Семенюк Валерій Федорович

Номер патенту: 119746

Опубліковано: 10.10.2017

Автори: Веремійченко Георгій Микитович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: H01M 4/04, H01M 4/58

Мітки: літій-іонне, струму, джерело

Формула / Реферат:

1. Літій-іонне джерело струму, яке містить катодний колектор струму, на якому розташований катод, який контактує з сепаратором, композитний анод та анодний колектор струму, яке відрізняється тим, що композитний анод виконаний у вигляді багатошарової плівкової системи, яка складається з щонайменше одного двошарового компонента, шари якого містять однакові елементи, мають різну структуру та повторюються, при цьому елементами, з яких...

Номер патенту: 105520

Опубліковано: 25.03.2016

Автори: Веремійченко Георгій Микитович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: H01G 9/00

Мітки: спосіб, електричним, електрода, одержання, конденсаторів, подвійним, шаром

Формула / Реферат:

1. Спосіб одержання електрода для конденсаторів з подвійним електричним шаром на основі електродної алюмінієвої фольги, що включає в себе нанесення в вакуумній камері титану способом фізичного парового осадження при безпосередньому переміщенні фольги та подачі суміші робочих газів в зону осадження титану, який відрізняється тим, що поверхню електродної фольги спочатку обробляють спрямованим потоком плазми геліконного розряду з щільністю іонів...

Номер патенту: 93531

Опубліковано: 10.10.2014

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Веремійченко Георгій Микитович

МПК: H01L 21/00, C23C 14/34

Мітки: резонаторами, плазмовими, аксіальними, пристрій

Формула / Реферат:

1. Плазмовий технологічний пристрій, що містить вакуумну камеру з системою напуску та контролю газів, в верхній частині якої вісесиметрично розташоване діелектричне вікно з антеною, яка з'єднана з ВЧ генератором через пристрій узгодження, в нижній частині камери розташований тримач з підкладкою, з можливістю підключення до джерела живлення, ззовні камера охоплена магнітною системою з двох соленоїдальних елементів, який відрізняється тим, що в...

Номер патенту: 91107

Опубліковано: 25.06.2014

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Веремійченко Георгій Микитович

МПК: C23C 14/34, H01L 21/00

Мітки: перестрійним, технологічний, резонатором, плазмовий, пристрій

Формула / Реферат:

1. Плазмовий технологічний пристрій з перестрійним резонатором, що містить вакуумну камеру з системою напуску та контролю газів, в верхній частині якої вісесиметрично розташоване діелектричне вікно з антеною, яка з'єднана з ВЧ генератором через пристрій узгодження, в нижній частині камери розташований тримач з підкладинкою, що може бути підключений до джерела живлення, ззовні камера охоплена магнітною системою з соленоїдальних елементів,...

Номер патенту: 88045

Опубліковано: 25.02.2014

Автори: Веремійченко Георгій Микитович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: A01K 47/02

Мітки: вулик, внутрішнім, теплообміном

Формула / Реферат:

1. Вулик з внутрішнім теплообміном, що містить в собі двостінний корпус, льоток, вуликові рамки, стелини, знімне дно та дах, який відрізняється тим, що внутрішні вертикальні стінки корпусу виконані із теплопровідного матеріалу, призначеного для контакту з харчовими продуктами, а товщина стінки  визначається за допомогою співвідношення:

Номер патенту: 87747

Опубліковано: 25.02.2014

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Веремійченко Георгій Микитович, Руденко Едуард Михайлович, Сологуб Вадім Алєксандровіч, Короташ Ігор Васильович, Одіноков Вадім Васільєвіч, Павлов Гєоргій Яковлєвіч

МПК: C23C 14/34

Мітки: пристрій, плівкових, плазмовий, багатошарових, нанесення, покриттів

Формула / Реферат:

1. Плазмовий пристрій нанесення багатошарових плівкових покриттів, що містить технологічну вакуумну камеру із засобами відкачування та систему напуску і дозування технологічного газу, два чи більше розміщених вертикально по периферії камери дугових джерел матеріалів, що наносяться, з джерелами живлення, столик з підкладкою, який розташований горизонтально та вісесиметрично в нижній частині камери, і магнітну систему, який відрізняється тим,...

Номер патенту: 87745

Опубліковано: 25.02.2014

Автори: Павлов Гєоргій Яковлєвіч, Одіноков Вадім Васільєвіч, Руденко Едуард Михайлович, Короташ Ігор Васильович, Семенюк Валерій Федорович, Сологуб Вадім Алєксандровіч

МПК: H05H 1/100, H01L 21/00

Мітки: системою, плазмовий, реактор, магнітною

Формула / Реферат:

1. Плазмовий реактор, що містить в собі вакуумну камеру з засобами відкачування, системою подавання та дозування технологічних газів, радіально симетрично закріпленими зовні зверху електродами для збудження розрядів індукційним або ємнісним засобами і які електрично з'єднані з ВЧ генераторами, столик з підкладинкою, який розміщений вісесиметрично всередині камери і протилежно до зазначених вище електродів і також з'єднаний з окремим ВЧ...

Номер патенту: 86943

Опубліковано: 10.01.2014

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Веремійченко Георгій Микитович

МПК: C23C 14/00

Мітки: багатошарових, покриттів, багатокомпонентних, пристрій, одержання

Формула / Реферат:

1. Пристрій для формування багатокомпонентних та багатошарових покриттів, який містить в собі технологічну вакуумну камеру з плазмово-дуговим джерелом та джерелом газової плазми, тримач з підкладинкою, розташований вісесиметрично до джерела газової плазми, систему напуску та контролю технологічних газів, джерела живлення та засоби відкачування, який відрізняється тим, що плазмово-дугові джерела містять в собі магнітні системи з трьома...

Номер патенту: 86105

Опубліковано: 10.12.2013

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Веремійченко Георгій Микитович

МПК: C23C 14/00

Мітки: плазмово-дуговий, покриттів, формування, пристрій

Формула / Реферат:

1. Плазмово-дуговий пристрій формування покриттів, що містить в собі вакуумну камеру, в якій осесиметрично послідовно розташовані осесиметричний катод з електропровідного матеріалу, анод, який охоплює катод, екрануючий електрод, який розміщений між катодом та анодом, магнітна система, що складається з двох послідовно розташованих соленоїдальних елементів, тримач підкладинки та джерела живлення, який відрізняється тим, що магнітна система...

Номер патенту: 83706

Опубліковано: 25.09.2013

Автор: Семенюк Валерій Федорович

МПК: A01K 47/00

Мітки: двосімейного, спосіб, утримання, бджіл

Формула / Реферат:

1.Спосіб двосімейного утримання бджіл, що містить в собі розташування основної сім'ї та нуклеуса для додаткової сім'ї-помічниці через глуху перегородку в одному вулику для зимівлі, просторове розмежування розплідних гнізд сімей перед початком медозбірного періоду, використання під час медозбору додаткової сім'ї-помічниці для нарощування додаткового резерву бджіл та розплоду для основної сім'ї, який відрізняється тим, що при зимівлі основна...

Номер патенту: 83705

Опубліковано: 25.09.2013

Автор: Семенюк Валерій Федорович

МПК: A01K 47/02

Мітки: вуликова, універсальна, рамка

Формула / Реферат:

1. Універсальна вуликова рамка, що містить в собі верхню, нижню та бокові планки, між якими знаходиться стільник з вощиною та з комірками для виведення розплоду і створення запасів корму з можливістю переходу бджіл на рамки суміжного верхнього корпусу вулика при багатокорпусному утриманні бджіл, яка відрізняється тим, що рамка складається з двох з'єднаних площинами кутників з утвореним ребром жорсткості товщиною, що не перевищує товщини...

Номер патенту: 81497

Опубліковано: 25.06.2013

Автор: Семенюк Валерій Федорович

МПК: A01K 47/06, A01K 47/00

Мітки: бджолиній, вулик

Формула / Реферат:

1. Бджолиний вулик, що зокрема містить як мінімум один засіб для поглинання вологи, який відрізняється тим, що виконаний із забезпеченням можливості утворення над верхніми зовнішніми поверхнями верхніх частин гніздових рамок зазору, розмір якого дорівнює відстані Лангстрота, додатково містить розташовані всередині знімні металеві листи, що утворюють обмежений простір для розташування бджолиного гнізда, при цьому вказані металеві листи...

Номер патенту: 14092

Опубліковано: 25.04.1997

Автор: Семенюк Валерій Федорович

МПК: C23C 14/34

Мітки: підкладок, плазмохімічної, обробки, спосіб

Формула / Реферат:

Способ плазмохимической обработки подло­жек, включающий воздействие на подложку хими­чески активных нейтральных частиц и потоков заряженных частиц, генерацию которых осущест­вляют в физически разделенных областях, отлича­ющийся тем, что, с целью увеличения скорости и повышения качества обработки, химически актив­ные нейтральные частицы направляют в радиаль­ном направлении в область приэлектродного слоя объемного заряда у обрабатываемой...

Номер патенту: 14091

Опубліковано: 25.04.1997

Автори: Трипута Геннадій Олександрович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: H01L 21/302

Мітки: іонно-плазмової, обробки, реактор

Формула / Реферат:

Реактор для ионно-плазменной обработки, содержащий вакуумную камеру, в которой соосно размещены разрядные электроды в виде кольца и диска с обрабатываемым изделием, подключенные к независимым источникам ВЧ-напряжения и раз­деленные промежуточным заземленным электро­дом, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности обработки и снижения загряз­нения поверхности изделия, он снабжен дополни­тельными электродами в виде диска,...

Номер патенту: 11181

Опубліковано: 25.12.1996

Автор: Семенюк Валерій Федорович

МПК: H01L 21/26

Мітки: спосіб, обробки, іонно-плазмової

Формула / Реферат:

Способ ионно-плазменной обработки, включающий воздействие на обрабатываемое изделие химически активными нейтральными и заряженными частицами, генерацию которых осуществляют в физически разделенных пространствах, отличающийся тем, что в пространстве генерации химически активных нейтральных частиц возбуждают электронную плазменную волну с частотой в области нижнегибридного резонанса и с продольной по отношению к магнитному полю фазовой...

Номер патенту: 10775

Опубліковано: 25.12.1996

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Осипов Леонід Семенович

МПК: C23C 14/00

Мітки: нанесення, здійснення, спосіб, вакуумно-дугового, пристрій, покриттів

Формула / Реферат:

1. Способ вакуумно-дугового нанесення по­крытий, включающий испарение электрически проводящих материалов при наличии аксиально-симметричного катода, воздействие на торцевую рабочую поверхность катода параллельного ей по­стоянного аксиально-симметричного магнитного поля, отличающийся тем, что на торцевую рабо­чую поверхность катода дополнительно воздейст­вуют ионным потоком с энергией, превышающей катодное падение потенциала, причем катод...

Номер патенту: 6722

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Хоменко Павло Хомич, Кругленко Михайло Петрович, Трипута Геннадій Олександрович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: C23C 14/32

Мітки: матеріалів, пристрій, травлення, іонно-плазмового

Формула / Реферат:

(57) Устройство для ионно-плазменного травления материалов, содержащее вакуумную камеру, у торцов которой по оси камеры размещены плоские электроды, на одном из которых размещено обрабатываемое изделие, электроды подключены к источникам высокочастотного напряжения и разделены заземленным сетчатым экраном, отличающееся тем, что оно снабжено электромагнитной катушкой, расположенной соосно с камерой со стороны электрода, противолежащего...

Номер патенту: 5642

Опубліковано: 28.12.1994

Автори: Семенюк Валерій Федорович, Трипута Геннадій Олександрович, Гурін Анатолій Андрійович, Хоменко Павло Хомич, Хоббіхожин Шаміль Абдурахмановіч

МПК: C23C 14/02, H01L 21/302

Мітки: обробки, іонно-плазмової, пристрій

Формула / Реферат:

(57) Устройство для ионно-плазменной обра­ботки, содержащее вакуумную камеру, в ко­торой размещены разрядные электроды, подключенные к двум независимым источ­никам ВЧ-напряжения и разделенные промежуточным заземленным электродом с от­верстием, при этом обрабатываемое изде­лие размещено на одном из разрядных электродов напротив отверстия промежу­точного электрода, отличающееся тем, что оно снабжено дополнительным элект­родом, размещенным на...

Номер патенту: 227

Опубліковано: 30.04.1993

Автор: Семенюк Валерій Федорович

МПК: H01L 21/26

Мітки: спосіб, плазмохімічної, обробки

Текст:

...В этом случае расходимость потоков сводится к минимуму, что обеспечивает их высокую направленность и интенсивность. На фиг. 1 представлен пример реализации способа, в котором разделяющее магнитное поле, создаваемое системой магнитов 1 из катушек индуктивности, используется также для интенсификации про 10-41 Р. со С о со VI ел 1637596 цесса генерации химически активных нейтральных радикалов в зоне 2; на фиг. 2 - то же, но разделяющее...

Номер патенту: 172

Опубліковано: 30.04.1993

Автори: Трипута Геннадій Олександрович, Семенюк Валерій Федорович

МПК: H01L 21/26

Мітки: спосіб, обробки, іонно-плазмової

Формула / Реферат:

1. Способ ионно - плазменной обработки в скрещен­ных ВЧ электрическом и постоянном магнитном полях, включающие удаление материала с обрабатываемого изделия под действием заряженных и нейтральных частиц плазмы в условиях замагниченности электродов wне/nен>1, где wне - электронная циклотронная часто­та для минимального значения индукции магнитного поля, neн - частота упругих столкновений электронов с нейтральными частицами.отличающиися тем,...