Ранкулі Гілберт
Кристалізатор та спосіб для виробництва монокристалічної напівпровідникової заготовки
Номер патенту: 112879
Опубліковано: 10.11.2016
Автори: Мартен Крістіан, Ранкулі Гілберт
МПК: C30B 11/14, C30B 11/00, C30B 29/06 ...
Мітки: виробництва, кристалізатор, спосіб, монокристалічної, заготовки, напівпровідникової
Формула / Реферат:
1. Кристалізатор (1) для виготовлення заготовок з кристалічного напівпровідникового матеріалу, такого як кремній, причому зазначений кристалізатор має периферійні бокові стінки (1b) та дно (1а), і принаймні частина вищезгаданого дна є вкритою верхнім шаром (2), який відрізняється тим, що вищезгаданий верхній шар (2) має товщину δ принаймні 500 мкм і при температурі деформації, нижчій за 1400 °C, вищезгаданий верхній шар здатен до...
Кристалізатор для виробництва кристалічних напівпровідникових заготовок та спосіб його виготовлення
Номер патенту: 111753
Опубліковано: 10.06.2016
Автори: Дюбуа Лоран, Мартен Крістіан, Ранкулі Гілберт
МПК: C30B 11/00, C30B 28/06, C30B 11/14 ...
Мітки: спосіб, виробництва, заготовок, напівпровідникових, кристалізатор, кристалічних, виготовлення
Формула / Реферат:
1. Кристалізатор (1) для виробництва кристалічних напівпровідникових заготовок, що включає внутрішній об'єм, який обмежується дном (1а), верхня поверхня якого включає плоску частину, яка утворює першу горизонтальну площину (Н), та периферійними боковими стінками (1b), кожна з яких має внутрішню поверхню, яка включає по суті вертикальну плоску частину, яка утворює по суті вертикальну площину (V), перпендикулярну першій горизонтальній площині...
Тигель для обробки розплавленого кремнію, спосіб його виробництва та застосування
Номер патенту: 89717
Опубліковано: 25.02.2010
Автор: Ранкулі Гілберт
МПК: C04B 35/565, C30B 11/00, C04B 35/00 ...
Мітки: кремнію, тигель, застосування, спосіб, обробки, виробництва, розплавленого
Формула / Реферат:
1. Тигель для обробки розплавленого кремнію, який відрізняється тим, що включає основний корпус з нижньою поверхнею та боковими стінками, які обмежують внутрішній об'єм, основний корпус містить:- принаймні 65 мас. % карбіду кремнію,- від 12 до 30 мас. % складової, вибраної з оксиду або нітриду кремнію, причому основний корпус також включає принаймні одне покриття з оксиду кремнію та/або нітриду кремнію, принаймні на...
Тигель для кристалізації кремнію та спосіб його виготовлення
Номер патенту: 89284
Опубліковано: 11.01.2010
Автор: Ранкулі Гілберт
МПК: C30B 11/00, B22D 41/02, C04B 35/584 ...
Мітки: тигель, кремнію, виготовлення, спосіб, кристалізації
Формула / Реферат:
1. Тигель (1) для кристалізації кремнію, який включаєa) основний корпус (2), який включає нижню поверхню (21) та бокові стінки (22), які обмежують внутрішній об'єм;b) захисне покриття на основі нітриду кремнію (3), спрямоване до внутрішнього об'єму;причому вищезгадане захисне покриття (3) містить від 80 до 95 мас. % нітриду кремнію, від 5 до 20 мас. % низькотемпературної мінеральної зв'язувальної речовини, загальний...
Тигель для кристалізації кремнію та спосіб його виготовлення
Номер патенту: 88964
Опубліковано: 10.12.2009
Автор: Ранкулі Гілберт
МПК: C04B 35/14, B22D 41/02, C01B 33/021 ...
Мітки: тигель, кристалізації, спосіб, виготовлення, кремнію
Формула / Реферат:
1. Тигель (1) для кристалізації кремнію, який включаєa) основний корпус (2), який включає нижню поверхню (21) та бокові стінки (22), які обмежують внутрішній об'єм;b) шар підкладки (25), який включає від 80 до 100 мас. % нітриду кремнію на поверхні бокових стінок (22), спрямованій до внутрішнього об'єму;c) проміжний шар (3), який включає від 50 до 100 мас. % кремнезему над шаром підкладки (25); таd) поверхневий шар...
Кристалізатор для кристалізації кремнію та спосіб його виготовлення
Номер патенту: 87842
Опубліковано: 25.08.2009
Автор: Ранкулі Гілберт
МПК: C30B 15/10
Мітки: спосіб, виготовлення, кристалізації, кремнію, кристалізатор
Формула / Реферат:
1. Кристалізатор (1) для кристалізації кремнію, який міститьа) основну частину (2), яка містить нижню поверхню (21) та бокові стінки (22), які визначають внутрішній об'єм,б) проміжний шар (3), який містить від 50 до 100 мас. % кремнезему на поверхні бокових стінок (22), повернутих до внутрішнього об'єму, ів) поверхневий шар (4), який містить від 50 до 100 мас. % нітриду кремнію, до 50 мас. % діоксиду кремнію і до 20 мас....