Спосіб іонно-плазмового прецизійного азотування поверхонь деталі зі сталей або сплавів, що включає попереднє іонне очищення поверхні деталі з утворенням у міжелектродному просторі плазми, нагрівання поверхні й підтримка її на всіх стадіях обробки, подачу негативного потенціалу на оброблювану деталь, азотування її в азотовмісному газі або азоті, який відрізняється тим, що попередньо ініціюють газорозрядну плазму на основі аргону, після...

Номер патенту: 95071

Опубліковано: 10.12.2014

Автори: Сагалович Олексій Владиславович, Сагалович Владислав Вікторович, Остапчук Дмитро Павлович

МПК: C23C 14/24

Мітки: формотворного, ріжучого, формування, спосіб, іонно-плазмового, зносостійкого, інструменту, покриття

Формула / Реферат:

1. Спосіб формування зносостійкого іонно-плазмового покриття для ріжучого і формотворного інструменту, який включає обробку виробу пучком іонів титану і алюмінію в середовищі азоту, який відрізняється тим, що багатокомпонентне покриття (Ti-Al-Mo-Cr-V-Si) N утворюють шляхом введення в плазмову фазу іонів молібдену, хрому, ванадію з сплавного титанового катода, а іони кремнію вводять із сплавного алюмінієвого катода.2. Спосіб за п. 1,...

Номер патенту: 90122

Опубліковано: 12.05.2014

Автори: Коваленко Сергій Володимирович, Заяць Юрій Львович, Пшінько Павло Олександрович, Коваленко Валентина Володимирівна

МПК: C23C 14/22, C23C 14/35, C23C 14/34 ...

Мітки: надання, спосіб, напилювання, енергії, катоду, іонно-плазмового, процесі, додаткової

Формула / Реферат:

Спосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилювання, що включає застосування у робочій камері катода, анода, магнітної системи з охолодженням, розпилення матеріалу катода за рахунок бомбардування його атомами газів або їх сумішшю при наданні катоду-мішені додаткової енергії у розрахунок на атом речовини згідно з формулою (0,1-1,1) k Тпл, де Тпл - температура плавлення речовини мішені, K; k=8,625×10-5...

Номер патенту: 84664

Опубліковано: 25.10.2013

Автори: Сагалович Олексій Владиславович, Сагалович Владислав Вікторович

МПК: C23C 14/48

Мітки: сталей, прецизійного, поверхонь, спосіб, сплавів, іонно-плазмового, азотування, avinit

Формула / Реферат:

1. Спосіб іонно-плазмового прецизійного азотування поверхонь сталей і сплавів Avinit Ν, що включає попереднє іонне очищення поверхні з утворенням у міжелектродному просторі плазми, нагрівання поверхні й підтримка її на всіх стадіях обробки, подачу негативного потенціалу на оброблювану деталь, азотування в азотовмісному газі або азоті, який відрізняється тим, що попередньо ініціюють газорозрядну плазму на основі аргону, після витримки в...

Номер патенту: 66973

Опубліковано: 25.01.2012

Автори: Стечишина Надія Мирославівна, Береговий Андрій Іванович, Стечишин Мирослав Степанович

МПК: C23C 8/02

Мітки: азотування, спосіб, низькотемпературного, матеріалів, комбінованого, іонно-плазмового

Формула / Реферат:

Спосіб комбінованого низькотемпературного іонно-плазмового азотування матеріалів, що включає іонно-плазмове азотування в середовищі 75 % об. азоту і 25 % об. аргону при температурах 500...560 °C (нижче точки Ас1), який відрізняється тим, що попередньо проводять термоциклічну обробку "маятниковим" або середньотемпературним способами при швидкостях нагрівання 6,8...8,6 °C/с та оптимальному для кожного виду сталі числі циклів...

Номер патенту: 83263

Опубліковано: 25.06.2008

Автори: Калінушкін Євген Павлович, Коваленко Валентина Володимирівна, Ковтун Володимир Васильович

МПК: C23C 14/22, C23C 14/34, C23C 14/35 ...

Мітки: здійснення, іонно-плазмового, напилювання, варіанти, пристрій, спосіб

Формула / Реферат:

1.Спосіб іонно-плазмового напилювання з одержанням плівок зносостійких і функціональних матеріалів, який включає застосування у робочій камері катода, анода, магнітної системи з охолодженням, розпилення матеріалу катода за рахунок бомбардування його атомами газів або їх сумішшю, який відрізняється тим, що катоду-мішені додають додаткову енергію у розрахунку на атом речовини згідно з формулою: (0,1-1,1)·k·Тпл, де Тпл -...

Номер патенту: 77998

Опубліковано: 15.02.2007

Автори: Дмитрієв Микола Миколайович, Мустяца Олег Никифорович, Золотухін Олександр Віталієвич, Золотухін Олександр Олександрович

МПК: C23C 14/34

Мітки: установка, іонно-плазмового, напилювання

Формула / Реферат:

Установка для іонно-плазмового напилювання, що містить вакуумну камеру з встановленим у ній вертикальним катодом, арматуру для розміщення виробів з нагрівачами, пристрій підпалювання дуги, схему підпалювання дуги, блок опорної напруги, зв'язаний з вертикальним катодом, систему іонного очищення з електродом, відкачувальну вакуумну систему з блоком керування, джерело газів із блоком напуску газів, керований силовий випрямляч, яка відрізняється...

Номер патенту: 77914

Опубліковано: 15.01.2007

Автори: Посвятенко Едуард Карпович, Мустяца Олег Никифорович, Золотухін Олександр Олександрович, Золотухін Олександр Віталієвич, Дмитрієв Микола Миколаєвич

МПК: C23C 14/40, C23C 14/46, C23C 14/32 ...

Мітки: напилювання, спосіб, електропровідних, покриттів, іонно-плазмового

Формула / Реферат:

Спосіб іонно-плазмового напилювання електропровідних покриттів програмованої еластичності, який відрізняється тим, що на вироби подають електронну і іонну частини газової квазінейтральної плазми рознесеними у часі зі сталою частотою, подаючи та змінюючи потенціал опорної напруги на виробах з позитивного на негативний, при цьому за час дії негативного потенціалу на вироби спрямовують іонну частину квазінейтральної плазми, а за час дії...

Номер патенту: 5699

Опубліковано: 15.03.2005

Автори: Литвиненко Володимир Вікторович, Клепіков Вячеслав Федорович, Базалєєв Микола Іванович

МПК: H05H 1/26

Мітки: установка, нанесення, іонно-плазмового, покриттів

Формула / Реферат:

Установка для іонно-плазмового нанесення покриттів у вакуумі, що складається з вакуумної камери, що має штуцери для подачі та відводу інертних газів, підкладинкоутримувача, електродугового джерела плазми, яке включає вмикаюче джерело живлення, підпалюючий пристрій, анод, катод, плазмовід з розташованим на ньому фокусуючим соленоїдом та селектором іонів, містить модулятор - оптично прозорий електрод, охоплений електромагнітною котушкою та...

Номер патенту: 20151

Опубліковано: 25.12.1997

Автор: Пастух Ігор Маркович

МПК: C23C 10/06

Мітки: іонно-плазмового, поверхні, пристрій, спосіб, здійснення, металів, зміцнювання

Формула / Реферат:

1. Способ ионно-плазменного упрочнения поверхности металлов в газовой среде при пониженном давлении и наличии электрического поля между корпусом камеры, выполняющим роль анода, или специальным анодом и обрабатываемым изделием, служащим катодом, отличающийся тем, что процесс ведется в газовой среде, составленной из исходных газообразных компонентов, количество и процентное содержание которых изменяется в зависимости от материала упрочняемых...

Номер патенту: 21351

Опубліковано: 02.12.1997

Автор: Пастух Ігор Маркович

МПК: H01J 37/00, C23C 8/08, C23C 8/06 ...

Мітки: іонно-плазмового, зміцнення, установок, струмоувід

Формула / Реферат:

Токоввод установок ионно-плазменного уп­рочнения, состоящий из корпуса, злектрода, изо-лятора, уплотнителя й злементов затяжки вакуум­ного й злектрическогостнков, отличающийся тем, что корпус токоввода установлен в рубашку водя­ного охлаждения камери, а в непосредственной близости от него находится входной или внходной патрубок системи охлаждения.

Номер патенту: 6722

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Хоменко Павло Хомич, Трипута Геннадій Олександрович, Кругленко Михайло Петрович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: C23C 14/32

Мітки: матеріалів, травлення, іонно-плазмового, пристрій

Формула / Реферат:

(57) Устройство для ионно-плазменного травления материалов, содержащее вакуумную камеру, у торцов которой по оси камеры размещены плоские электроды, на одном из которых размещено обрабатываемое изделие, электроды подключены к источникам высокочастотного напряжения и разделены заземленным сетчатым экраном, отличающееся тем, что оно снабжено электромагнитной катушкой, расположенной соосно с камерой со стороны электрода, противолежащего...