Полірувальна суміш

Полірувальний склад, що містить абразивний матеріал і змочувальну рідину, який відрізняється тим, що як змочувальну рідину він містить низькомолекулярний поліорганосилоксановий каучук типу СКТН-МЕД в'язкістю 7 пуаз, а як абразивний матеріал - високодисперсний двоокис кремнію в кількості 2-3мас %. (19) (21) a200608436 (22) 27.07.2006 (24) 10.08.2007 (46) 10.08.2007, Бюл. №12, 2007р. (72) Квітницька Валентина Захарівна, Козин Дмитро Миколайович, Ополонін Олександр Дмитрович, Рижиков Володимир Діомидович, Галкін Сергій Миколайович, Воронкін Євгеній Федорович (73) ІНСТИТУТ СЦИНТИЛЯЦІЙНИХ МАТЕРІАЛІВ НАН УКРАЇНИ 3 80070 елементами і відбивачем, поліпшуючи при цьому світлозбирання, отже і рентгеночутливість лінійок. Застосування полірувального складу дозволяє одержати поверхню кристалічної лінійки без подряпин, чорних крапок, порушення поверхневого шару за ра хунок дрібнодисперсності двоокису кремнію і в'язкого зв'язувального - типу СКТНМЕД, тому додаткової чистової обробки поверхні не потрібно. Зміст двоокису кремнію 2-3мас % і в'язкість СКТН-МЕД - 7 пуаз у полірувальному складі є оптимальним і обрано в процесі проведення експерименту. Зменшення вмісту двоокису кремнію приводить до погіршення якості оброблюваної поверхні, тому що поверхня залишається матовою, і для одержання полірованої поверхні потрібно значний час обробки, що є не доцільним. Збільшення умісту двоокису кремнію збільшує в'язкість полірувального складу, що може викликати руйн ування лінійки в процесі обробки. Приклад 1. Були вигото влені 16-ти елементні лінійки на основі Cs(Tl), розміром 25,5х4,0х4,0мм. Відстань між елементами 0,3мм заповнювали світловідбиваючим складом на основі епоксидної смоли і двоокису титана. Готували полірувальний склад, що містив 2,5мас % двоокису кремнію з розмірами часток 2040мкм (ДСТ 14922-77) і 97,5мас % каучуку СКТН МЕД в'язкістю 7 пуаз. Приготовленим складом були відполіровані 5 шт. кристалічних лінійок. Одночасно з цим були виготовлені 5шт. кристалічних лінійок на основі 4 CsI(Tl) того ж розміру для полірування складом відповідно до прототипу. Полірувальний склад містив як абразивний матеріал F230, з розміром зерна 63мкм, як полірувальну рідину - 90мас. % олігодеметілсилоксану ПМС-5 і 10мас. % олігодиетілсилоксану ПЭС-3. Приготовленим складом нам вдалося відполірувати 2 лінійки, в інших відбулося відшаровування відбивача від кристалічних елементів, що викликало руйнування лінійок. Після полірування поверхня 2х цілих лінійок була промита тетраетоксисиланом (ТЭОС). Полірування всіх лінійок робили на полірувальному верстаті типу Д-150 з перемінним числом обертів у залежності від використаного абразиву. Полірування закінчували при відсутності на полірувальній поверхні слідів обробки і відповідної шорсткості, не допускались відколи і тріщини на елементах лінійки. Контроль відполірованих лінійок проводили під мікроскопом типу МБС-9. Відполіровану поверхню отриманих лінійок оптично з'єднували з фоточутливою площинкою фотодіодів з використанням оптичної композиції на основі СКТН-МЕД і каталізатора К-68. Вимір рентгеночутливості модуля детекторів проводили з використанням вольтметра В7-35 і рентгенівського джерела ИРИ (Ua=100мв, Ia=1,0ма), при цьому проводили вимір рентгеночутливості кожного детектора (елемента лінійки) і визначали його середнє значення. Результати виміру рентгеночутливості модуля детекторів представлені у таблиці. Таблиця Рентгеночутливість (R) нА·хв/Р·см 2 Прототип Пропоноване технічне рішення 92,8 120,7 93,3 120,0 Брак 121,5 Брак 120,1 Брак 121,0 93,0 120,6 № 1 2 3 4 5 Середнє Як видно з таблиці, пропоноване технічне рішення дозволяє: - поліпшити рентгеночутливість модулів детекторів у середньому на 23%, Комп’ютерна в ерстка В. Клюкін - підвищити вихід працездатних модулів детекторів у середньому на 40%. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601