Спосіб нанесення покрить у вакуумі

ДЛЯ СЛУЖЕБНОГО ПОЛЬЗОВАНИЯ ЭКЗ. № СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСЛУБЛИН (5D4 С 23 С 14/00 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИИ ОПИСАНИ (21) 4069105/24-21 (22) 19.02.86 -Ji !? 7 , [ (71) Львовский государственный университет им. Ив,Франко и Специальное конструкторское технологическое : бюро Львовского производственного объединения "Ювелирпром" . (72) А,Г.Мнколайчук9 С.П.Яцишин, . . А.С.Байцар и Б»П.Яцишин (53) 621.793.14(088.8) (56) Технология тонких пленок^/Под ред» Л.Майселла и Р.Глэнга, справочник.М.: Сов.радио, 1977, с.125. . Цостанко А.П., Пикуль М.И,, Чистяков Ю.Д. и др. Некоторые свойства алюминиевых пленок, получаемых конденсацией в постоянном электрическом поле * - Электронная обработка материалов. № 2, 1975, с.57-59» 45-88 (54) СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ (57) Изобретение может быть использовано в микроэлектронике при производстве интегральных схем. Цель изобретения - повышение качества покрытий за счет снижения примесей, В пространстве между испарителем 4 и подложкой 3 формируют электронное облако. Последнее получают за счет осцилляции электронов около положительно' заряженной сетки 6, размещаемой между испарителем 4 и подложкой 3, Это нейтрализует положительные ионы испаряемого металла и устраняет взаимодействие ионов металла с отрицательными ионами кислорода и других загрязнений. 2 ил, . ФШ1 1 443451 2 Изобретение относится к области П р и м е р . Проводящие покрытия нанесения покрытий, в частности к наносят в вакууме. Технологический способам получения тонких метапличесобъем откачивают до высокого вакуума, ких и полупроводниковых пленок, и после чего на сетку подают высокое может быть использовано в микроэлекнапряжение (+3 кВ) и осуществляют натронике при производстве интегральных несение покрытий в объеме с распресхем. делением потенциала, показанного на ф и г . 2 . При этом положительные ионы Целью изобретения является повышеиспаряемого материала, образующиеся в ние качества покрытий за счет сниto результате термической ионизации, жения примесей. нейтрализуются ускоренными электроСущность изобретения заключается нами, образованными в результате терв том, что в пространстве между испамоэлектронной эмиссии с испарителя, рителем и подложкой формируют элекосциллирующими около положительно тронное облако за счет осцилляции 15 заряженной сетки высокой прозрачносэлектронов около положительно зарят и . Внешнее электрическое поле сниженной сетки, размещаемой между испажает энергию взаимодействия ионов с рителем и подложкой, это нейтраадсорбированными атомами в нескольлизует положительные ионы испаряемого металла и устраняет взаимодействие 20 ионов металла с отрицательными ионами кислорода и других загрязнений, Вследствие этого наносимое покрытие обладает повышенной чистотой по неметаллическим примесям, что повышает 25 качество покрытий» На фиг Л схематично показано устройство, с помощью которого осуществлялось нанесение сплава Fe-Ge дискретным методом испарения; на фиг,2 по- JQ казано распределение потенциала. Устройство для нанесения покрытий содержит электроды-пластины 1 и 2, размещенные за подложкой 3 и испари35 телем 4,подключенные к отрицательному полюсу высоковольтного источника 5. Положительный электрод 6, выполненный в виде крупноячеистой сетки, размещен посредине между подложкой 3 и испарителем 4 . Вибробункер 7 служит .для подачи порошкового материала на разогретый испаритель 4 . к о Р а з і ч т о повышает чистоту конденсирующихся пленок. Гонкие пленки, осаждаемые в электрическом поле, с о з данном посредством трех электродов, обладают повышенным качеством, что выражается снижением температуры п е рехода из аморфного в кристаллическое состояние по сравнению с пленками, полученными в продольном" электрическом поле. Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я Способ нанесения покрытий в в а кууме, включающий испарение и конденсацию паров наносимого металла в продольном электрическом поле в пространстве между испарителем и подложкой, о т л и ч а ю щ и й с я тем, ч т о , с целью повышения качества покрытий за счет снижения примесей, в пространстве между испарителем и подложкой создают градиент электрического поля путем введения положительно заряженной с е т к и . 144345 -Электрод -Подложно Электрод — I, -. — Электрод Фиг. Z Редактор И, Шубина Составитель С.Мирошкин Техред М.Дидык Корректор О.Кравцова. Заказ 1379/ДСП Тираж 682 Подписное В И П Государственного комитета СССР НИИ по делам изобретений и открытий 113035» Москва, Ж-35, Раушская наб, , д . 4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г . Ужгород, ул. Проектная, 4