Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Способ обработки электродов термоэмиссион­ного преобразователя, изготовленных из монокри­сталлического вольфрама с ориентацией рабочей поверхности по грани [110], включающий обезуг­лероживание и прогрев в сверхвысоком вакууме, отличающийся тем, что, с целью повышения ста­бильности эмиссионных свойств в парах цезия, обезуглероживание осуществляют до получения объемной концентрации углерода              1•10-3-1-10-5 мас.%, а прогрев проводят в течение 1 -2 ч при 2350 - 2400 К для коллектора и 2800 - 3000 К для эмиттера.

Текст

Oi ,s bjt*i • .OtJAf ДЛЯ СЛУЖЕБНО осоі: я ОІПЬЗОВАНИЯ ЭКЗ. № Б. К- 19 СОЮЗ СОВЕТСНИХ РЄСПУБЛИН ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ ОПИСАНИЕ И К (21) 3857567/24-21 (22) 22.02.85 1У : (71) Институт металлофизики АН УССР (72) И.Я. Дехтяр, М.В. Мельников, В.И. Патока, В.И. Силантьев, Н.А. Шевченко, Б.П. Вараксин и А.С. Титков (53) 621.362(088.8) (56) Вараксин Б.П., Титков А.С. Экспериментальное исследование ТЭП в дуговом режиме с различными вольфрамовыми эмиттерами. Ж.Т.Ф., т. 46, Е.8. 1976, с. 1665-1669. Савицкий Е.Н., Бурханов Г.С. Монокристаллы тугоплавких и редких • металлов и сплавов. М.: Наука, 1972,• с. 217 (прототип). (54) СНОСОВ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОДОВ ТЕРМОЭМИССИОНПОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ (57) Изобретение относится к области вакуумно-термической обработки тугоплавких металлов и может быть использовано для эффективных электродов эмиттера и коллектора. Цель изобретения - повышение эмиссионных свойств в парах цезия- Электроды в виде дисков из монокрнсталлическо то вольфрама с ориентацией рабочей поверхности по грани [ 110} нагрева" лись в сверхвысоком вакууме в диапазоне температур 1400-3000 К с тагом 100-200° и выдерживались в течение 1 ч. Для коллектора нагрев проводился до 2350-2400К, а эмиттера - цб 2800-ЗОООК. Доведение концентрации углерода в монокристалле вольфрама до 1 -*10'3-1 • 10~s мас.% ; обеспечивает минимальную порядке ^мик= 1|ЗэВ, работу выхода углерода в парах цезия. 1 1292656 Изобретение откосится к области характеризующие поверхность: вакуумп • F\ (МЄТОДОМ КиН" вакуумно-термической обработки тугоЗОС' плавких металлов и может быть истактной разности потенциалов), отрапользовано для эффективных электрожение медленных электронов от подов эмиттера и коллектора из моноверхности (спектры полного тока СПТ), кристаллов вольфрама [1103 для термокоторое очень чувствительно к измеэмиссионных преобразователей теплонению состояния поверхности, а таквой энергии в электрическую. же зависимость работы выхода и теплоты адсорбции от концентрации цеЦелью изобретения является повы10 зия на поверхности. шение эмиссионных свойств в парах цезия. С этой целью концентрацию углерода в монокристалле вольфрама Самая минимальная работа выхода доводят до 1 10~3 -1 -10"5 мас.% и поверхности грани I 1 10 / W ] при попрогревают в течение 1-2 ч при 2350\5 следующей адсорбции цезия (1,3 эВ) 2400 К для коллектора и 2800-3000К была получена после прогрева при для эмиттера. 2370 К. Вакуумная работа выхода Выбранный интервал температуры после такой обработки составила эмиттера обеспечивает распад твердо5,05-5,08 эВ. Последующий нагрев го раствора углерода в вольфраме с при 2350 К и 2400 К в течение 1 ч выделением карбидной фазы N С, в ре'не привел к изменению ifo и вида зультате чего поверхность частично спектров полного тока. Более длиочищается от углерода и ее теплота тельный нагрев при 2400 К в течение адсорбции для цезия становится такой 10 ч также не привел к изменению же, как на чистой поверхности. свойств поверхности и Y M V 1 H в парах 25 Время нагрева 1-2 ч необходимо цезия. для растворения частиц карбидной Испытания в термоэмиссионном фазы и образования твердого раствора преобразователе показали, что предвауглерода. рительный нагрев эмиттера из грани Интервал нагрева коллектора обес30 [110 W] при 2800 К значительно увепечивает создание на поверхности личивает адсорбционное взаимодейстоптимальной концентрации углерода, вие атомов цезия с поверхностью. при которой в парах цезия достигается минимальная работа выхода Ч = Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я = 1,ЗэВ. 35 П р и м е р . Из монокристалла Способ обработки электродов термоэмиссионного преобразователя, извольфрама, в котором содержание угготовленных из монокристаллического лерода доведено до 1-Ю" 3 мас.%, извольфрама с ориентацией рабочей поготавливались электроды электроисверхности по грани [ 110], включаю- • кровым способом в виде дисков диаметром 10 мм и толщиной 2,5 мм с ориен- 40 щий обезуглероживание и прогрев в сверхвысоком вакууме, о т л и ч а ютацией рабочей поверхности по грани щ и й с я тем, что, с целью повы[1103. Эти электроды обрабатывались шения стабильности эмиссионных путем их нагрева в сверхвысоком свойств в парах цезия, обезуглероживакууме в диапазоне температур 140045 вание осуществляют до получения 3000 К с шагом 100-200 и изотермиобъемной концентрации углерода ческой выдержкой в течение 1 ч. ї-10~3- 1

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Treatment method for electrodes of thermionic electron emitter

Автори англійською

Dekhtiar Illia Yakovych, Melnykov Mykhailo Vasyliovych, Patoka Viktor Ivanovych, Sylantiev Vladylen Ivanovych, Shevchenko Mykola Yakymovych, Varaksin Borys Petrovych, Titkov Oleksii Semenovych

Назва патенту російською

Способ обработки электродов термоэмиссионного преобразователя

Автори російською

Дехтяр Илья Яковлевич, Мельников Михаил Васильевич, Патока Виктор Иванович, Силантьев Владилен Иванович, Шевченко Николай Акимович, Вараксин Борис Петрович, Титков Алексей Семенович

МПК / Мітки

МПК: H01J 45/00

Мітки: термоемісійного, обробки, спосіб, перетворювача, електродів

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-5248-sposib-obrobki-elektrodiv-termoemisijjnogo-peretvoryuvacha.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб обробки електродів термоемісійного перетворювача</a>

Подібні патенти