Іонно-плазмова установка
Номер патенту: 93471
Опубліковано: 10.02.2011
Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Гринюк Станіслав Іванович
Формула / Реферат
Іонно-плазмова установка для нанесення біметалевих покриттів з періодичною шаруватою структурою, що містить вакуумну камеру з системою вакуумної відкачки, трубки для подачі газу, карусельний тримач виробів, два прямокутні магнетронні розпилювачі з системою електричного живлення, що містить струмовідводи, джерело живлення магнетронного розряду і джерело напруги зміщення з пристроєм синхронізації системи живлення, яка відрізняється тим, що використано два магнетронні розпилювачі радіального типу, які змонтовано в вакуумній камері співвісно з можливістю регулювання відстані між ними, причому катоди магнетронних розпилювачів виготовлені з різних металів і мають конічну форму з зустрічною орієнтацією конусних вершин, внутрішні магнітні полюси магнетронних розпилювачів мають протилежну полярність, а аноди магнетронних розпилювачів змонтовано з боку менших основ конічних катодів, струмопідводи до анодів виконано через трубки для подачі газу, які змонтовано на осі магнетронних розпилювачів, джерело живлення магнетронного розряду системи електричного живлення підключене до магнетронних розпилювачів через додатково передбачений комутатор, а карусельний тримач виробів виконаний із можливістю виконання змінного діаметра монтажної поверхні і зворотно-поступального переміщення відносно осі обертання.
Текст
Іонно-плазмова установка для нанесення біметалевих покриттів з періодичною шаруватою структурою, що містить вакуумну камеру з системою вакуумної відкачки, трубки для подачі газу, карусельний тримач виробів, два прямокутні магнетронні розпилювачі з системою електричного живлення, що містить струмовідводи, джерело живлення магнетронного розряду і джерело напру C2 1 3 безпечує подальше підвищення продуктивності процесу при зниженні термічного навантаження на поверхню, що оброблюється. Магнетронна технологія нанесення покриттів дозволяє формувати двофазні покриття з періодичною наноструктурою, що відрізняються значною твердістю і високими декоративними якостями. На цей час розроблено зносостійкі і декоративні багатошарові біметалеві покриття з періодичною наноструктурою [4], які мають необхідні фізикомеханічні і декоративні характеристики і можуть бути використані для покращання показників призначення ряду технічних і побутових виробів. Показники якості цих покриттів перевищують аналогічні показники гальванічних покриттів з хрому і нікелю, а також одношарових покриттів з нітридів і карбідів перехідних металів. Такі покриття уявляють собою періодичну структуру шарів рівної товщини (
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюIon-plasma plant
Автори англійськоюHryshkevych Oleksandr Dmytrovych, Hryniuk Stanislav Ivanovych
Назва патенту російськоюИонно-плазменная установка
Автори російськоюГришкевич Александр Дмитриевич, Гринюк Станислав Иванович
МПК / Мітки
МПК: C23C 14/56, C23C 14/35
Мітки: іонно-плазмова, установка
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/5-93471-ionno-plazmova-ustanovka.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Іонно-плазмова установка</a>
Установка для нанесення нанометричних покриттів з періодичною структурою
Номер патенту: 38846
Опубліковано: 26.01.2009
Автори: Кучугурний Юрій Петрович, Гришкевич Олександр Дмитрович
МПК: C23C 14/00
Мітки: структурою, установка, нанометричних, нанесення, покриттів, періодичною
Формула / Реферат:
Установка для нанесення нанометричних покриттів з періодичною структурою на зовнішню поверхню виробів циліндричної форми, що включає вакуумну камеру з системами вакуумного відкачування, напуску і регулювання тиску робочих газів, співвісну з вакуумною камерою систему транспортування оброблюваних виробів через робочу зону магнетронних розпилювачів з катодами, що виготовлені з різних металів, яка відрізняється тим, що містить два магнетронні...
Установка для іонно-плазмового нанесення покриттів
Номер патенту: 5699
Опубліковано: 15.03.2005
Автори: Литвиненко Володимир Вікторович, Базалєєв Микола Іванович, Клепіков Вячеслав Федорович
МПК: H05H 1/26
Мітки: покриттів, нанесення, установка, іонно-плазмового
Формула / Реферат:
Установка для іонно-плазмового нанесення покриттів у вакуумі, що складається з вакуумної камери, що має штуцери для подачі та відводу інертних газів, підкладинкоутримувача, електродугового джерела плазми, яке включає вмикаюче джерело живлення, підпалюючий пристрій, анод, катод, плазмовід з розташованим на ньому фокусуючим соленоїдом та селектором іонів, містить модулятор - оптично прозорий електрод, охоплений електромагнітною котушкою та...
Мобільна плазмова установка
Номер патенту: 60608
Опубліковано: 15.10.2003
Автор: Чугунов Леонід Федорович
МПК: B60P 1/00, B23K 10/00
Мітки: мобільна, плазмова, установка
Формула / Реферат:
Мобільна плазмова установка, що містить джерело живлення для плазмотрона і систему охолодження та одержання і подання стислого повітря, яка відрізняється тим, що на пересувному візку установлений дизель-генератор для переміщення візка, зарядження акумуляторних батарей та живлення плазмотронів, компресора повітряної системи, насоса системи охолодження, а також керування роботою плазмотронів та допоміжних систем.
Установка для іонно-плазмового напилювання
Номер патенту: 77998
Опубліковано: 15.02.2007
Автори: Дмитрієв Микола Миколайович, Золотухін Олександр Віталієвич, Мустяца Олег Никифорович, Золотухін Олександр Олександрович
МПК: C23C 14/34
Мітки: іонно-плазмового, напилювання, установка
Формула / Реферат:
Установка для іонно-плазмового напилювання, що містить вакуумну камеру з встановленим у ній вертикальним катодом, арматуру для розміщення виробів з нагрівачами, пристрій підпалювання дуги, схему підпалювання дуги, блок опорної напруги, зв'язаний з вертикальним катодом, систему іонного очищення з електродом, відкачувальну вакуумну систему з блоком керування, джерело газів із блоком напуску газів, керований силовий випрямляч, яка відрізняється...
Плазмова хірургічна установка
Номер патенту: 30520
Опубліковано: 15.10.2002
Автори: Доброгорський Віктор Антонович, Сергійчук Борис Васильович, Драновський Володимир Йосипович, Григор'єв Владислав Михайлович, Котелевець Микола Савич, Аніщенко Вячеслав Михайлович, Комеко Єгор Микитович, Кириченко Вікторія Григорівна
МПК: A61B 18/04
Мітки: установка, хірургічна, плазмова
Формула / Реферат:
Плазмова хірургічна установка, що містить корпус, плазмотрон з системою управління, системою рідинного охолодження і системою постачання газу, яка складається з послідовно установлених вхідного штуцера, ротаметра та электропневмоклапана, зовнішній газовий балон з перекривним вентилем та редуктором тиску, з'єднаний з вхідним штуцером пневмомагістраллю, яка відрізняється тим, що всередині корпуса, в системі постачання газу, за вхідним штуцером...
Попередній патент: Гель для ремінералізації тканин зубів
Наступний патент: Спосіб функціонування пристрою активації радіомаяків при пошуку постраждалих під завалами
Випадковий патент: Елемент насадки масообмінного апарата