H05H 1/26 — плазмові пальники

Номер патенту: 46887

Опубліковано: 17.06.2002

Автори: Задніпровський Юрій Олексійович, Аксьонов Іван Іванович, Білоус Віталій Арсентійович, Овчаренко Валерій Давидович, Ломіно Микола Степанович

МПК: H05H 1/26, C23C 4/00

Мітки: джерело, плазми, вакуумно-дугове

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дугове джерело плазми, що містить циліндричний катод з торцевою робочою поверхнею, коаксіальний з катодом трубчастий анод, соленоїд на зовнішній поверхні анода, підпалюючий пристрій поблизу бокової поверхні катода, екрануючий циліндричний електрод між катодом та анодом і вузол стикування з вакуумною камерою, яке відрізняється тим, що торцева робоча поверхня катода зміщена усередину анода відносно до його вихідного отвору на...

Номер патенту: 46097

Опубліковано: 15.05.2002

Автори: Карпєнко Євгєній Івановіч, Пєрєгудов Валєнтін Сєргєєвіч, Буянтуєв Сєргєй Лубсановіч, Мєссєрлє Владімір Єфрємовіч

МПК: H05B 7/18, C10L 11/00, H05H 1/26 ...

Мітки: котла, пиловугільного, безмазутного, розпалювання, установка

Формула / Реферат:

1. Установка для безмазутного розпалювання пиловугільного котла, яка має у своєму складі муфелізовану камеру термопідготовки палива з розміщеним на її боковій поверхні патрубком, в якому встановлено струминний плазмотрон, який містить внутрішній електрод з циліндричним плазменним каналом, вихідний електрод-сопло, який має плазменний канал, що складається з циліндричної...

Номер патенту: 44800

Опубліковано: 15.03.2002

Автор: Даньєл Джозеф Аллен

МПК: H05H 1/26, B23K 10/00

Мітки: пристрій, варіанти, пристроєм, спосіб, плазмовий, керування, плазмовим

Формула / Реферат:

1. Плазмовий пристрій, що містить електрод і сопло з отвором для плазмової дуги, який робить указаний електрод відкритим для деталі, що обробляється, і має вхідний трансформатор з колом первинної обмотки і колом вторинної обмотки, перший схемний засіб, зв'язаний з вказаним колом вторинної обмотки, для створення допоміжної дуги між указаним електродом і соплом, другий схемний засіб, зв'язаний з вказаним колом вторинної обмотки, для створення...

Номер патенту: 44842

Опубліковано: 15.03.2002

Автори: Хороших Володимир Максимович, Леонов Сергій Олександрович, Білоус Віталій Арсентійович

МПК: H05H 1/26

Мітки: плазми, джерело, електродугове

Формула / Реферат:

Електродугове джерело плазми, що містить запалювальний пристрій, розташовані на одній осі катод, трубчатий анод, розміщений зовні анода двосекційний фокусуючий соленоїд, між секціями якого розташований відхиляючий соленоїд, розташований усередині джерела екрануючий електрод у вигляді диска з немагнітного матеріалу, який перекриває зону оптичної видимості вихідного отвору анода з робочої поверхні катода, яке відрізняється тим, що усередині...

Номер патенту: 22032

Опубліковано: 07.06.1999

Автори: Жмендак Андрій Васильович, Мудрецька Євгенія Володимирівна, Нєдоспасов Артур Владіміровіч

МПК: H05H 1/00, H05H 1/26

Мітки: літію, іонів, плазмохімічних, пристрій, проведення, реакцій, участю

Формула / Реферат:

1. Пристрій для проведення плазмохімічних реакцій за участю іонів літію, включаючий розрядну трубку з електродами на кінцях, розміщену в зовнішнє магнітне поле, створене електромагнітною котушкою, причому електроди та покриття стінок розрядної трубки містять елементи, які вступають в реакції, який відрізняється тим, що електромагнітна котушка, яка створює зовнішнє магнітне поле, має конфігурацію топологічно еквівалентну тору із змінним кроком...

Номер патенту: 21980

Опубліковано: 30.04.1998

Автор: Веремійченко Георгій Микитович

МПК: H05H 1/26, C23C 16/26

Мітки: пристрій, вакуумі, містить, покриття, вуглець, нанесення, собі

Формула / Реферат:

Устройство нанесення углеродосодержащих покритий в вакууме, содержащее вакуумную ка­меру с размещенными в ней разрядными злектро-дами в виде подложки й накаленной вольфрамовой нити, источники питання, газовую систему, отличающееся тем, что в вакуумную камеру введено сверхзвуковое сопло Лаваля, с дозвуковой частью которого соединен вмход газовой системи, а воль­фрамовая нить, размещенная за виходным срезом сопла, заключена в зкран, имеющий...

Номер патенту: 11901

Опубліковано: 25.12.1996

Автор: Гончар Микола Іванович

МПК: H05B 7/22, H05H 1/26

Мітки: газового, спосіб, захисту, плазмотрону, камери, розрядної, стінок

Формула / Реферат:

Способ газовой защиты стенок разрядной ка­меры плазмотрона с осевым вводом порошкового обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру защитный газ кольцевым пря­моточным потоком, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона, подают за­щитный газ под углом а к направлению ввода об­рабатываемого материала, причем угол выбран в пределах 20° < а < 160°.

Номер патенту: 8109

Опубліковано: 26.12.1995

Автори: Кабан Василь Прокопович, Пащенко Валерій Миколайович, Петров Станіслав Володимирович, Карп Ігор Миколайович, Волков Ігор Володимирович, Губаревич Володимир Миколайович

МПК: H05B 7/18, H05H 1/26

Мітки: спосіб, струму, постійного, запуску, плазмового, паяльніка

Формула / Реферат:

Способ запуска плазменной горелки посто­янного тока, при котором пробивают межэлектрод­ный промежуток высоким напряжением осциллятора, подключают маломощный источник питания для поджига дуги, а затем подключают ос­новной источник питания с комбинированной вольт-амперной характеристикой, имеющей участки стабилизации тока и напряжения, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности запуска горелки постоянного тока, измеряют напряжение на...

Номер патенту: 898

Опубліковано: 15.12.1993

Автори: Ониськова Ольга Василівна, Ющенко Костянтин Андрійович, Борисов Юрій Сергійович, Петров Станіслав Володимирович, Карп Ігор Миколайович

МПК: H05H 1/26, B23K 10/00

Мітки: hадзвуковий, плазмотроh, електродуговий

Формула / Реферат:

1. Сверхзвуковой электродуговой плазмотрон, содержащий камеру с закрепленным в ее торце осевым катодом, электроизолированную межэлектродную вставку с центральным каналом, сопло-анод с отверстием для ввода напыляемого порошка в его стенке, два завихрителя, один из которых расположен вблизи сопла, а другой - вблизи катода, а также две полости, одна из которых расположена у входного отверстия сопла, а другая - в зоне торца катода, отличающийся...